[實用新型]溫控間距調整裝置及鍍膜設備有效
| 申請號: | 201721473281.8 | 申請日: | 2017-11-07 |
| 公開(公告)號: | CN207521203U | 公開(公告)日: | 2018-06-22 |
| 發明(設計)人: | 白金亮;李碩;于甄;常家華 | 申請(專利權)人: | 張家港康得新光電材料有限公司 |
| 主分類號: | B05B13/02 | 分類號: | B05B13/02;B05B15/00 |
| 代理公司: | 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 梁香美 |
| 地址: | 215000 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 噴頭 加熱補償 鼓面 間距調整裝置 鍍膜設備 加熱件 鍍膜 溫控 本實用新型 鍍膜均勻性 不均勻性 不一致性 參數控制 產品性能 大小一致 鍍膜過程 技術要求 兩端區域 中間區域 化學源 均勻性 輻射 加熱 變形 平整 申請 | ||
本實用新型公開了一種溫控間距調整裝置及鍍膜設備,包括工藝鼓以及設置在工藝鼓外側的噴頭,工藝鼓與噴頭之間安裝有用于對噴頭兩端加熱補償的加熱件。在鍍膜過程中,工藝鼓的中間區域向噴頭輻射的熱量較多,工藝鼓的兩端區域向噴頭輻射的熱量較少,噴頭會發生變形,噴頭的不同區域與工藝鼓的鼓面之間的間距具有不一致性,從而導致鍍膜的不均勻性,通過加熱件對噴頭兩端加熱補償,讓噴頭在整體上呈現平整態勢,被加熱補償后的噴頭的不同區域與工藝鼓的鼓面之間的間距大小一致,提高鍍膜的均勻性。本申請僅由加熱溫度一個參數控制間距大小,簡單可靠。根據不同技術要求調整工藝鼓的鼓面與噴頭之間的間距,可以提高化學源利用率和鍍膜均勻性,提高產品性能。
技術領域
本實用新型涉及鍍膜技術領域,特別涉及一種溫控間距調整裝置及鍍膜設備。
背景技術
鍍膜設備的噴頭與襯底薄膜之間的距離,一般通過固定螺絲扣或電機調整。
固定螺絲扣調節間距,設備簡單、成本低,但是生產成本非常高。拆卸螺絲和校準間距,重新組裝噴頭和工藝鼓全程預計耗時一周。
電機控制間距雖然簡易快捷,但是設備成本高,維護復雜。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種溫控間距調整裝置及鍍膜設備,以解決現有技術中存在的上述技術問題。
本實用新型提供的溫控間距調整裝置,包括工藝鼓以及設置在所述工藝鼓外側的噴頭,所述工藝鼓與所述噴頭之間安裝有用于對所述噴頭兩端加熱補償的加熱件。
進一步地,所述工藝鼓上對應所述噴頭兩端的位置安裝有加熱件,所述噴頭兩端分別安裝在所述加熱件上。
進一步地,所述加熱件滑動安裝在所述工藝鼓上,以調節所述噴頭與所述工藝鼓的鼓面之間的距離。
進一步地,所述噴頭為多個,多個所述噴頭圍繞所述工藝鼓的3/4鼓面設置。
進一步地,所述加熱件為電加熱件。
進一步地,所述噴頭的長度方向與所述工藝鼓的軸線方向一致。
進一步地,所述噴頭兩端的距離與所述工藝鼓兩端面的距離相同。
進一步地,所述工藝鼓為柱狀工藝鼓。
進一步地,所述電加熱件為鋁合金電加熱件。
本實用新型提供的溫控間距調整裝置,具有如下優點:
在鍍膜過程中,工藝鼓的中間區域向噴頭輻射的熱量較多,工藝鼓的兩端區域向噴頭輻射的熱量較少,噴頭會發生變形,即噴頭中間膨出工藝鼓的鼓面較多,噴頭兩端膨出較少,噴頭的不同區域與工藝鼓的鼓面之間的間距具有不一致性,從而導致鍍膜的不均勻性,通過加熱件對噴頭兩端加熱補償,讓噴頭在整體上呈現平整態勢,被加熱補償后的噴頭的不同區域與工藝鼓的鼓面之間的間距大小一致,提高鍍膜的均勻性。
本申請僅由加熱溫度一個參數控制間距大小,簡單可靠。
根據不同技術要求調整工藝鼓的鼓面與噴頭之間的間距,可以提高化學源利用率和鍍膜均勻性,提高產品性能。
另外,本實用新型還提供了一種鍍膜設備,包括上述溫控間距調整裝置。
采用上述溫控間距調整裝置的鍍膜設備,結構簡單、生產成本低、維護方便。
附圖說明
為了更清楚地說明本實用新型具體實施方式或現有技術中的技術方案,下面將對具體實施方式或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖是本實用新型的一些實施方式,對于本領域普通技術人員來講,在不付出創造性勞動的前提下,還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
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