[實用新型]一種真空反應蒸鍍裝置有效
| 申請號： | 201721294888.X | 申請日： | 2017-10-09 |
| 公開（公告）號： | CN207498454U | 公開（公告）日： | 2018-06-15 |
| 發明（設計）人： | 嚴佐毅;劉文卿 | 申請（專利權）人： | 安徽金美新材料科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/08 | 分類號： | C23C14/08;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京挺立專利事務所(普通合伙) 11265 | 代理人： | 李鑫 |
| 地址： | 安徽省淮南市壽縣新橋國際產業園新*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 真空反應 放置區 真空室 本實用新型 多孔基材 蒸鍍裝置 蒸發機構 陶瓷層 蒸鍍 氧氣 室內 多孔基材表面 氧氣噴射裝置 鋰離子電池 電池能量 多孔基板 金屬蒸汽 陶瓷隔膜 真空機組 閾值要求 結合力 金屬材 基材 噴出 制備 連通 室外 | ||
1.一種真空反應蒸鍍裝置，其特征在于，包括：
真空室，其設有用于將多孔基材置于所述真空室內的放置區；
蒸發機構，其置于所述真空室內，并位于多孔基材放置區的下方；
可被氧化的金屬材，其置于所述蒸發機構內，用于提供真空反應蒸鍍的金屬蒸汽；
氧氣噴射裝置，其設置在多孔基板放置區下方，用于提供真空反應蒸鍍的氧氣，將氧氣沿多孔基材表面噴出,使分布在多孔基材表面的氧氣與金屬蒸汽直接發生氧化反應后生成金屬氧化膜；
真空機組，其置于所述真空室外并連通所述真空室，用于將真空室的真空度達到閾值要求。
2.根據權利要求1所述的真空反應蒸鍍裝置，其特征在于，還包括金屬網，其用于放置在多孔基材下方鄰近處，該金屬網設有加熱裝置，使金屬網的溫度可控。
3.根據權利要求2所述的真空反應蒸鍍裝置，其特征在于，所述金屬網的兩側分別設置所述氧氣噴射裝置，用于將氧氣能從多孔基材表面的兩側噴出。
4.根據權利要求3所述的真空反應蒸鍍裝置，其特征在于，所述金屬網放置在氧氣噴射裝置的下方或上方。
5.根據權利要求1所述的真空反應蒸鍍裝置，其特征在于，所述放置區包括基材自動輸送區、基材反應區和基材收納區，所述基材自動輸送區包括第一主動輥和第一從動輥；所述基材反應區包括反應輥，所述基材收納區包括第二主動輥和第二從動輥，多孔基材可從第一主動輥依次繞接第一從動輥、反應輥、第二從動輥和第二主動輥。
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