[實用新型]場地修復藥劑配制系統有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721415400.4 | 申請日: | 2017-10-30 |
| 公開(公告)號: | CN208694879U | 公開(公告)日: | 2019-04-05 |
| 發(fā)明(設計)人: | 肖國俊;于李罡;羅明森;王文坦;謝鵬;尹鵬;雍正 | 申請(專利權)人: | 武漢都市環(huán)保工程技術股份有限公司 |
| 主分類號: | B01F13/02 | 分類號: | B01F13/02;B01F15/02 |
| 代理公司: | 北京匯澤知識產權代理有限公司 11228 | 代理人: | 張濤 |
| 地址: | 430205 湖北省武漢市*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 水槽 配藥 藥劑配制 溶液回流口 回流管道 溢流口 回流控制閥 配制系統 曝氣機構 修復藥劑 溢流水槽 進水口 溶解 本實用新型 進水控制閥 藥劑使用量 修復 進水總管 溢流管道 回流泵 控制閥 大塊 溢流 沉淀 連通 配合 保證 | ||
本實用新型提供了場地修復藥劑配制系統,包括至少三個藥劑配制桶,配藥水槽和溢流水槽,藥劑配制桶上設有進水口、溶液溢流口和溶液回流口,進水口通過進水控制閥連接進水總管,溶液溢流口通過溢流管道連接配藥水槽,溶液溢流口處設有溢流控制閥一,溶液回流口通過回流管道與配藥水槽和溢流水槽均連通,溶液回流口處設有回流控制閥一,回流管道上設有回流泵,回流管道靠近配藥水槽一端設有回流控制閥二,配藥水槽內設有曝氣機構。該系統通過多個藥劑配制桶和配藥水槽配合工作,滿足修復過程中龐大的藥劑使用量需求,同時采用曝氣機構對藥劑進行溶解,藥劑不易形成大塊沉淀,溶解效率高,且多個藥劑配制桶之間形成流水作業(yè),保證修復過程的連續(xù)性。
技術領域
本實用新型屬于環(huán)境保護設備技術領域,具體涉及一種場地修復藥劑配制系統。
背景技術
隨著我國工業(yè)化的快速發(fā)展,大量有毒有害物質滲入土壤和地下水中,土壤和地下水污染的場地修復迫在眉睫。治理土壤和地下水污染通常需要向土壤或地下水中投加修復藥劑,投加藥劑的形式分為固態(tài)和液態(tài),目前常用的藥劑除過氧化氫試劑為液態(tài)外基本都為固態(tài),而在土壤修復過程中直接投加固體藥劑后還需要補充水分,藥劑的利用率不高且增加了修復工序;在地下水修復過程中基本以使用液態(tài)藥劑為主,因此大量土壤及地下水修復過程中需要將固體藥劑配制成溶液后再投加。
目前,常見的藥劑配制系統是采用水處理行業(yè)的藥劑配制系統,即采用藥劑桶配攪拌電機進行攪拌的形式配制,然而這種傳統藥劑配制系統在土壤及地下水修復工程應用中存在如下問題:
(1)由于污染情況及工期要求等原因,土壤及地下水修復過程的藥劑使用量特別大,因此配備的藥劑配制系統體積龐大,與之適配的攪拌機功率也相應較大,藥劑配制設備需要的空間較大,且藥劑量增大后容易出現攪拌不均勻、藥劑結塊沉淀、溶解不完全等情況。
(2)由于大部分土壤和地下水修復過程中使用的藥劑需要連續(xù)供應,因此需要至少配備兩套藥劑配制系統交替使用,且藥劑配制的效率需要大于藥劑的使用效率,對于藥劑配制系統運行穩(wěn)定性要求較高。
實用新型內容
本實用新型的目的是克服現有藥劑配制系統易出現攪拌不均勻、藥劑結塊沉淀、溶解不完全,且對系統運行穩(wěn)定性要求高的問題。
為此,本實用新型提供了一種場地修復藥劑配制系統,包括至少三個藥劑配制桶,配藥水槽和溢流水槽,所述配藥水槽和溢流水槽通過溢流口連通,每個所述藥劑配制桶的頂部設置有進水口,所述進水口通過進水控制閥連接進水總管,每個所述藥劑配制桶的上部設置有溶液溢流口,所述溶液溢流口通過溢流管道連接配藥水槽,溶液溢流口處設置有溢流控制閥一,每個所述藥劑配制桶的底部設置有溶液回流口,所述溶液回流口通過回流管道與配藥水槽和溢流水槽均連通,溶液回流口處設置有回流控制閥一,所述回流管道上設置有回流泵,所述回流管道靠近配藥水槽一端設置有回流控制閥二,所述配藥水槽內設置有曝氣機構。
進一步的,每個所述藥劑配制桶底部均設置有溶液輸送口,所述溶液輸送口連接溶液輸送管道,溶液輸送管道上設置有溶液輸送泵,所述溶液輸送口處設置有輸出控制閥。
進一步的,所述溶液輸送泵的過流材質為鑄鐵內襯聚四氟乙烯或304不銹鋼,溶液輸送泵的壓力為0.1~30MPa,溶液輸送泵的流量為10~1000L/min。
進一步的,所述溢流管道上靠近配藥水槽一端設置有溢流控制閥二,所述回流管道上靠近溢流水槽一端設置有回流控制閥三。
進一步的,每個所述藥劑配制桶內設置有液位報警器。
進一步的,所述藥劑配制桶的體積為0.5~50m3。
進一步的,所述配藥水槽的體積為1~10m3,溢流水槽的體積為1~10m3;所述配藥水槽和溢流水槽均為地上式、半地上式或地下式。
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