[實用新型]高像素大靶面大光圈超廣角光學系統及其應用的攝像模組

有效

• 申請號: 201721473388.2
• 申請日: 2017-11-08
• 公開（公告）號: CN207366819U
• 公開（公告）日: 2018-05-15
• 發明（設計）人: 汪鴻飛;劉振庭;陳波;尹小玲;符致農;劉佳俊;劉洪海
• 申請（專利權）人: 廣東弘景光電科技股份有限公司
• 主分類號: G02B13/00
• 分類號: G02B13/00;G02B13/06
• 代理公司: 中山市捷凱專利商標代理事務所(特殊普通合伙) 44327
• 代理人: 石仁

1.高像素大靶面大光圈超廣角光學系統，沿光軸從物面到像面依次設有：第一透鏡、第二透鏡、第三透鏡、第四透鏡、第五透鏡、以及第六透鏡；其特征在于，

第一透鏡的物面側為凸面，像面側為凹面，其光焦度為負；

第二透鏡的物面側為凸面，像面側為凹面，其光焦度為負；

第三透鏡的物面側為凸面，像面側為凹面，其光焦度為負；

第四透鏡的物面側為凸面，像面側為凸面，其光焦度為正；

第五透鏡的物面側為凸面，像面側為凸面，其光焦度為正；

第六透鏡的物面側為凹面，像面側為凸面，其光焦度為負；

且本光學系統的光學總長TTL滿足：20mm≤TTL≤28mm。

2.根據權利要求1所述的高像素大靶面大光圈超廣角光學系統，其特征在于，第五透鏡和第六透鏡相互膠合形成組合透鏡。

3.根據權利要求1所述的高像素大靶面大光圈超廣角光學系統，其特征在于，該光學系統的各透鏡滿足如下條件：

(1)-0.64<f/f1<-0.26；

(2)-0.25<f/f2<-0.05；

(3)-0.32<f/f3<-0.18；

(4)0.50<f/f4<1.21；

(5)0.51<f/f5<1.49；

(6)-0.85<f/f6<-0.38；

(7)Vd2-Vd4>30；

其中，f1為第一透鏡的焦距，f2為第二透鏡的焦距，f3為第三透鏡的焦距，f4為第四透鏡的焦距，f5為第五透鏡的焦距，f6為第六透鏡的焦距，f為整個光學系統的焦距，Vd2和Vd4分別是第二透鏡和第四透鏡的材料阿貝常數。

4.根據權利要求1所述的高像素大靶面大光圈超廣角光學系統，其特征在于，第一透鏡的焦距f1、材料折射率Nd1、材料阿貝常數Vd1滿足：-11.31mm<f1<-4.69mm，1.49<Nd1<1.70，50<Vd1<67。

5.根據權利要求1所述的高像素大靶面大光圈超廣角光學系統，其特征在于，第二透鏡的焦距f2、材料折射率Nd2、材料阿貝常數Vd2滿足：-60.04mm<f2<-11.82mm，1.45<Nd2<1.65，60<Vd2<91。

6.根據權利要求1所述的高像素大靶面大光圈超廣角光學系統，其特征在于，第三透鏡的焦距f3、材料折射率Nd3、材料阿貝常數Vd3滿足：-16.45mm<f3<-9.28mm，1.55<Nd3<1.85，23<Vd3<45。

7.根據權利要求1所述的高像素大靶面大光圈超廣角光學系統，其特征在于，第四透鏡的焦距f4、材料折射率Nd4、材料阿貝常數Vd4滿足：2.47mm<f4<6.02mm，1.80<Nd4<1.96，25<Vd4<50。

8.根據權利要求1所述的高像素大靶面大光圈超廣角光學系統，其特征在于，第五透鏡的焦距f5、材料折射率Nd5、材料阿貝常數Vd5滿足：2.01mm<f5<5.93mm，1.55<Nd5<1.76，45<Vd5<70。