[實用新型]研磨液供給單元及具備其的基板研磨裝置有效
| 申請號: | 201721240939.0 | 申請日: | 2017-09-26 |
| 公開(公告)號: | CN207448235U | 公開(公告)日: | 2018-06-05 |
| 發明(設計)人: | 李昊俊;趙珳技 | 申請(專利權)人: | 凱斯科技股份有限公司 |
| 主分類號: | B24B57/02 | 分類號: | B24B57/02 |
| 代理公司: | 北京冠和權律師事務所 11399 | 代理人: | 朱健;陳國軍 |
| 地址: | 韓國京畿道安城*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 研磨墊 研磨液 研磨液供給單元 基板研磨裝置 彈性支撐部 彈性加壓 供給壓力 供給部 上浮 | ||
1.一種基板研磨裝置的研磨液供給單元,研磨液供給單元在基板研磨裝置中用于將研磨液供應于研磨墊,所述基板研磨裝置的研磨液供給單元包括:
外殼,其設置為下面從研磨墊表面上浮規定間隔;
研磨液供給部,其將研磨液供給于所述研磨墊,并且利用研磨液的供給壓力,對所述外殼的下面和所述研磨墊之間的間隔進行調節;以及
彈性支撐部,其設置于所述外殼的上部,相對于所述研磨墊對所述外殼進行彈性加壓。
2.根據權利要求1所述的基板研磨裝置的研磨液供給單元,其特征在于,
所述研磨液供給部包括沿著所述外殼的長度方向形成的多個孔或狹縫。
3.根據權利要求2所述的基板研磨裝置的研磨液供給單元,其特征在于,
所述研磨液供給部配置為至少一列以上。
4.根據權利要求2所述的基板研磨裝置的研磨液供給單元,其特征在于,
所述研磨液供給部形成為供應研磨液的軌跡至少與基板的直徑相同或更大。
5.根據權利要求2所述的基板研磨裝置的研磨液供給單元,其特征在于,
所述外殼在下面沿著所述外殼的長度方向形成有規定深度的研磨液供給槽,
所述研磨液供給部形成于所述研磨液供給槽內部。
6.根據權利要求5所述的基板研磨裝置的研磨液供給單元,其特征在于,
所述研磨液供給槽以相互平行的形式形成有多個,
在所述多個研磨液供給槽內部分別形成有研磨液供給部。
7.根據權利要求1所述的基板研磨裝置的研磨液供給單元,其特征在于,
所述彈性支撐部包括:
彈性加壓體,其設置于所述外殼的上部,使得所述外殼沿著相對于所述研磨墊加壓的方向作用加壓力;以及
位置調節部,其設置于所述彈性加壓體的后方,使得所述彈性支撐部的位置移動,從而對所述彈性支撐部的加壓力進行調節。
8.根據權利要求7所述的基板研磨裝置的研磨液供給單元,其特征在于,
所述位置調節部使得所述外殼以與所述研磨墊相接近或相隔開的形式垂直移動。
9.根據權利要求1所述的基板研磨裝置的研磨液供給單元,其特征在于,
所述外殼配置為在基板移動方向的前方與所述基板的直徑方向平行。
10.根據權利要求1所述的基板研磨裝置的研磨液供給單元,其特征在于,
所述外殼的下面形成為與所述研磨墊的表面相對應的平面。
11.根據權利要求1所述的基板研磨裝置的研磨液供給單元,其特征在于,
所述外殼在一側還設置有流動引導,流動引導對供給至所述外殼和所述研磨墊之間的所述研磨液的流動量進行調節。
12.根據權利要求11所述的基板研磨裝置的研磨液供給單元,其特征在于,
所述流動引導在所述外殼沿著所述研磨墊的旋轉方向設置于后方側下端部。
13.根據權利要求11所述的基板研磨裝置的研磨液供給單元,其特征在于,
所述流動引導在所述外殼沿著所述研磨墊的旋轉方向設置于前方及后方側下端部。
14.根據權利要求11所述的基板研磨裝置的研磨液供給單元,其特征在于,
所述流動引導形成為端部與所述研磨墊相接觸或相隔開一定間隔。
15.根據權利要求11所述的基板研磨裝置的研磨液供給單元,其特征在于,
所述流動引導全部或至少端部的一部分由彈性及柔軟性材質形成。
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