[實用新型]化學發光檢測儀、溫育裝置及反應盤機構

有效

• 申請號: 201721267475.2
• 申請日: 2017-09-29
• 公開（公告）號: CN207516251U
• 公開（公告）日: 2018-06-19
• 發明（設計）人: 朱亮;張譚;班定平;胡毅;常迎卒;李江
• 申請（專利權）人: 深圳市新產業生物醫學工程股份有限公司
• 主分類號: G01N21/76
• 分類號: G01N21/76
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 生啟

1.一種反應盤機構，其特征在于，包括：

反應盤安裝結構；

反應盤驅動結構，設置于所述反應盤安裝結構上；

反應承載盤，安裝于所述反應盤驅動結構上，所述反應盤驅動結構能夠驅動所述反應承載盤做旋轉運動；所述反應承載盤能夠容納反應杯；及

導向限位結構，能夠對所述反應承載盤的旋轉運動進行導向限位。

2.根據權利要求1所述的反應盤機構，其特征在于，所述導向限位結構包括導向限位滑軌及滾動支撐件，所述導向限位滑軌設置于所述反應承載盤，且所述導向限位滑軌凸出于所述反應承載盤的外周面設置；

所述滾動支撐件設置于所述反應盤安裝結構上，并位于所述反應承載盤的周側，所述導向限位滑軌可滑動地與所述滾動支撐件配合。

3.根據權利要求2所述的反應盤機構，其特征在于，所述滾動支撐件為導向限位軸承，所述導向限位軸承的外圈開設滑槽，所述導向限位滑軌可滑動地位于所述滑槽中。

4.根據權利要求3所述的反應盤機構，其特征在于，所述導向限位滑軌位于所述滑槽中的部分的截面形狀呈V字形，所述滑槽的截面形狀為V字形。

5.根據權利要求3所述的反應盤機構，其特征在于，所述導向限位滑軌位于所述滑槽中的部分的截面形狀與所述滑槽的截面形狀相適配。

6.根據權利要求4所述的反應盤機構，其特征在于，所述導向限位結構還包括潤滑部件，所述潤滑部件設置于所述反應盤安裝結構上，且位于所述反應承載盤的周側，所述導向限位滑軌能夠與所述潤滑部件相接觸。

7.根據權利要求6所述的反應盤機構，其特征在于，所述潤滑部件具有潤滑槽，所述導向限位滑軌位于所述潤滑槽中，所述潤滑槽的截面形狀也為V字形。

8.根據權利要求3所述的反應盤機構，其特征在于，所述滾動支撐件的數量為至少三個，至少三個所述滾動支撐件圍繞所述反應承載盤的周側均勻分布。

9.根據權利要求2至8任一項所述的反應盤機構，其特征在于，所述反應盤機構還包括壓緊結構，所述壓緊結構設置于所述反應盤安裝結構上，其中一個所述滾動支撐件安裝于所述壓緊結構上，所述壓緊結構用于調節所述滾動支撐件與所述導向限位滑軌之間的間距。

10.根據權利要求9所述的反應盤機構，其特征在于，所述壓緊結構包括壓緊安裝座、壓緊彈性件及壓緊導向桿，所述壓緊導向桿安裝于所述反應盤安裝結構上，所述壓緊安裝座可滑動地設置與所述壓緊導向桿上，所述壓緊彈性件套設于所述壓緊導向桿上，且所述壓緊彈性件的兩端分別與所述壓緊導向桿及所述壓緊安裝座抵接；

所述滾動支撐件安裝于所述壓緊安裝座上，所述壓緊彈性件能夠使所述壓緊安裝座在所述壓緊導向桿上運動，并與所述導向限位滑軌抵接。

11.根據權利要求10所述的反應盤機構，其特征在于，所述壓緊結構還包括壓緊固定座，所述壓緊固定座固定于所述反應盤安裝結構上，所述壓緊導向桿安裝于所述壓緊固定座上。

12.根據權利要求1所述的反應盤機構，其特征在于，所述反應承載盤上開設多個用于放置所述反應杯的放置孔，多個所述放置孔沿所述反應承載盤的周向方向均勻分布，添加完樣本的所述反應杯能夠分別被轉移到多個所述放置孔中。