[實(shí)用新型]一種連續(xù)礦漿電解浸出設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201721305547.8
• 申請(qǐng)日: 2017-10-11
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN207313662U
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-05-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李世平;張華;盧宇;韋國(guó)龍;王志斌
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 貴州宏達(dá)環(huán)保科技有限公司
• 主分類號(hào): C22B3/02
• 分類號(hào): C22B3/02;C22B3/04
• 代理公司: 貴陽(yáng)派騰陽(yáng)光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)52110
• 代理人: 田江飛

1.一種連續(xù)礦漿電解浸出設(shè)備，其特征在于：包括調(diào)漿槽(1)、殘液儲(chǔ)存槽(3)及若干個(gè)電解浸出槽(2)，所述調(diào)漿槽(1)、電解浸出槽(2)的上部均設(shè)有溢流口；所述溢流口上設(shè)有溢流管；所述調(diào)漿槽(1)、電解浸出槽(2)、殘液儲(chǔ)存槽(3)通過(guò)上部的溢流管(6)依次連接；所述調(diào)漿槽(1)的高度高于電解浸出槽(2)，殘液儲(chǔ)存槽(3)的高度低于電解浸出槽(2)。

2.如權(quán)利要求1所述的一種連續(xù)礦漿電解浸出設(shè)備，其特征在于：所述調(diào)漿槽(1)、電解浸出槽(2)、殘液儲(chǔ)存槽(3)均為圓柱形腔體，并固定在方形框架(7)上，調(diào)漿槽(1)、電解浸出槽(2)、殘液儲(chǔ)存槽(3)的底部均為圓錐形或平底，且底部均設(shè)有閥門。

3.如權(quán)利要求1所述的一種連續(xù)礦漿電解浸出設(shè)備，其特征在于：所述殘液儲(chǔ)存槽(3)底部通過(guò)礦漿泵(4)與調(diào)漿槽(1)和電解浸出槽(2)的底部連接。

4.如權(quán)利要求1所述的一種連續(xù)礦漿電解浸出設(shè)備，其特征在于：所述電解浸出槽(2)內(nèi)設(shè)有擋板(5)、陽(yáng)極板、陰極板，所述擋板(5)固定在電解浸出槽(2)內(nèi)，擋板(5)上端與電解浸出槽(2)上端同高，擋板(5)下端距離電解浸出槽(2)底部500mm至1000mm；所述陽(yáng)極板、陰極板固定在電解浸出槽(2)內(nèi)，分別布置在槽體兩側(cè)。

5.如權(quán)利要求4所述的一種連續(xù)礦漿電解浸出設(shè)備，其特征在于：所有陽(yáng)極板和陰極板均分別通過(guò)導(dǎo)電銅排進(jìn)行串聯(lián)，陽(yáng)極板和陰極板的長(zhǎng)均為1500mm至1800mm，寬均為1000mm至1300mm，厚度均為5mm至10mm。

6.如權(quán)利要求4所述的一種連續(xù)礦漿電解浸出設(shè)備，其特征在于：所述陽(yáng)極板的材質(zhì)為石墨、不銹鋼、鉛合金、鈦或碳鋼，所述陰極板的材質(zhì)為不銹鋼、鋁或鈦。

7.如權(quán)利要求1所述的一種連續(xù)礦漿電解浸出設(shè)備，其特征在于：所述溢流口距離調(diào)漿槽(1)或電解浸出槽(2)頂部200mm至300mm。

8.如權(quán)利要求1所述的一種連續(xù)礦漿電解浸出設(shè)備，其特征在于：所述調(diào)漿槽(1)的高度比電解浸出槽(2)的高度高300mm至500mm，殘液儲(chǔ)存槽(3)的高度比電解浸出槽(2)的高度低300mm至500mm。

9.如權(quán)利要求1所述的一種連續(xù)礦漿電解浸出設(shè)備，其特征在于：所述電解浸出槽(2)材質(zhì)為塑料、金屬或鋼筋混凝土。

10.如權(quán)利要求1所述的一種連續(xù)礦漿電解浸出設(shè)備，其特征在于：所述調(diào)漿槽(1)、電解浸出槽(2)、殘液儲(chǔ)存槽(3)內(nèi)均設(shè)有攪拌裝置。