[實用新型]用于電鍍溶液中銀濃度的持續監控裝置

有效

• 申請號: 201721233864.3
• 申請日: 2017-09-25
• 公開（公告）號: CN207397114U
• 公開（公告）日: 2018-05-22
• 發明（設計）人: 王芳;王興平
• 申請（專利權）人: 確信樂思化學（上海）有限公司
• 主分類號: G05D11/04
• 分類號: G05D11/04
• 代理公司: 上海天翔知識產權代理有限公司 31224
• 代理人: 劉粉寶

1.用于電鍍溶液中銀濃度的持續監控裝置，其特征在于，所述持續監控裝置包括測定裝置、補加裝置和控制器，其中

所述測定裝置包括鍍液腔、冷卻腔以及探針，所述鍍液腔和所述冷卻腔之間通過進液管流體連通用來將鍍液腔中的鍍液抽取到冷卻腔中進行冷卻，所述冷卻腔和探針之間通過輸液管流體連通用于將冷卻腔中的鍍液抽取到探針中進行濃度檢測，所述探針與鍍液腔通過鍍液回流及排氣管流體連通用來待濃度檢測完畢后將探針中的鍍液回流到鍍液腔中；

所述補加裝置包括銀離子儲蓄器、定量加藥器、用于銀離子儲蓄器和定量加藥器之間流體連通的第二進液管、補充液回流及排氣管以及用于在定量加藥器和鍍液腔之間流體連通的定量加藥管，其中，所述定量加藥器內還設置一液位計，用來實時檢測其中的液位信息。

2.根據權利要求1所述的持續監控裝置，其特征在于，在所述測定裝置中，所述進液管上連有第一進液泵，所述輸液管上連接有第二進液泵，所述鍍液回流及排氣管上連有第二控制閥。

3.根據權利要求1所述的持續監控裝置，其特征在于，在所述補加裝置中，所述第二進液管上連有第三進液泵，所述補充液回流及排氣管上連有第三控制閥，所述定量加藥管上連有第三控制閥。