[實用新型]一種半透防水耐久復合布有效
| 申請號: | 201721360812.2 | 申請日: | 2017-10-21 |
| 公開(公告)號: | CN207388431U | 公開(公告)日: | 2018-05-22 |
| 發明(設計)人: | 王洪良 | 申請(專利權)人: | 海寧富興復合新材料有限公司 |
| 主分類號: | B32B3/24 | 分類號: | B32B3/24;B32B33/00;B32B27/34;B32B27/12;B32B15/02;B32B15/04 |
| 代理公司: | 嘉興永航專利代理事務所(普通合伙) 33265 | 代理人: | 侯蘭玉 |
| 地址: | 314400 浙江省嘉興*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 防水 耐久 復合布 | ||
一種半透防水耐久復合布,包括面料本體,所述面料本體上表面從下至上依次設置有高彈層、抗靜電層、耐磨層和抗菌層,所述面料本體由尼龍紡織而成,所述高彈層采用藍晶莫代爾纖維編織成形,所述的防靜電層在高彈層表面浸漬抗靜電劑粘覆成型,所述面料本體的內表面設置有納米遠紅外保暖織物層,所述面料本體與納米遠紅外保暖織物層之間設置有防水層,高彈層、抗靜電層、耐磨層、抗菌層、納米遠紅外保暖織物層和防水層的設計使得面料本體性能更加多樣化。
技術領域
本實用新型涉及衣服面料技術領域,尤其是涉及一種半透防水耐久復合布。
背景技術
服裝是人們日常生活中必備的生活用品,隨著人們生活水平的不斷提高,人們對于服裝的材質、性能以及舒適度有了很大的要求,我國滌綸產業的大規模工業化,起步于上世紀80 年代初,發展壯大于上世紀90 年代中期,目前,我國已成為滌綸生產、消費第一大國。在如此龐大的規模下,找準產品開發應用、產業升級的方向非常重要。傳統的運動面料,結構十分簡單,性能十分單一,由于是在戶外使用,為了保證面料的使用壽命,對面料的耐磨性能要求也十分高;在進行戶外運動時,會遇到各種各樣的天氣狀況,為了應對復雜多變的天氣情況,布料的防水性能也十分重要,并且,如果是在冬天或者其他寒冷的條件下運動時,布料的透氣保暖性能也是十分重要,本實用新型針對以上問題提出了一種新的解決方案。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種半透防水耐久復合布,其具有結構牢固,舒適度高和防水性能好的特點。
為解決上述技術問題,本實用新型提供一種半透防水耐久復合布,包括面料本體,所述面料本體上表面從下至上依次設置有高彈層、抗靜電層、耐磨層和抗菌層,所述面料本體由尼龍紡織而成,所述高彈層采用藍晶莫代爾纖維編織成形,所述的防靜電層在高彈層表面浸漬抗靜電劑粘覆成型,所述面料本體的內表面設置有納米遠紅外保暖織物層,所述面料本體與納米遠紅外保暖織物層之間設置有防水層,所述高彈層、抗靜電層、耐磨層和抗菌層上設置均勻分布的外側透氣孔,所述納米遠紅外保暖織物層和防水層設置均勻分布的內側透氣孔,所述外側透氣孔和內側透氣孔錯位設置,所述抗菌層由納米銀纖維紡織而成。
為了更好的使用外側透氣孔和內側透氣孔,本實用新型改進有,所述外側透氣孔和內側透氣孔為倒U或倒V形通孔。
為了更好的使用耐磨層,本實用新型改進有,所述耐磨層包括納米A1
為了更好的使用防水層,本實用新型改進有,所述防水層包括彈性丙烯酸酯共聚乳液防水涂料層。
為了更好的使用納米遠紅外保暖織物層,本實用新型改進有,所述納米遠紅外保暖織物層的厚度為1mm。
本實用新型的有益效果為:本實用新型設計新穎,結構合理,使得人們在穿戴時更加舒適,高彈層、抗靜電層、耐磨層、抗菌層、納米遠紅外保暖織物層和防水層的設計使得面料本體性能更加多樣化,有效的解決了現有技術中人們在運動過程中,衣服過緊,無彈性的情況,方便了人們的使用。
附圖說明
附圖1為本實用新型的整體結構示意圖;
附圖2為本實用新型外側透氣孔的結構示意圖;
附圖3為本實用新型內側透氣孔的結構示意圖;
標號說明:1-面料本體;2-高彈層;3-抗靜電層;4-耐磨層;5-抗菌層;6-納米遠紅外保暖織物層;7-防水層;8-外側透氣孔;9-內側透氣孔。
具體實施方式
為詳細說明本實用新型的技術內容、構造特征、所實現目的及效果,以下結合實施方式并配合附圖詳予說明。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于海寧富興復合新材料有限公司,未經海寧富興復合新材料有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201721360812.2/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種便于清洗的LED燈
- 下一篇:一種吸嘴裝置
- 同類專利
- 專利分類





