[實用新型]一種循環水加熱裝置有效
| 申請號: | 201721404020.0 | 申請日: | 2017-10-27 |
| 公開(公告)號: | CN207367934U | 公開(公告)日: | 2018-05-15 |
| 發明(設計)人: | 張懷宣 | 申請(專利權)人: | 上海眾鴻電子科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 上海碩力知識產權代理事務所(普通合伙) 31251 | 代理人: | 郭桂峰 |
| 地址: | 201315 上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 循環 加熱 裝置 | ||
本實用新型公開了一種循環水加熱裝置,用于為循環水加熱,包括:水箱,其上設有進水口和出水口以傳導循環水,并且所述水箱為平板狀,兩塊導熱板,分別貼合在所述水箱相對的端面上,并且所述導熱板在臨近所述水箱一側設有特氟龍鍍層;若干個制冷片,貼合在所述導熱板的表面,所述制冷片與所述特氟龍鍍層位于所述導熱板的異側,冷卻板,貼合在所述制冷片的外側。所述制冷片以矩形形狀排布在所述導熱板的表面。鍍上去的特氟龍層相比貼合的特氟龍膜不會起泡,可以解決氣泡導致無法有效加熱的問題。將水箱設計為平板狀,適合導熱板與其充分接觸以傳導熱量。
技術領域
本實用新型涉及半導體制造工藝,尤其指一種循環水加熱裝置。
背景技術
目前,在半導體制作工藝當中,由于工藝需要,通常需要為加工晶圓的腔室提供穩定的高溫環境,現有技術中一般使用循環水系統向腔室中持續通入高溫水分以維持溫度,需提供一種可以穩定為循環水加熱的循環水加熱裝置。
實用新型內容
本實用新型的目的是提供一種循環水加熱裝置,可以穩定的為循壞水加熱。
本實用新型提供的技術方案如下:一種循環水加熱裝置,用于為循環水加熱,包括:
水箱,其上設有進水口和出水口以傳導循環水,并且所述水箱為平板狀,
兩塊導熱板,分別貼合在所述水箱相對的端面上,并且所述導熱板在臨近所述水箱一側設有特氟龍鍍層;
若干個制冷片,貼合在所述導熱板的表面,所述制冷片與所述導熱板位于所述導熱板的異側,
冷卻板,貼合在所述制冷片的外側。
本技術方案,導熱板通過特氟龍鍍層接觸水箱,鍍上去的特氟龍層相比貼合的特氟龍膜不會起泡,可以解決氣泡導致無法有效加熱的問題。將水箱設計為平板狀,適合導熱板與其充分接觸以傳導熱量。多個制冷片通過貼合在導熱板完成加熱功能,可以使得多個制冷片同時作用,加快傳熱速率。
優選的,所述制冷片以矩形形狀排布在所述導熱板的表面。
具體的,所述制冷片通過導熱硅膠粘結在所述導熱板和/或所述冷卻板上。
具體的,所述導熱板與所述水箱通過螺紋連接件緊固。
本實用新型提供的一種循環水加熱裝置,能夠帶來以下至少一種有益效果:
1、鍍上去的特氟龍層相比貼合的特氟龍膜不會起泡,可以解決氣泡導致無法有效加熱的問題。
2、將水箱設計為平板狀,適合導熱板與其充分接觸以傳導熱量。
3、多個制冷片通過貼合在導熱板完成加熱功能,可以使得多個制冷片同時作用,加快傳熱速率。
附圖說明
下面將以明確易懂的方式,結合附圖說明優選實施方式,對循環水加熱系統的上述特性、技術特征、優點及其實現方式予以進一步說明。
圖1是循壞水加熱裝置的立體結構爆炸圖。
附圖標號說明:1、水箱,2、特氟龍鍍層,3、導熱板,4、制冷片,5、冷卻板。
具體實施方式
為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案,下面將對照附圖說明本實用新型的具體實施方式。顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例,對于本領域普通技術人員來講,在不付出創造性勞動的前提下,還可以根據這些附圖獲得其他的附圖,并獲得其他的實施方式。
為使圖面簡潔,各圖中的只示意性地表示出了與本實用新型相關的部分,它們并不代表其作為產品的實際結構。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





