[實(shí)用新型]一種偏振調(diào)制器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201721341725.2
• 申請日: 2017-10-18
• 公開（公告）號: CN207301518U
• 公開（公告）日: 2018-05-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 孫喜博;耿遠(yuǎn)超;劉蘭琴;黃晚晴;張穎;王文義;朱啟華;胡東霞;袁強(qiáng);鄧學(xué)偉;楊英;周麗丹
• 申請（專利權(quán)）人: 中國工程物理研究院激光聚變研究中心
• 主分類號: G02B27/28
• 分類號: G02B27/28
• 代理公司: 北京同輝知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11357
• 代理人: 饒富春

1.一種偏振調(diào)制器，其特征在于，包括第一聚焦元件組、級聯(lián)雙軸晶體組和第二聚焦元件組，所述第一聚焦元件組和第二聚焦元件組同光軸設(shè)置，且兩者的結(jié)構(gòu)相同，所述第一聚焦元件組包括焦距為f₁的第一光學(xué)元件和焦距為f₂的第二光學(xué)元件，所述第一光學(xué)元件和第二光學(xué)元件的間距為d；

所述級聯(lián)雙軸晶體組位于第一聚焦元件組、第二聚焦元件組之間，其焦像平面與第二聚焦元件組的焦平面重合，所述級聯(lián)雙軸晶體組包括對入射光束折射率相同且沿著入射光束傳輸方向依次排列的至少2個(gè)雙軸晶體，所述入射光束具有單一偏振態(tài)，所述雙軸晶體的波法線光軸與入射光束平行，相鄰的雙軸晶體相抵設(shè)置，且相鄰雙軸晶體間存在偽矢量夾角。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種偏振調(diào)制器，其特征在于，所述第一光學(xué)元件和第二光學(xué)元件均設(shè)為聚焦透鏡。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種偏振調(diào)制器，其特征在于，所述第一光學(xué)元件和第二光學(xué)元件均設(shè)為拋物面鏡。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的一種偏振調(diào)制器，其特征在于，所述第一聚焦元件組的焦距為f_c，且

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種偏振調(diào)制器，其特征在于，所述雙軸晶體的長度為l_i，其中，i＝1，2，…，N，N表示雙軸晶體的個(gè)數(shù)，所述級聯(lián)雙軸晶體組的長度為L，且L＝∑l_i，所述雙軸晶體的折射率橢球主軸方向上的折射率分別為n₁、n₂、n₃，且n₁<n₂<n₃，所述級聯(lián)雙軸晶體組的焦像平面與第一聚焦元件組的距離為S，且

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種偏振調(diào)制器，其特征在于，所述相鄰雙軸晶體間的偽矢量夾角為ɑ_j，其中，j＝1，2，…，N-1，且0≤ɑ_j≤π。