[實用新型]一種有機溶劑清洗槽

有效

• 申請號: 201721263152.6
• 申請日: 2017-09-28
• 公開（公告）號: CN207357682U
• 公開（公告）日: 2018-05-15
• 發明（設計）人: 岳佳佳;劉號;簡建至
• 申請（專利權）人: 冠禮控制科技（上海）有限公司
• 主分類號: B08B3/08
• 分類號: B08B3/08;B08B3/10;B08B3/12;H01L21/67
• 代理公司: 上海精晟知識產權代理有限公司 31253
• 代理人: 楊軍

本實用新型涉及一種有機溶劑清洗槽，包括零件放置架、上下運動機構、內部清洗槽以及外部加熱槽，零件放置架頂端連接上下運動機構，并在上下運動機構的帶動下做上下直線運動，零件放置架底端伸入內部清洗槽，內部清洗槽上開設有內部清洗槽排出孔、內部清洗槽進液孔，內部清洗槽內設置有內部清洗槽進液管，內部清洗槽進液管與內部清洗槽進液孔連接，內部清洗槽底端開設有廢液排除孔，內部清洗槽內底部置有超聲波震板，內部清洗槽設置于外部加熱槽內并相互隔離，外部加熱槽內底部安裝有加熱器；本實用新型同現有技術相比，能夠提高產品清洗效果，提升設備安全性，克服了現有清洗設備所存在的清洗效果差、清洗效率低、加熱不安全等缺陷。

[技術領域]

本實用新型涉及半導體清洗設備技術領域，具體地說是一種有機溶劑清洗槽。

[背景技術]

在半導體芯片濕法制程工藝設備和精密零件清洗設備中，常常會使用各種有機溶劑來處理產品，如去膠、去蠟、有機清洗等制程步驟。常用有機溶劑包括(無水乙醇、去膠液、丙酮等)。此類有機溶劑有易燃易爆炸、腐蝕性等特性。因此，有機溶劑清洗槽需要有一些特別的設計和制作方法，以提高產品清洗效果，提升設備安全性。

目前，此類清洗設備中對半導體芯片和精密零件有清洗效果差，清洗效率底，加熱不安全等缺陷。不能滿足半導體芯片和精密零件的對清洗設備的要求越來越高。因此，開發更有效率和更加安全的清洗設備是迫切的需求。

[實用新型內容]

本實用新型的目的就是要解決上述的不足而提供一種有機溶劑清洗槽，能夠提高產品清洗效果，提升設備安全性，克服了現有清洗設備所存在的清洗效果差、清洗效率低、加熱不安全等缺陷。

為實現上述目的設計一種有機溶劑清洗槽，包括零件放置架1、上下運動機構、內部清洗槽7以及外部加熱槽14，所述零件放置架1頂端連接上下運動機構，并在上下運動機構的帶動下做上下直線運動，所述零件放置架1底端伸入內部清洗槽7，所述內部清洗槽7上開設有內部清洗槽排出孔9、內部清洗槽進液孔10，所述內部清洗槽7內設置有內部清洗槽進液管5，所述內部清洗槽進液管5與內部清洗槽進液孔10連接，所述內部清洗槽7底端開設有廢液排除孔11，所述內部清洗槽7內底部置有超聲波震板13，所述內部清洗槽7設置于外部加熱槽14內并相互隔離，所述外部加熱槽14內底部安裝有加熱器12。

所述上下運動機構包括電動機3、凸輪2、滑軌4，所述電動機3帶動凸輪2旋轉，所述凸輪2的輸出端連接滑軌4，所述滑軌4在凸輪2的帶動下做上下直線運動，所述零件放置架1與滑軌4相連接。

所述外部加熱槽14頂部裝設有外部加熱槽傳感器8，所述外部加熱槽傳感器8電連接加熱器12。

所述零件放置架1采用不銹鋼316材質外部電解拋光處理。

所述內部清洗槽7、內部清洗槽進液管5均采用不銹鋼316材質外部電解拋光處理。

所述內部清洗槽7上部采用內部清洗槽溢流V槽(15)方式設計。

所述清洗槽進液管5底部采用多孔進液設計。

所述外部加熱槽14和加熱器12均采用不銹鋼304制作。

所述超聲波震板13采用不銹鋼316材質外部電解拋光處理。

本實用新型同現有技術相比，具有如下優點：

(1)利用電動機帶動凸輪旋轉，凸輪帶動滑軌使電機的圓周運動變成上下直線運動傳導給零件放置架。在內部清洗槽中零件放置架上下直線運動時使得待清洗零件做上下直線運動，這樣做可以使得傳動機械結構和內部清洗槽清洗溶劑分離，不污染內部清洗槽中清洗溶劑，且電動機離內部清洗槽較遠可以更方便的做防爆處理，提高設備安全性；

(2)待清洗零件在內部清洗槽中不斷的上下運動，使得待清洗零件不斷與新的清洗溶劑接觸，增加雜質溶解或者反應速度，不溶解雜質也可以更快從待清洗零件上剝離，提高清洗效果；