[實用新型]一種酸性槽液離子控制設備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721372911.2 | 申請日： | 2017-10-24 |
| 公開（公告）號： | CN207463187U | 公開（公告）日： | 2018-06-08 |
| 發(fā)明（設計）人： | 傅利平;焦艷超 | 申請（專利權(quán)）人： | 上海釜強智能科技有限公司 |
| 主分類號： | B01J4/02 | 分類號： | B01J4/02 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 201899 上海市嘉定區(qū)*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 液盤 裝液 離子溶液 滑動 噴孔 本實用新型 離子控制 酸性槽液 噴液板 酸性液 鎖緊圈 封板 封盤 滾齒 滑槽 滑柱 擋板 電機帶動 構(gòu)件連接 設備操作 滾動槽 離子液 內(nèi)旋轉(zhuǎn) 旋轉(zhuǎn)式 槽倉 封堵 甩盤 通液 液槽 電機 靈活 保證 | ||
1.一種酸性槽液離子控制設備，包括離子液甩盤（2）、酸性液槽（4）、滾動槽（1）和第一滑槽（3），其特征在于：所述酸性液槽（4）設置在離子液甩盤（2）下方，且所述離子液甩盤（2）兩端均卡接到滾動槽（1）內(nèi)部，所述第一滑槽（3）平行設置在所述滾動槽（1）一側(cè)，且所述酸性液槽（4）兩側(cè)均縱向設置有擋板（5）；
所述離子液甩盤（2）中部安裝有裝液倉（11），且所述裝液倉（11）兩端均安裝有電機（9），所述裝液倉（11）外圈貫穿有若干個出液盤（12），所述電機（9）外圈卡接有旋滾齒圈（10），且所述旋滾齒圈（10）上套接有套裝圈（8）；
所述套裝圈（8）外圈固定連接有第一滑柱（6），且所述第一滑柱（6）上旋接有第一鎖緊圈（7）。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種酸性槽液離子控制設備，其特征在于：所述旋滾齒圈（10）外圈直徑與套裝圈（8）內(nèi)圈直徑大小相匹配，且所述第一滑柱（6）貫穿第一滑槽（3）。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種酸性槽液離子控制設備，其特征在于：所述出液盤（12）上設置有通液倉（13），且所述通液倉（13）一端卡接有噴液板（14），所述噴液板（14）一側(cè)平行設置有滑動封盤（15）。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種酸性槽液離子控制設備，其特征在于：所述噴液板（14）上設置有若干個甩噴孔（17），且若干個甩噴孔（17）呈等間距分布。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的一種酸性槽液離子控制設備，其特征在于：所述裝液倉（11）、出液盤（12）、通液倉（13）和噴液板（14）內(nèi)部之間相互連通。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種酸性槽液離子控制設備，其特征在于：所述滑動封盤（15）上設置有封板（18），且所述封板（18）上方固定連接有第二滑柱（19），所述第二滑柱（19）上旋接有第二鎖緊圈（20）。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種酸性槽液離子控制設備，其特征在于：所述封板（18）與噴液板（14）寬度大小相匹配。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種酸性槽液離子控制設備，其特征在于：所述酸性液槽（4）內(nèi)部設置有槽倉（21）。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海釜強智能科技有限公司，未經(jīng)上海釜強智能科技有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201721372911.2/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
