[實用新型]一種測量痕量CO濃度的紅外氣室裝置有效
| 申請號: | 201721330485.6 | 申請日: | 2017-10-11 |
| 公開(公告)號: | CN207300859U | 公開(公告)日: | 2018-05-01 |
| 發明(設計)人: | 馬永健;朱國亮 | 申請(專利權)人: | 深圳市先亞生物科技有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/01 | 分類號: | G01N21/01;G01N21/3504 |
| 代理公司: | 深圳市順天達專利商標代理有限公司44217 | 代理人: | 郭偉剛 |
| 地址: | 518104 廣東省深圳市寶安區沙井街道后*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 測量 痕量 co 濃度 紅外 裝置 | ||
1.一種測量痕量CO濃度的紅外氣室裝置,其特征在于,包括:用于產生中紅外光的光源(1),包括有氮氣腔體(21)和CO腔體(22)的氣體濾波調制輪(2),包括有入射光反射鏡(31)、出射光反射鏡(35)、用于感應調制頻率的光耦(36)、用于盛裝待測試氣體的氣體池主體(30)以及曲率半徑相同且為150mm-250mm的第一凹面鏡(32)、第二凹面鏡(33)和第三凹面鏡(34)的氣體池(3),中心波長為4.65μm±0.1μm的窄帶濾光片(4)以及紅外傳感器(5);
第一凹面鏡(32)和第二凹面鏡(33)的尺寸相同;入射光反射鏡(31)、第一凹面鏡(32)、第二凹面鏡(33)、第三凹面鏡(34)、出射光反射鏡(35)以及光耦(36)設置在氣體池主體(30)中;第一凹面鏡(32)和第二凹面鏡(33)設置在同一側,并排列在同一平面上;第三凹面鏡(34)設置在第一凹面鏡(32)和第二凹面鏡(33)對立面的另一側;
中紅外光經氣體濾波調制輪(2)后,通過氣體池(3)的入射窗體進入氣體池(3),經入射光反射鏡(31)反射后到達第一凹面鏡(32)處,再在第一凹面鏡(32)、第三凹面鏡(34)和第二凹面鏡(33)之間進行數次反射之后到達出射光反射鏡(35),接著經出射光反射鏡(35)反射后經過窄帶濾光片(4)被紅外傳感器(5)接收;
第一凹面鏡(32)和第二凹面鏡(33)的間隔距離為10mm-20mm;
中紅外光在氣體池(3)中的光程長大于等于6m。
2.根據權利要求1所述的一種測量痕量CO濃度的紅外氣室裝置,其特征在于,氣體池(3)體積為200ml-300ml。
3.根據權利要求1所述的一種測量痕量CO濃度的紅外氣室裝置,其特征在于,中紅外光的波長為2.5μm-20μm。
4.根據權利要求1所述的一種測量痕量CO濃度的紅外氣室裝置,其特征在于,氣體池(3)的入射窗體為CaF2窗體。
5.根據權利要求1所述的一種測量痕量CO濃度的紅外氣室裝置,其特征在于,紅外傳感器(5)采用銻化銦光導探測器或硒化鉛光導探測器。
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