[實用新型]一種使用均勻相位掩模板制作啁啾光柵的裝置有效
| 申請號： | 201721384604.6 | 申請日： | 2017-10-24 |
| 公開（公告）號： | CN207586458U | 公開（公告）日： | 2018-07-06 |
| 發明（設計）人： | 戴立偉;趙云飛 | 申請（專利權）人： | 武漢銳科光纖激光技術股份有限公司 |
| 主分類號： | G02B5/18 | 分類號： | G02B5/18;G03F7/20 |
| 代理公司： | 武漢開元知識產權代理有限公司 42104 | 代理人： | 唐正玉 |
| 地址： | 430074 湖北省武漢*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 均勻相位 掩模板 光敏光纖 本實用新型 線性變化 衰減片 精密調節架 啁啾光柵 光纖夾 線性衰減片 材料成本 均勻變化 明暗相間 平臺搭建 光柵 調節架 鏡片夾 條紋 光強 制作 平行 采購 | ||
【權利要求書】：
1.一種使用均勻相位掩模板制作啁啾光柵的裝置，包括一套線性變化的衰減片(102)、一個均勻相位掩模板Uniform Mask(103)、一個鏡片夾持調節架(104)、一個光纖夾持精密調節架，其特征在于：一套線性變化的衰減片(102)和一個Uniform Mask(103)分別固定在一個鏡片夾持調節架(104)上，且線性變化的衰減片(102)與Uniform Mask(103)平行，光敏光纖(101)固定在光纖夾持精密調節架，且光敏光纖(101)與Uniform Mask之間形成一定夾角。
2.根據權利要求1所述的使用均勻相位掩模板制作啁啾光柵的裝置，其特征在于：所述的光纖夾持精密調節架能精準調節光敏光纖與Uniform Mask之間的夾角，并準確讀出角度值。
3.根據權利要求1所述的使用均勻相位掩模板制作啁啾光柵的裝置，其特征在于：所述的一套線性變化的衰減片，所有衰減片的出射面和入射面均鍍紫外增透膜，不同衰減片的線性變化速度是不同的。
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