[實用新型]一種研磨裝置

有效

• 申請號: 201721298785.0
• 申請日: 2017-10-10
• 公開（公告）號: CN207563034U
• 公開（公告）日: 2018-07-03
• 發明（設計）人: 趙媛;任麗;高永亮;解鑫;梁春梅;許璐;喻東威;常建軍;宋曉東
• 申請（專利權）人: 內蒙古蒙牛乳業（集團）股份有限公司
• 主分類號: B02C19/00
• 分類號: B02C19/00
• 代理公司: 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250
• 代理人: 李敏

本實用新型屬于食品檢測技術領域，公開了一種研磨裝置。該研磨裝置通過設置第一研磨單元和第二研磨單元，當研磨樣品時，利用第一研磨單元上的研磨凸面內嵌第二研磨單元上的研磨凹面凹陷形成的樣品容置內腔中，利用外界力去擠壓第一研磨單元，可將樣品緊密擠壓至研磨凸面與研磨凹面間，如此多次擠壓，便可達到研磨樣品的目的。同時，研磨樣品時，研磨凸面與研磨凹面接觸面積大，樣品不易外溢，可達到充分研磨樣品的目的，提高了樣品粉末的均一性。

技術領域

本實用新型屬于食品檢測技術領域，具體涉及一種研磨裝置。

背景技術

在檢測塊狀食品中各成分含量時，首先需要研磨塊狀食品，以達到粉碎的目的。諸如圓片狀的酪趣貝奶酪產品即為常見的塊狀食品，在檢測其中含量時，一般會采用研磨裝置將其研磨粉碎。現有技術中常用的研磨裝置一般是研缽，諸如中國專利文獻CN204816782U公開了一種研缽，該技術通過設置在研缽本體上設置楞條，并在缽杵把手的杵頭上設置凸起，通過手動移動缽杵把手來達到研磨樣品的目的。

但是上述技術中，杵頭與研缽本體接觸面積有限，當杵頭研磨樣品時，樣品易受力外溢，難以達到充分研磨的效果，導致研磨后得到的樣品粉末均一性較差，不能作為代表性樣品，最終也難以準確反映樣品特性。

實用新型內容

為此，本實用新型所要解決的是現有研磨裝置難以達到充分研磨的效果，導致樣品粉末均一性差的缺陷，進而提供一種研磨充分、結構簡單的便攜式研磨裝置。

為解決上述技術問題，本發明采用的技術方案如下：

本發明所提供的研磨裝置，包括研磨組件，所述研磨組件包括，

第一研磨單元，具有研磨凸面；

第二研磨單元，具有研磨凹面，所述研磨凹面凹陷形成樣品容置內腔，當研磨樣品時，所述研磨凸面適于內嵌所述樣品容置內腔中，并將樣品緊密擠壓至所述研磨凸面與所述研磨凹面間。

進一步地，所述研磨凸面為球面，所述研磨凹面為球形凹面，當所述研磨凸面內嵌所述樣品容置內腔內時，所述研磨凸面與所述研磨凹面彼此緊密貼合。

進一步地，所述研磨凸面和所述研磨凹面中任一個上間隔分布研磨凸起。

進一步地，所述研磨凸起為錐形凸起和/或球形凸起。

優選地，所述研磨凸起的凸起高度為0.5cm-0.8cm。

進一步地，還包括第一連接桿，具有第一旋轉端和第一連接端，所述第一連接端與所述第一研磨單元連接；

第二連接桿，具有第二旋轉端和第二連接端，所述第二連接端與所述第二研磨單元連接，且所述第一旋轉端與所述第二旋轉端活動連接，以使兩者可相對旋轉并帶動所述第一研磨單元和所述第二研磨單元彼此靠近或遠離。

進一步地，所述研磨凸面的直徑至少為2cm，所述研磨凹面的直徑至少為3cm。

進一步地，所述第一研磨單元為第一研磨圓盤，所述第一連接端與所述第一研磨圓盤連接，且遠離所述研磨凸面；

所述第二研磨單元為第二研磨圓盤，

進一步地，還包括固定臺，具有一適于放置于水平面上的水平固定面，與所述水平固定面相對的側面與所述第二研磨單元固定連接，以通過所述固定臺將所述第二研磨單元放置于水平面上。

與現有技術相比，本實用新型具有如下有益效果：通過設置第一研磨單元和第二研磨單元，當研磨樣品時，利用第一研磨單元上的研磨凸面內嵌第二研磨單元上的研磨凹面凹陷形成的樣品容置內腔中，利用外界力去擠壓第一研磨單元，可將樣品緊密擠壓至研磨凸面與研磨凹面間，如此多次擠壓，便可達到研磨樣品的目的。同時，研磨樣品時，研磨凸面與研磨凹面接觸面積大，樣品不易外溢，可達到充分研磨樣品的目的，提高了樣品粉末的均一性。