[實用新型]一種免打底UV上光印刷系統有效
| 申請號: | 201721295770.9 | 申請日: | 2017-10-10 |
| 公開(公告)號: | CN207310837U | 公開(公告)日: | 2018-05-04 |
| 發明(設計)人: | 楊青青;陳官田;牛文興;杜鋒 | 申請(專利權)人: | 溫州立可達印業股份有限公司 |
| 主分類號: | B41F23/08 | 分類號: | B41F23/08;B41J11/00 |
| 代理公司: | 北京盛凡智榮知識產權代理有限公司11616 | 代理人: | 曾龍 |
| 地址: | 325000 浙江省溫州*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 打底 uv 上光 印刷 系統 | ||
技術領域
本實用新型涉及上光印刷技術領域,尤其涉及一種免打底UV上光印刷系統。
背景技術
上光是在印刷品表面涂上(或噴、印)一層無色透明涂料,干后起保護及增加印刷品光澤的作用。在印刷品表面涂(或噴、印)上一層無色透明的涂料,經流平、干燥、壓光、固化后在印刷品表面形成一種薄而勻的透明光亮層,起到增強載體表面平滑度、保護印刷圖文的精飾加工功能的工藝,被稱為上光工藝,現有的上光印刷設備使用時,浪費資源,免打底UV上光油噴涂不均勻,而且免打底UV上光油容易滴落,浪費資源。
實用新型內容
本實用新型的目的是為了解決現有技術中存在噴涂不均勻、浪費資源等缺點,而提出的一種免打底UV上光印刷系統。
為了實現上述目的,本實用新型采用了如下技術方案:
設計一種免打底UV上光印刷系統,包括機架,所述機架上安裝有給紙機構、收紙機構、烘干機構、上光機構和控制盒,所述上光機構包括安裝在機架內部的上光輥和橡膠輥,所述上光輥位于橡膠輥的一側上部,所述上光輥的外壁設置有上光刷,所述上光刷與橡膠輥連接,所述機架靠近上光輥的頂部安裝有供油機構,所述供油機構包括固定在機架上部的存油槽,所述存油槽的底部通過電磁閥安裝有噴盤,所述噴盤位于上光輥的上部,所述上光輥的底部通過支撐桿安裝有集油槽;
所述機架的內側上光機構的下部安裝有支撐板,所述支撐板的一端安裝有導向輥,所述支撐板安裝在支撐板的上側中部,所述機架的側壁底部安裝有控制盒,所述控制盒內設置有單片機,所述單片機通過導線與電磁閥連接。
優選的,所述噴盤上等距離開設有通孔。
優選的,所述集油槽的一側安裝有刮油板,所述刮油板遠離集油槽的一端與上光刷連接。
優選的,所述支撐桿與集油槽焊接連接。
本實用新型提出的一種免打底UV上光印刷系統,有益效果在于:通過在上光輥的上部安裝供油機構,并在供油機構上設置電磁閥,并將電磁閥與控制盒內的單片機連接,方便控制免打底UV上光油的流量,通過在上光輥的底部安裝集油槽,在集油槽上安裝刮油板,并將刮油板與上光輥上的上光刷連接,能夠避免免打底UV上光油滴落,能夠節約資源,本實用新型結構簡單,能夠提高材料的耐磨性能,而且提升材料環保性能,達到節能減排的目的。
附圖說明
圖1為本實用新型提出的一種免打底UV上光印刷系統的結構示意圖。
圖中:噴盤1、電磁閥2、存油槽3、上光輥4、上光刷5、刮油板6、支撐桿7、烘干機構8、收紙機構9、支撐板10、導向輥11、集油槽12、控制盒13、橡膠輥14、給紙機構15、機架16。
具體實施方式
下面將結合本實用新型實施例中的附圖,對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例,而不是全部的實施例。
參照圖1,一種免打底UV上光印刷系統,包括機架16,機架16上安裝有給紙機構15、收紙機構9、烘干機構8、上光機構和控制盒13,上光機構包括安裝在機架16內部的上光輥4和橡膠輥14,上光輥4位于橡膠輥14的一側上部,上光輥4的外壁設置有上光刷5,上光刷5與橡膠輥14連接,機架16靠近上光輥4的頂部安裝有供油機構,供油機構包括固定在機架16上部的存油槽3,存油槽3的底部通過電磁閥2安裝有噴盤1,噴盤1位于上光輥4的上部,便于調節電磁閥2的流量,保證免打底UV上光油能夠噴灑均勻,供油機構的底部與上光輥4的上部連接,上光輥4的底部通過支撐桿7安裝有集油槽12,支撐桿7與集油槽12焊接連接,提高使用壽命,保證免打底UV上光油能夠噴灑均勻,并且提高了印刷紙的上光效率。
集油槽12的一側安裝有刮油板6,刮油板6遠離集油槽12的一端與上光刷5連接,能夠避免免打底UV上光油滴落,較少浪費。
機架16的內側上光機構的下部安裝有支撐板10,支撐板10的一端安裝有導向輥11,支撐板10安裝在支撐板10的上側中部,機架16的側壁底部安裝有控制盒13,控制盒13內設置有單片機,單片機通過導線與電磁閥2連接,方便使用,提升材料環保性能,達到節能減排的目的。
以上所述,僅為本實用新型較佳的具體實施方式,但本實用新型的保護范圍并不局限于此,任何熟悉本技術領域的技術人員在本實用新型揭露的技術范圍內,根據本實用新型的技術方案及其實用新型構思加以等同替換或改變,都應涵蓋在本實用新型的保護范圍之內。
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