[實用新型]面膜結構有效
| 申請號： | 201721461881.2 | 申請日： | 2017-11-06 |
| 公開（公告）號： | CN208852041U | 公開（公告）日： | 2019-05-14 |
| 發明（設計）人： | 周旻升;周俊旭;謝昌衛 | 申請（專利權）人： | 森田生醫股份有限公司 |
| 主分類號： | A61K8/02 | 分類號： | A61K8/02;A61K8/88;A61Q19/00 |
| 代理公司： | 北京君尚知識產權代理事務所(普通合伙) 11200 | 代理人： | 余功勛 |
| 地址： | 中國臺灣彰化縣*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 敷料 附加層 基底層 面膜 大氣壓等離子體 本實用新型 活化處理 皮膚彈性 接合 敷料層 交聯劑 肌膚 滲入 停留 | ||
【權利要求書】：
1.一種面膜結構，其特征在于，包括：
表面經過大氣壓等離子體活化處理的基底層；
包含γ-PGA且通過交聯劑接合于所述基底層的附加層；以及
包含敷料的敷料層，位于所述附加層上，
其中，所述敷料還滲入位于所述基底層與所述附加層中。
2.根據權利要求1所述的面膜結構，其特征在于，所述基底層的厚度為0.2至0.5mm。
3.根據權利要求1所述的面膜結構，其特征在于，所述基底層的表面具有凹凸形狀。
4.根據權利要求3所述的面膜結構，其特征在于，所述附加層具有對應于所述基底層的凹凸形狀。
5.根據權利要求4所述的面膜結構，其特征在于，所述敷料位于所述基底層和所述附加層具有的凹凸形狀的凹部中。
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