[實用新型]用于反應式等離子體沉積工藝腔的工藝壓力控制系統

有效

• 申請號: 201721388340.1
• 申請日: 2017-10-25
• 公開（公告）號: CN207276711U
• 公開（公告）日: 2018-04-27
• 發明（設計）人: 馬崢
• 申請（專利權）人: 君泰創新（北京）科技有限公司
• 主分類號: C23C16/52
• 分類號: C23C16/52;C23C16/513
• 代理公司: 北京維澳專利代理有限公司11252
• 代理人: 趙景平,張春雨

1.一種用于反應式等離子體沉積工藝腔的工藝壓力控制系統，包括工藝腔、所述工藝腔上的陰極管以及與所述工藝腔的抽氣端連接的抽真空裝置，其特征在于，還包括：

控制器，以及分別與所述控制器電連接的壓力傳感器、第一電控流量計、第二電控流量計和第三電控流量計；

所述壓力傳感器安裝在所述工藝腔上，用于檢測所述工藝腔內的氣壓；

離化氣體經由所述第一電控流量計通入到所述陰極管內；

壓力調節氣體經由所述第二電控流量計通入到所述工藝腔內；

反應氣體經由所述第三電控流量計通入到所述工藝腔內。

2.根據權利要求1所述的工藝壓力控制系統，其特征在于，所述電控流量計為質量流量計。

3.根據權利要求1所述的工藝壓力控制系統，其特征在于，所述離化氣體為氬氣。

4.根據權利要求3所述的工藝壓力控制系統，其特征在于，所述反應氣體為氧氣。

5.根據權利要求1所述的工藝壓力控制系統，其特征在于，所述壓力調節氣體為惰性氣體。

6.根據權利要求5所述的工藝壓力控制系統，其特征在于，所述惰性氣體為氬氣或氮氣。

7.根據權利要求1所述的工藝壓力控制系統，其特征在于，所述工藝壓力控制系統還包括：第一閥門、第二閥門以及第三閥門；

所述第一電控流量計與所述陰極管的一端連接；

所述第二電控流量計通過所述第二閥門與所述工藝腔的第一進氣接口連接；

所述第三電控流量計通過所述第三閥門與所述工藝腔的第二進氣接口連接。

8.根據權利要求7所述的工藝壓力控制系統，其特征在于，所述第一進氣接口和所述第二進氣接口均位于所述陰極管的下方。

9.根據權利要求1～8任一項所述的工藝壓力控制系統，其特征在于，所述陰極管為空心鉭管。

10.根據權利要求1～8任一項所述的工藝壓力控制系統，其特征在于，所述抽真空裝置還包括分子泵、前級泵以及閥組。