[實用新型]射電望遠鏡面形測量系統有效
| 申請號: | 201721388759.7 | 申請日: | 2017-10-23 |
| 公開(公告)號: | CN207456402U | 公開(公告)日: | 2018-06-05 |
| 發明(設計)人: | 項斌斌;盧曉昀;林上民;王娜;陳卯蒸;王虎;薛飛;閆浩;李建 | 申請(專利權)人: | 中國科學院新疆天文臺 |
| 主分類號: | G01B11/24 | 分類號: | G01B11/24 |
| 代理公司: | 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 宋南 |
| 地址: | 830000 新疆維吾爾*** | 國省代碼: | 新疆;65 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 合作目標 射電望遠鏡 相機組 面形測量 反射 本實用新型 主反射面 標志點 靶標 終端設備連接 系統設計 相機陣列 異常特征 終端設備 大口徑 徑向線 拋物面 饋源 面形 相機 | ||
本實用新型提供一種射電望遠鏡面形測量系統,包括終端設備、多個合作目標、多個靶標標志點以及由多個相機組構成的相機陣列,相機組包括至少兩個相機,多個合作目標包括用于第一合作目標組和第二合作目標組;多個相機組分別與終端設備連接,且多個相機組分別設置于射電望遠鏡的副反射面的邊緣,且朝向其主反射面,第一合作目標組中的各合作目標分別設置于射電望遠鏡的主反射面的多條徑向線或多條周向線的交叉點以用于表征該主反射面的面形,第二合作目標組中的各合作目標設置于主反射面用于表征密度異常特征,多個靶標標志點分別設置于射電望遠鏡的饋源處。本實用新型通過巧妙的系統設計,能夠便捷地實現大口徑拋物面射電望遠鏡的面形測量。
技術領域
本實用新型涉及望遠鏡面形檢測技術領域,具體而言,涉及一種射電望遠鏡面形測量系統。
背景技術
射電望遠鏡天線的反射面面形精度直接影響天線的方向圖、增益與口面效率等,因此天線的主反射面面形測量對于建設大口徑天文望遠鏡,保證望遠鏡性能有著重要的意義,因此,如何實現一種測量范圍大、測量精度高、測量速度快且測量結構簡單的測量系統進行大型拋物面射電望遠鏡主反射面的面形測量成為本領域技術人員急需解決的技術問題。
實用新型內容
有鑒于此,本實用新型提供了射電望遠鏡面形測量系統,能夠有效解決上述問題。
為實現上述目的,本實用新型提供如下技術方案:
本實用新型實施例提供一種射電望遠鏡面形測量系統,包括終端設備、多個合作目標、多個靶標標志點以及由多個相機組構成的相機陣列,所述相機組包括至少兩個相機,所述多個合作目標包括用于第一合作目標組和第二合作目標組;
多個所述相機組分別與所述終端設備連接,且多個相機組分別設置于所述射電望遠鏡的副反射面的邊緣,且朝向其主反射面,所述第一合作目標組中的各合作目標分別設置于所述射電望遠鏡的主反射面的多條徑向線或多條周向線的交叉點以用于表征該主反射面的面形,所述第二合作目標組中的各合作目標設置于所述主反射面用于表征密度異常特征,所述多個靶標標志點分別設置于所述射電望遠鏡的饋源處,其中,所述饋源位于所述主反射面的中心,所述副反射面設置于所述饋源的正上方。
在本實用新型較佳實施例的選擇中,所述饋源包括第一圓臺和設置于該第一圓臺中心的第二圓臺,所述多個靶標標志點包括第一靶標標志組和第二靶標標志組;
所述第一靶標標志組中的各靶標標志點均勻分布于所述第二圓臺遠離所述第一圓臺的一側,所述第二靶標標志組中的各靶標標志點均勻分布于所述第一圓臺靠近所述第二圓臺且未被第二圓臺覆蓋的區域。
在本實用新型較佳實施例的選擇中,位于所述第一圓臺上的各靶標標志點與位于所述第二圓臺上的各靶標標志點一一對應。
在本實用新型較佳實施例的選擇中,位于所述第一圓臺上的靶標標志點與位于所述第二圓臺對應位置處的靶標標志點之間的距離大于500mm。
在本實用新型較佳實施例的選擇中,各所述相機組分別包括兩個內圈相機和兩個外圈相機,且各相鄰相機組中對應位置處的內圈相機構成內圈雙目子系統,各相鄰相機組中對應位置處的外圈相機構成外圈雙目子系統,且該內圈雙目子系統與外圈雙目子系統的視場具有重疊區域。
在本實用新型較佳實施例的選擇中,延所述主反射面的多條徑向線和多條周向線將該主反射面劃分為多個面板,所述第一合作目標中的各合作目標分別位于各所述面板的四個角,所述第二合作目標點中的各合作目標分別位于所述內圈雙目子系統與外圈雙目子系統的視場的重疊區域中的面板的邊緣處。
在本實用新型較佳實施例的選擇中,位于相鄰內圈雙目子系統與外圈雙目子系統的視場的重疊區域中的合作目標為至少3個。
在本實用新型較佳實施例的選擇中,多條所述周向線或多條所述徑向線為等間隔劃分,且各周向線或徑向線上的多個合作目標為等間隔設置,不同周向線或徑向線上的各合作目標的位置對應。
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