[實用新型]一種用于人臉識別的設備調節裝置有效
| 申請號: | 201721282447.8 | 申請日: | 2017-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN207281789U | 公開(公告)日: | 2018-04-27 |
| 發明(設計)人: | 王延根;閆維東 | 申請(專利權)人: | 武漢北斗智通科技有限公司 |
| 主分類號: | G06K9/00 | 分類號: | G06K9/00 |
| 代理公司: | 上海精晟知識產權代理有限公司31253 | 代理人: | 馮子玲 |
| 地址: | 430000 湖北省武漢市中國(湖北)自貿*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 識別 設備 調節 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及調節裝置技術領域,尤其涉及一種用于人臉識別的設備調節裝置。
背景技術
由于人臉識別器可有效防止代替刷卡現象,人臉識別器的應用越來越廣泛。但是,目前人臉識別器大多不可以調節高度,不適應不同身高的用戶使用。為此,我們提出一種可以調節高度的用于人臉識別的調節裝置。
實用新型內容
本實用新型的目的是為了解決現有技術中存在不可以調節高度的缺點,而提出的一種用于人臉識別的設備調節裝置。
為了實現上述目的,本實用新型采用了如下技術方案:
設計一種用于人臉識別的設備調節裝置,包括識別器本體,所述識別器本體包括攝像頭、圖像顯示區及信息核對區,所述識別器本體底面中央位置處垂直設置有立柱,所述識別器本體正下方設有底座,所述底座中心開設有豎直方向的安裝孔,且立柱設于安裝孔內,所述立柱一側底端設有齒條,所述底座一側中央位置處開設有通孔,所述通孔內轉動設有齒輪,且齒輪和齒條相互嚙合,所述齒輪一側設有定位機構。
優選的,所述定位機構包括U型架,所述U型架中央位置處垂直設有套筒,所述套筒內設有伸縮桿,所述齒輪沿其圓周方向均勻開設有若干定位凹槽,且伸縮桿的一端設在定位凹槽內,所述U型架兩端均固定在底座一側外壁上。
優選的,所述底座頂端兩側均設有支撐腿,所述支撐腿頂面設有導向塊,所述導向塊內開設有導向孔,且立柱設在導向孔內。
本實用新型提出的一種用于人臉識別的設備調節裝置,有益效果在于:該用于人臉識別的設備調節裝置可通過旋轉齒輪,在齒條、齒輪的嚙合作用下,齒條上下移動,進而通過立柱帶動識別器本體上下移動,調節至所需高度后,伸長伸縮桿,把伸縮桿的一端插入定位凹槽內即可,操作簡單,使用方便,適應不同身高的用戶使用。
附圖說明
圖1為本實用新型提出的一種用于人臉識別的設備調節裝置的結構示意圖;
圖2為本實用新型提出的一種用于人臉識別的設備調節裝置的定位機構示意圖。
圖中:識別器本體1、立柱2、底座3、導向塊4、導向孔5、安裝孔6、支撐腿7、齒條8、齒輪9、通孔10、定位凹槽11、U型架12、套筒13、伸縮桿14、定位機構15。
具體實施方式
下面將結合本實用新型實施例中的附圖,對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例,而不是全部的實施例。
參照圖1-2,一種用于人臉識別的設備調節裝置,包括識別器本體1,識別器本體1包括攝像頭、圖像顯示區及信息核對區,識別器本體1底面中央位置處垂直設置有立柱2,識別器本體1正下方設有底座3,底座3頂端兩側均設有支撐腿7,支撐腿7頂面設有導向塊4,導向塊4內開設有導向孔5,且立柱2設在導向孔5內;立柱2起到支撐識別器本體1的作用,底座3支撐整個調節裝置,導向孔5的設計,可在立柱2上下移動過程中起到導向作用。
底座3中心開設有豎直方向的安裝孔6,且立柱2設于安裝孔6內,立柱2一側底端設有齒條8,底座3一側中央位置處開設有通孔10,通孔10內轉動設有齒輪9,且齒輪9和齒條8相互嚙合,齒輪9一側設有定位機構15;旋轉齒輪9,在齒輪9和齒條8相互嚙合的作用下,立柱2上下移動,進而識別器本體1上下移動,待調節識別器本體1至所需高度后,通過定位機構15鎖定齒輪9即可。
定位機構15包括U型架12,U型架12中央位置處垂直設有套筒13,套筒13內設有伸縮桿14,齒輪9沿其圓周方向均勻開設有若干定位凹槽11,且伸縮桿14的一端設在定位凹槽11內,U型架12兩端均固定在底座3一側外壁上;調節識別器本體1至所需高度后,伸長伸縮桿14,把伸縮桿14一端插入定位凹槽11內,即可鎖定齒輪9,當需要再次調節高度時,縮短伸縮桿14,使伸縮桿14一端脫離定位凹槽11,旋轉齒輪9即可。
工作原理:通過旋轉齒輪9,在齒條8、齒輪9的嚙合作用下,齒條8上下移動,進而通過立柱2帶動識別器本體1上下移動,調節至所需高度后,伸長伸縮桿14,把伸縮桿14的一端插入定位凹槽11內即可。
以上所述,僅為本實用新型較佳的具體實施方式,但本實用新型的保護范圍并不局限于此,任何熟悉本技術領域的技術人員在本實用新型揭露的技術范圍內,根據本實用新型的技術方案及其實用新型構思加以等同替換或改變,都應涵蓋在本實用新型的保護范圍之內。
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