[實用新型]平板電極結(jié)構(gòu)和等離子體沉積設備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201721276233.X
• 申請日: 2017-09-30
• 公開（公告）號: CN207418862U
• 公開（公告）日: 2018-05-29
• 發(fā)明（設計）人: 孫溯;張志強;謝小兵
• 申請（專利權(quán)）人: 上海稷以科技有限公司
• 主分類號: C23C16/50
• 分類號: C23C16/50;C23C16/455
• 代理公司: 上海立群專利代理事務所(普通合伙) 31291
• 代理人: 何靜生;侯莉

本實用新型涉及等離子體氣相沉積領域，公開了一種平板電極結(jié)構(gòu)和應用了該電極結(jié)構(gòu)的等離子體沉積設備，電極結(jié)構(gòu)包括：若干個彼此之間間隔設置的電極板；并且每個電極板上都設置有若干個通孔。設置了本實用新型的平板電極結(jié)構(gòu)的等離子體沉積設備，能夠提高等離子體氣相沉積的均勻性，保證氣相沉積的質(zhì)量。

技術(shù)領域

本實用新型涉及等離子體氣相沉積領域，特別涉及一種平板電極結(jié)構(gòu)和應用了該種平板電極結(jié)構(gòu)的等離子體沉積設備。

背景技術(shù)

等離子氣相沉積技術(shù)指的是在真空條件下，將作為材料源的氣態(tài)原子、分子或離子等形成等離子體，在高頻或直流電場作用下，通入適量的氣體，利用等離子體放電，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)。

其中，平板電極等離子體氣相沉積是一種常見的化學沉積。在現(xiàn)有技術(shù)中，由于平行于電極板的平面上電場分布最均勻，因此能夠得到一致性最好的沉積。沉積的均勻性是沉積質(zhì)量的最重要的指標之一，所以用來沉積的平板襯底都是平行電極板放置，從而減少電場分布帶來的影響。

但是，在等離子體氣相沉積中，影響沉積均勻性的因素除了電場的分布，還有氣壓的分布。而對于現(xiàn)有的實心平板電極來說，同一面上的電場分布可以很均勻，但對于氣流的分布就不是很有利。例如，對于電極板邊緣部分，由于空間大，氣流阻力小，氣體交換迅速，會有比較快的沉積速率；而對于電極板中心的區(qū)域，由于氣阻大，氣體交換慢，相對于邊緣部分的沉積速率較低，這樣就導致了平板沉積中，四周邊緣的沉積速率與中心區(qū)域的差異，影響了沉積的均勻性。由于沉積不均勻?qū)е鲁练e表面凹凸不平，因此需要做出改進。

實用新型內(nèi)容

本實用新型的目的在于提供一種平板電極結(jié)構(gòu)以及應用了該種平板電極結(jié)構(gòu)的真空等離子設備。本實用新型有利于提高等離子體氣相沉積的均勻性，保證氣相沉積的質(zhì)量。

具體來說，本實用新型提供了一種平板電極結(jié)構(gòu)，用于等離子體沉積設備，包括：

若干個彼此之間間隔設置的電極板；

每個電極板上都設置有若干個通孔。

本實用新型還提供了一種等離子體沉積設備，包括上述的平板電極結(jié)構(gòu)和真空腔體的真空等離子設備。

本實用新型通過在電極板上設置若干通孔，改變氣壓的分布，大大改善了電極間中心區(qū)域的氣體流通，使得平板電極間整個區(qū)域氣流分布均勻，從而使各處氣流交換速率相近。本實用新型能夠控制各處以相近的速率沉積，提高等離子體氣相沉積的均勻性。

作為優(yōu)選，在電極板中，至少有一個電極板上的通孔的數(shù)量大于或等于4個，且這些通孔在該電極板的表面呈陣列分布。

設置多個通孔，能夠調(diào)節(jié)氣壓的分布，使之更加均勻、合理，改變通孔的數(shù)量可以對電極間中心區(qū)域的氣體流通過性進行調(diào)節(jié)，最終達到減小氣壓分布對沉積影響的目的。

進一步地，作為優(yōu)選，相鄰的兩個電極板上的通孔相互交錯設置。

在不影響電場分布的前提下，在兩個電極板上交錯設置通孔，延長了氣體的行程，使氣體交換更充分，從而實現(xiàn)更均勻地沉積。

此外，作為優(yōu)選，各個電極板的規(guī)格都相同。

保證各個電極板的規(guī)格都相同，可以確保產(chǎn)生的電場相似，使等離子體氣相沉積在基本相同的環(huán)境下發(fā)生，有利于鍍膜均勻。

此外，作為優(yōu)選，通孔為方形，通孔使得電極板上未設置通孔的部位形成柵格陣列。

采用柵格陣列，適當控制通孔的尺寸，使通孔整齊排布，縮小了平板襯底中心區(qū)域與邊緣區(qū)域的沉積速率存在的差異。

進一步地，作為優(yōu)選，通孔與所述電極板上未設置通孔的部位的邊線倒有圓角。