[實用新型]可改善處理均度的膜組件清洗裝置有效
| 申請號: | 201721323255.7 | 申請日: | 2017-10-16 |
| 公開(公告)號: | CN207641303U | 公開(公告)日: | 2018-07-24 |
| 發明(設計)人: | 陳永石 | 申請(專利權)人: | 陳永石 |
| 主分類號: | B01D65/02 | 分類號: | B01D65/02 |
| 代理公司: | 南京眾聯專利代理有限公司 32206 | 代理人: | 顧進 |
| 地址: | 226200 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 膜組件清洗裝置 膜組件 支撐端 藥槽 清洗 導向槽體 清洗過程 清洗藥液 導向端 內壁 本實用新型 環形結構 內部填充 升降絲桿 整體清洗 傳統的 導向槽 體內部 延伸 豎直 液流 沖刷 | ||
1.一種可改善處理均度的膜組件清洗裝置,其特征在于,所述可改善處理均度的膜組件清洗裝置包括有清洗藥槽,其內部填充有清洗藥液,清洗藥槽的內壁之上設置有采用環形結構的支撐端架,清洗藥槽的內壁之上設置有多個在豎直方向上進行延伸的導向槽體,支撐端架之上設置有延伸至導向槽體內部的導向端體,導向槽體與導向端體均采用“T”形結構;所述支撐端架之上連接有升降絲桿。
2.按照權利要求1所述的可改善處理均度的膜組件清洗裝置,其特征在于,所述升降絲桿與支撐端架的連接端部設置有振動電機。
3.按照權利要求1所述的可改善處理均度的膜組件清洗裝置,其特征在于,所述清洗藥槽之中,支撐端架的上端與下端分別設置有一個擾流裝置,擾流裝置包括有擾流軸,其通過設置在清洗藥槽外部的擾流電機進行驅動,擾流軸之上設置有多個擾流葉片,擾流葉片相對于豎直平面呈傾斜延伸。
4.按照權利要求3所述的可改善處理均度的膜組件清洗裝置,其特征在于,所述清洗藥槽之中,支撐端架的上端與下端分別設置有多個過濾管道,過濾管道包括有溢流端部與回流端部,過濾管道的溢流端部與支撐端板之間的距離小于回流端部與支撐端板之間的距離,過濾管道的溢流端部與回流端部之間設置有采用“U”形結構的過濾腔,過濾腔內部設置有濾網;所述過濾管道的溢流端部位于支撐端架以及擾流裝置之間。
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