[實用新型]多腔室晶圓處理設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201721449150.6
• 申請日: 2017-11-02
• 公開（公告）號: CN207338328U
• 公開（公告）日: 2018-05-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張大龍;欒劍鋒;劉家樺
• 申請（專利權(quán)）人: 德淮半導(dǎo)體有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 上海盈盛知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31294
• 代理人: 孫佳胤;董琳

一種多腔室晶圓處理設(shè)備，包括：傳送腔室、與所述傳送腔室連接的鎖定腔室，所述鎖定腔室與傳送腔室之間設(shè)置有閥門，其特征在于，包括：所述鎖定腔室與傳送腔室之間的閥門包括第一閥門和第二閥門，所述第一閥門位于鎖定腔室一側(cè)，所述第二閥門位于傳送腔室一側(cè)。所述多腔室晶圓處理設(shè)備在鎖定腔室進(jìn)行維護(hù)的過程中，不會影響傳送腔室的內(nèi)環(huán)境，不影響主腔室的利用，提高設(shè)備的生產(chǎn)率。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種多腔室晶圓處理設(shè)備。

背景技術(shù)

晶圓處理工藝實在一個多腔室的工藝系統(tǒng)內(nèi)進(jìn)行的，例如一個具有多個處理腔室的晶圓處理設(shè)備。

多腔室具有多腔室的晶圓處理設(shè)備包括多個處理腔室，例如沉積腔室、刻蝕腔室、退火腔室等，還包括一個或多個鎖定腔室，用來隔絕晶圓處理內(nèi)部的真空和外部大氣環(huán)境，作為晶圓從大氣環(huán)境進(jìn)入真空狀態(tài)的一個緩沖區(qū)間。各個處理腔室與負(fù)載鎖定室之間構(gòu)成一傳送腔，所述傳送腔內(nèi)設(shè)置機(jī)械臂，用于在各個腔室以及負(fù)載鎖定室之間傳送晶圓。

鎖定腔室靠近傳送區(qū)域的一端設(shè)置有真空閥門，作為負(fù)載鎖定室與傳送區(qū)域之間的隔離閥門。與當(dāng)其中一個或多個鎖定腔室處于維護(hù)狀態(tài)時，例如更換真空閥門或者清洗時，導(dǎo)致傳送腔無法維持真空狀態(tài)，且容易使得鎖定腔室內(nèi)的雜質(zhì)顆粒等進(jìn)入傳送腔或者處理腔室內(nèi)，導(dǎo)致顆粒問題。因此，即便晶圓處理設(shè)備具備兩個以上的鎖定腔室，但是只要當(dāng)其中一個鎖定腔室處于維護(hù)過程中，整個晶圓處理設(shè)備就不可以進(jìn)行正常工作，大大減少了機(jī)臺的產(chǎn)能，還容易使得傳送腔的顆粒問題風(fēng)險增加。

因此，需要對現(xiàn)有的多腔室晶圓處理設(shè)備進(jìn)行改進(jìn)，以提高機(jī)臺的生產(chǎn)量。

實用新型內(nèi)容

本實用新型所要解決的技術(shù)問題是，提供一種多腔室晶圓處理設(shè)備，以提高產(chǎn)量。

為了解決上述問題，本實用新型提供了一種多腔室晶圓處理設(shè)備，包括：傳送腔室、與所述傳送腔室連接的鎖定腔室，所述鎖定腔室與傳送腔室之間設(shè)置有閥門，所述鎖定腔室與傳送腔室之間的閥門包括第一閥門和第二閥門，所述第一閥門位于鎖定腔室一側(cè)，所述第二閥門位于傳送腔室一側(cè)。

可選的，所述鎖定腔室包括鎖定區(qū)域與密封隔間，所述密封隔間連接所述鎖定區(qū)域與傳送腔室，所述密封隔間具有殼體，所述殼體朝向所述鎖定區(qū)域與傳送腔室的兩個相對側(cè)壁均具有一間隙；所述第一閥門和第二閥門相對設(shè)置于所述密封隔間內(nèi)，所述第一閥門用于控制位于鎖定區(qū)域一側(cè)的間隙的開啟和關(guān)閉，所述第二閥門用于控制位于傳送腔室一側(cè)的間隙的開啟和關(guān)閉。

可選的，所述第一閥門連接至第一驅(qū)動裝置，所述第二閥門連接至第二驅(qū)動裝置，所述第一驅(qū)動裝置和第二驅(qū)動裝置用于分別驅(qū)動所述第一閥門和第二閥門運動。

可選的，還包括用于感應(yīng)所述第一驅(qū)動裝置和第二驅(qū)動裝置的感應(yīng)器。

可選的，所述第一閥門和第二閥門為翻板閥門，用于圍繞轉(zhuǎn)動軸進(jìn)行轉(zhuǎn)動以改變間隙的開啟和關(guān)閉狀態(tài)；所述第一閥門的開啟方向與第二閥門的開啟方向相反，所述第一閥門的關(guān)閉方向與第二閥門的關(guān)閉方向相反。

可選的，所述第一閥門和第二閥門為升降閥門，用于通過升降運動以改變間隙的開啟和關(guān)閉狀態(tài)。

可選的，所述第一閥門和第二閥門的尺寸形狀相同。

可選的，還包括兩個以上處理腔室，與所述傳送腔室連接。

本實用新型的多腔室晶圓處理設(shè)備的鎖定腔室與傳送腔室之間具有第一閥門和第二閥門，第一閥門位于鎖定腔室一側(cè)，所述第二閥門位于傳送腔室一側(cè)。在對鎖定腔室進(jìn)行維護(hù)過程中，可以將所述第二閥門關(guān)閉，從而不影響所述傳送腔室內(nèi)的環(huán)境，避免對傳送腔室造成污染等問題；從而多腔室晶圓處理設(shè)備在其他鎖定腔室能夠正常工作的情況下，能夠繼續(xù)對晶圓進(jìn)行處理，從而提高晶圓處理設(shè)備的生產(chǎn)率和主腔體的利用率。

附圖說明