[實用新型]一種提高下向式膏體充填采礦方法充填接頂率的裝置

有效

• 申請號: 201721279430.7
• 申請日: 2017-09-30
• 公開（公告）號: CN207363699U
• 公開（公告）日: 2018-05-15
• 發明（設計）人: 嚴慶文;陸躍邦;彭天松;朱家銳;王勝開;李國清;滕高禮;黎飛;孫超;張澤裕;毛明發
• 申請（專利權）人: 云南馳宏鋅鍺股份有限公司
• 主分類號: E21F15/00
• 分類號: E21F15/00
• 代理公司: 北京名華博信知識產權代理有限公司 11453
• 代理人: 李中強

1.一種提高下向式膏體充填采礦方法充填接頂率的裝置，其特征在于：主要包括擋墻、充填管、觀察管、排氣管、閘閥；其中，所述的擋墻為密閉式擋墻，其設置在上分層填充體與下分層未采礦石構成的巷道之間，將巷道分為采空區和作業區，擋墻與巷道的頂板和底板完全閉合，所述的充填管、觀察管、排氣管預埋于擋墻內，充填管的一端的端部管口緊貼采空區內巷道的頂板，另一端的端口與作業區的膏體輸送管道相連，觀察管設置在充填管的下方，其一端伸入到采空區內設置在采空區內巷道的頂板的下部，另一端設置在工作區內并設置有閘閥；排氣管緊貼巷道頂板設置，一端設置在采空區，另一端設置在作業區。

2.根據權利要求1所述的一種提高下向式膏體充填采礦方法充填接頂率的裝置，其特征在于：所述的擋墻為混凝土結構。

3.根據權利要求1所述的一種提高下向式膏體充填采礦方法充填接頂率的裝置，其特征在于：所述觀察管的閘閥在施工過程中為常開狀態。

4.根據權利要求1所述的一種提高下向式膏體充填采礦方法充填接頂率的裝置，其特征在于：所述觀察管的深入采空區一端管口距采空區頂板預留的高度為h，h根據充填管線長度、充填管管徑和采空區面積計算得出。