[實用新型]一種真空斷路器永磁機構有效
| 申請號: | 201721237796.8 | 申請日: | 2017-09-26 |
| 公開(公告)號: | CN207282397U | 公開(公告)日: | 2018-04-27 |
| 發明(設計)人: | 劉富饒;密鳳艷;李勐;王志鵬;劉巖;王剛;王丹;霍潤中 | 申請(專利權)人: | 日新恒通電氣有限公司 |
| 主分類號: | H01H33/666 | 分類號: | H01H33/666 |
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| 地址: | 132000 吉林*** | 國省代碼: | 吉林;22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 真空 斷路器 永磁 機構 | ||
技術領域
本實用新型涉及真空斷路器領域,特別是一種真空斷路器永磁機構。
背景技術
真空斷路器的永磁操動機構,采用永磁體嵌入永磁機構中,依靠永磁場的大小來保證真空斷路器的動作參數,但調整永磁場大小,只能靠重新拆裝機構中的永磁體來保證,此種方法費事、費力,且調整的數值不夠精確,往往需要反復調整。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種調整保持力的永磁機構,通過旋轉永磁機構的導向軸,來完成保持力的調整,從而達到結構簡單,拆裝方便,隨時可以精確調整保持力的效果。
為實現本目的,提供了以下技術方案:
一種真空斷路器永磁機構,包括動銜鐵、永磁體和圓柱形磁軛組,所述動銜鐵包括導向軸和動鐵芯,所述導向軸貫穿動鐵芯,所述磁軛組包括上磁軛、內磁軛、外磁軛和下磁軛,所述內磁軛與外磁軛為一體結構,內磁軛有凸臺,所述永磁體置于凸臺與外磁軛之間;
所述導向軸帶有可調節部位,上磁軛帶有刻度線;
所述導向軸與動鐵芯過盈配合,導向軸可旋轉,并帶動動鐵芯轉動。
優選地,所述的上磁軛與下磁軛通過螺釘固定在外磁軛上。
優選地,所述上磁軛通過六個螺釘固定在外磁軛上,六個螺釘兩兩成60度,且位于同一個圓上;下磁軛通過六個螺釘固定在外磁軛上,分布情況與上磁軛的六個螺釘相同。
優選地,所述的動鐵芯包括上端和下端,上端與導向軸過盈配合,下端與導向軸間隙配合,動鐵芯等距開有六個間隙槽。
優選地,合閘時,永磁體、內磁軛、動鐵芯、下磁軛、外磁軛形成導磁回路,實現合閘位置保持;分閘時,通過永磁體、外磁軛、上磁軛、動鐵芯、內磁軛形成導磁回路,實現分閘位置保持。
優選地,合閘位置時,保持力計算公式為F=10-6×B×H×S/8π,F為保持力,B為磁場與導磁材料作用面處的磁感應強度,H為磁場與導磁材料作用面處的磁場強度,S為磁場與導磁材料作用面的面積。
本實用新型的有益效果為:通過帶有可調節部位的導向軸和帶有刻度線的上磁軛,在導向軸帶動動鐵芯轉動的過程中,來實現保持力的精確調節,達到結構簡單,拆裝方便,隨時可以精確調整保持力的效果。
附圖說明
圖1為本永磁機構半剖圖;
圖2為本永磁機構俯視圖;
圖3為動銜鐵結構示意圖;
圖4為內外磁軛結構示意圖。
具體實施方式
如圖1所示為本永磁機構半剖圖,包括動銜鐵100、永磁體300和圓柱形磁軛組200,動銜鐵300包括導向軸101和動鐵芯102,導向軸101貫穿動鐵芯102,磁軛組200包括上磁軛201、內磁軛203、外磁軛202和下磁軛204,內磁軛203與外磁軛202為一體結構(如圖4所示),內磁軛203有凸臺,永磁體300置于凸臺與外磁軛202之間,永磁機構合閘時,永磁體300、內磁軛203、動鐵芯102、下磁軛204、外磁軛202形成導磁回路,實現合閘位置保持;分閘時,通過永磁體300、外磁軛202、上磁軛201、動鐵芯102、內磁軛203形成導磁回路,實現分閘位置保持。合閘位置時,保持力計算公式為F=10-6×B×H×S/8π,F為保持力,B為磁場與導磁材料作用面處的磁感應強度,H為磁場與導磁材料作用面處的磁場強度,S為磁場與導磁材料作用面的面積。
其中,導向軸101帶有可調節部位,上磁軛201帶有刻度線,導向軸101與動鐵芯102過盈配合,導向軸101可旋轉,并帶動動鐵芯102轉動通過改變動鐵芯102與內磁軛203不同的接觸位置,來改變磁場與導磁材料作用的面積即S,且通過導向軸101上的指針,與上磁軛201的刻度線,可以清楚的辨別調整的位置與方向。
其中,如圖2所示上磁軛201與下磁軛204通過螺釘固定在外磁軛202上。上磁軛201通過六個一級螺釘401固定在外磁軛202上,六個一級螺釘401兩兩成60度,且位于同一個圓上;下磁軛通過六個二級螺釘402固定在外磁軛202上,分布情況與上磁軛201的六個一級螺釘401相同。
其中,如圖3所示動鐵芯102包括上端111和下端110,上端111與導向軸102過盈配合,下端110與導向軸102間隙配合,動鐵芯102等距開有六個間隙槽112。
以上所述僅為本專利的優選實施例而已,并不用于限制本專利,對于本領域的技術人員來說,本專利可以有各種更改和變化。凡在本專利的精神和原則之內,所作的任何修改、等同替換、改進等,均應包含在本專利的保護范圍之內。
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