[實用新型]可連續測溫的雙室真空爐有效
| 申請號: | 201721468218.5 | 申請日: | 2017-11-07 |
| 公開(公告)號: | CN207483800U | 公開(公告)日: | 2018-06-12 |
| 發明(設計)人: | 楊野 | 申請(專利權)人: | 大連愛信金屬制品有限公司 |
| 主分類號: | C21D11/00 | 分類號: | C21D11/00;C21D1/62;C21D1/773;C21D9/00 |
| 代理公司: | 大連格智知識產權代理有限公司 21238 | 代理人: | 林青 |
| 地址: | 116031 遼寧省大*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 插座 料盤 熱電偶插頭 雙室真空爐 支撐架體 連續測溫 導電柱 本實用新型 溫度記錄儀 熱處理 朝下設置 淬火過程 工件加熱 連接導線 料盤側壁 溫度監測 準確監測 插孔面 加熱室 冷卻室 淬火 插孔 朝上 爐體 加熱 穿過 保證 | ||
1.一種可連續測溫的雙室真空爐,包括爐體、加熱室、冷卻室、中間門、轉運車、熱電偶、溫度記錄儀、料盤,其特征在于在加熱室和冷卻室的料盤支撐架體上分別固定安裝插座,插座的插孔面朝上,插座的連接導線穿過爐體與爐外溫度記錄儀連接;料盤側壁或底面上固定安裝有熱電偶插頭,熱電偶插頭的導電柱朝下設置,料盤上熱電偶插頭的安裝位置與料盤支撐架體上插座的安裝位置相對應,料盤位于料盤支撐架體上,其熱電偶插頭的導電柱位于插座的插孔內。
2.根據權利要求1所述的一種可連續測溫的雙室真空爐,其特征在于插座的插孔面與料盤支撐架體的支撐面處于同一平面上或者低于料盤支撐架體的支撐面。
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