[實用新型]自動測方阻設備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721373722.7 | 申請日: | 2017-10-23 |
| 公開(公告)號: | CN207517646U | 公開(公告)日: | 2018-06-19 |
| 發(fā)明(設計)人: | 袁華斌 | 申請(專利權(quán))人: | 常州億晶光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/66 | 分類號: | H01L21/66 |
| 代理公司: | 常州市英諾創(chuàng)信專利代理事務所(普通合伙) 32258 | 代理人: | 鄭云 |
| 地址: | 213000 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 硅片 方阻 緩存區(qū) 花籃 硅片輸送 校正區(qū) 下片 裝滿 本實用新型 自動化測試 測試 標準對比 標準上限 標準下限 測試效率 硅片放置 批量檢測 測試區(qū) 上料區(qū) 下料區(qū) 分出 劃傷 片區(qū) 破片 取片 上片 校正 卸下 污染 | ||
1.一種自動測方阻設備,其特征在于:包括上料部分、測試部分、下料部分和控制部分,所述上料部分包括上料區(qū)(1)、下片區(qū)(2)、第一緩存區(qū)(3)和校正區(qū)(4),所述測試部分包括測試區(qū)(5),所述下料部分包括第二緩存區(qū)(6)、分片區(qū)(7)、上片區(qū)(8)和下料區(qū)(9),所述上料區(qū)(1)、下片區(qū)(2)、第一緩存區(qū)(3)、校正區(qū)(4)、測試區(qū)(5)、第二緩存區(qū)(6)、分片區(qū)(7)、上片區(qū)(8)和下料區(qū)(9)呈流水線依次設置,所述控制部分分別控制上料區(qū)(1)、下片區(qū)(2)、第一緩存區(qū)(3)、校正區(qū)(4)、測試區(qū)(5)、第二緩存區(qū)(6)、分片區(qū)(7)、上片區(qū)(8)和下料區(qū)(9)。
2.如權(quán)利要求1所述的自動測方阻設備,其特征在于:所述上料區(qū)(1)包括傳輸裝置,兩組所述傳輸裝置上下間隔設置,所述傳輸裝置的右側(cè)固定安裝有右光電傳感器,所述右光電傳感器與所述控制部分電連接。
3.如權(quán)利要求1所述的自動測方阻設備,其特征在于:所述下片區(qū)(2)包括下片裝置、夾緊裝置和輸送裝置,所述下片裝置包括聯(lián)動裝置和固定臺(2-1),所述聯(lián)動裝置驅(qū)動所述固定臺(2-1)實現(xiàn)升降,所述夾緊裝置固定安裝在所述固定臺(2-1)的上方,所述輸送裝置包括傳輸裝置和活動運輸裝置,所述傳輸裝置固定安裝在所述固定臺(2-1)上,并位于所述夾緊裝置的正下方,所述活動運輸裝置位于夾緊裝置與傳輸裝置之間。
4.如權(quán)利要求1所述的自動測方阻設備,其特征在于:所述第一緩存區(qū)(3)和第二緩存區(qū)(6)均包括聯(lián)動裝置、傳輸裝置和儲物籃,所述儲物籃罩設所述傳輸裝置,所述聯(lián)動裝置驅(qū)動所述儲物籃實現(xiàn)升降。
5.如權(quán)利要求4所述的自動測方阻設備,其特征在于:所述儲物籃包括卡板(3-1),兩個所述卡板(3-1)平行且間隔設置,所述傳輸裝置位于兩個所述卡板(3-1)之間,所述卡板(3-1)上開設有若干緩存槽(3-2),兩個所述卡板(3-1)上的緩存槽(3-2)一一對應設置,所述卡板(3-1)上固定安裝有左、右光電傳感器,所述左、右光電傳感器分別位于緩存槽(3-2)的兩端。
6.如權(quán)利要求1所述的自動測方阻設備,其特征在于:所述校正區(qū)(4)包括傳輸裝置、左、右光電傳感器和校準裝置,所述校準裝置包括呈排排列的滑輪組(4-1)和驅(qū)動裝置,兩組所述滑輪組(4-1)分別位于傳輸裝置的兩側(cè),并與所述傳輸裝置平行設置,所述滑輪組(4-1)由驅(qū)動裝置驅(qū)動靠近或遠離傳輸裝置,所述左、右光電傳感器分別位于傳輸裝置的兩端。
7.如權(quán)利要求2所述的自動測方阻設備,其特征在于:所述測試區(qū)(5)包括傳輸裝置、測試平臺(5-1)、測試四探針面板和升降裝置,所述測試四探針面板固定安裝在所述測試平臺(5-1)上,所述測試平臺(5-1)位于所述傳輸裝置的正上方,所述升降裝置位于所述傳輸裝置的正下方,所述升降裝置上固定安裝有用于放置硅片的載物臺(5-2),所述升降裝置驅(qū)動載物臺(5-2)上的硅片靠近或遠離測試平臺(5-1),所述測試區(qū)(5)的左、右兩側(cè)分別固定安裝有左、右光電傳感器,所述左、右光電傳感器均與所述控制部分電連接。
8.如權(quán)利要求2所述的自動測方阻設備,其特征在于:所述分片區(qū)(7)包括傳輸裝置和運動裝置,所述傳輸裝置的左側(cè)固定安裝有左光電傳感器,所述左光電傳感器與所述控制部分電連接,所述運動裝置包括聯(lián)動裝置、升降裝置和吸盤(7-1),所述聯(lián)動裝置位于所述傳輸裝置的正上方,用于驅(qū)動升降裝置向傳輸裝置的前方或后方移動,所述升降裝置滑動安裝在所述聯(lián)動裝置上,所述吸盤(7-1)固定安裝在所述升降裝置上。
9.如權(quán)利要求3所述的自動測方阻設備,其特征在于:所述上片區(qū)(8)包括上片裝置、夾緊裝置和輸送裝置,所述上片裝置包括聯(lián)動裝置和固定臺(2-1),所述聯(lián)動裝置驅(qū)動所述固定臺(2-1)實現(xiàn)升降,所述夾緊裝置固定安裝在所述固定臺(2-1)的上方,所述輸送裝置包括傳輸裝置和活動運輸裝置,所述傳輸裝置固定安裝在所述固定臺(2-1)上,并位于所述夾緊裝置的正下方,所述活動運輸裝置位于夾緊裝置與傳輸裝置之間。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





