[實用新型]氣體分布器和反應器有效
| 申請號: | 201721332046.9 | 申請日: | 2017-10-17 |
| 公開(公告)號: | CN207872118U | 公開(公告)日: | 2018-09-18 |
| 發明(設計)人: | 武傳朋;張春城;張晨昕;郭大為;毛安國 | 申請(專利權)人: | 中國石油化工股份有限公司;中國石油化工股份有限公司石油化工科學研究院 |
| 主分類號: | B01J8/00 | 分類號: | B01J8/00;B01J8/02;B01J8/08;B01J8/24 |
| 代理公司: | 北京潤平知識產權代理有限公司 11283 | 代理人: | 劉國平;顧映芬 |
| 地址: | 100728 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 分布器 氣體分布器 反應器 環形管 氣體緩沖室 導流孔 支路管 反應系統壓力 本實用新型 氣固相反應 開口朝上 依次遞增 連通 | ||
本實用新型涉及用以實現氣固相反應過程的反應器領域,公開了一種氣體分布器和反應器。該氣體分布器包括分布器環形管(2)和氣體緩沖室(3),所述分布器環形管(2)和氣體緩沖室(3)通過分布器支路管(4)連通,其中,所述分布器環形管(2)和所述分布器支路管(4)上各自設置有開口朝上的若干第一導流孔(5)和若干第二導流孔(6),位于所述分布器支路管(4)上的第二導流孔(6)的孔徑從所述氣體緩沖室(3)到所述分布器環形管(2)依次遞增。所述氣體分布器能夠使注入的氣體在反應器內均勻分布,同時能夠保持反應系統壓力穩定,使反應平穩進行。
技術領域
本實用新型涉及用以實現氣固相反應過程的反應器領域,具體涉及一種氣體分布器和反應器。
背景技術
在石油化工領域及環保行業中廣泛使用著氣-固流化床及移動床操作模式。這些系統中一般為氣態反應物在較高的溫度條件下被固態催化劑催化反應或氣態混合物在一定溫度下被固態吸附劑吸附。例如催化裂化煙氣與催化劑或吸附劑接觸反應,硫氧化物和氮氧化物在催化劑或吸附劑上被吸附還原為單質硫或氮氣,若分布器不能將煙氣分布均勻,則會使催化劑或吸附劑流化效果差,煙氣中硫氧化物和氮氧化物不能與催化劑或吸附劑充分接觸,導致污染物不能被完全脫出。同時還有在催化裂化汽提器中,待生催化劑夾帶部分油氣進入沉降器,與汽提蒸汽逆流接觸進行汽提,若分布器不能將汽提蒸汽分布均勻,則會使催化劑夾帶的蒸汽不能完全被提出,導致輕質油品收率減少并加重再生器再生負荷。
目前在石油化工領域及環保行業中廣泛使用的氣體分布器主要分為板式氣體分布器和管式氣體分布器,管式分布器性能優于板式分布器。而管式氣體分布器又分為枝杈型和環管型兩類。傳統的枝杈型和環管型氣體分布器由于氣體篩孔孔徑一致而分布器內各處氣體壓力不等造成氣體分布不均。同時大部分傳統管式分布器只有一路或兩路氣體入口,不能滿足多股氣體進料需求,并且傳統管式分布器兩路進氣相對而行,在兩路氣體結合處易造成死區,使催化劑流化效果差。
其它類的氣-固流化床反應器、汽提器、再生器、吸收解吸裝置等所用氣體分布器也面臨同樣的問題。
實用新型內容
本實用新型的目的是為了克服現有的用以實現氣固相反應過程的反應器的氣體注入裝置容易造成注入氣體在反應器內分布不均勻,同時會對反應器內壓力造成較大的沖擊,使反應不穩定,并且無法滿足多種氣體同時進料的缺陷,提供一種氣體分布器和氣固相反應裝置,該氣體分布器能夠根據注入氣體在不同位置處的流量大小調控注入氣體在所述氣體分布器上表面的出氣量,從而使注入的氣體均勻擴散,當所述氣體分布器應用于移動床反應器或流化床反應器時,可以使氣體在反應器內均勻分布,減少反應死區,保持反應系統壓力穩定,使反應平穩進行,催化劑由該氣體分布器的空隙穿過,不影響催化劑的流動。此外,所述氣體分布器還可以滿足注入氣體的多管進料,拓寬所述氣體分布器的適用范圍,滿足更多條件的工藝需求。
為了實現上述目的,本實用新型一方面提供一種氣體分布器,所述氣體分布器包括分布器環形管和氣體緩沖室,所述分布器環形管和氣體緩沖室通過分布器支路管連通,其中,所述分布器環形管和所述分布器支路管上各自設置有開口朝上的若干第一導流孔和若干第二導流孔,位于所述分布器支路管上的第二導流孔的孔徑從所述氣體緩沖室到所述分布器環形管依次遞增。
優選地,所述分布器支路管為多個,且均勻環繞分布在所述分布器環形管和氣體緩沖室之間。
優選地,所述氣體緩沖室的橫截面積A1為所述分布器環形管的橫截面積A2的2-10倍;所述分布器支路管的橫截面積A3為所述分布器環形管的橫截面積A2的30-50%。
優選地,所述氣體緩沖室具有一個或多個與所述氣體緩沖室連通的進氣通道,所述進氣通道均勻環繞分布在氣體緩沖室的周圍或沿著所述氣體緩沖室的高度方向從上到下依次分布在所述氣體緩沖室的同一側。
優選地,位于所述分布器環形管上的導流孔呈單環分布或多環分布。
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