[實用新型]一種紫外LED芯片有效
| 申請號: | 201721230900.0 | 申請日: | 2017-09-22 |
| 公開(公告)號: | CN207529970U | 公開(公告)日: | 2018-06-22 |
| 發明(設計)人: | 何苗;楊思攀;趙韋人;王成民 | 申請(專利權)人: | 廣東工業大學 |
| 主分類號: | H01L33/62 | 分類號: | H01L33/62;H01L33/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 駱宗力;王寶筠 |
| 地址: | 510062 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 紫外發光二極管 紫外LED芯片 凹凸臺面 電連接 襯底 刻蝕 反向并聯連接 第二表面 反向電壓 靜電放電 靜電釋放 外部電極 外延結構 正向電壓 接觸層 抗靜電 申請 打擊 | ||
1.一種紫外LED芯片,其特征在于,包括:
第一襯底;
位于所述第一襯底第一表面的PN結結構,所述PN結結構包括基于所述第一襯底第一表面上排列生長的外延結構,依次包括氮化硅層、N型硅層、P型硅層、P型接觸層和薄膜導電層;
位于所述第一襯底第二表面上粘結的倒置后的外延結構,所述外延結構包括位于所述第一襯底第二表面依次排列的反射層、透明導電層、P型氮化鎵層、P型氮化鎵鋁層、電子阻擋層、多量子阱層、電流擴展層和N型氮化鎵鋁層,部分暴露出的透明導電層表面包括第一區域和P型電極區域,所述P型氮化鎵層覆蓋所述第一區域,所述P型電極區域表面設置有P型電極;
位于所述N型氮化鎵鋁層表面設置的N型電極;
所述外延結構的一端具有刻蝕處理后形成的凹凸臺面,所述凹凸臺面的刻蝕深度從頂部的N型氮化鎵鋁層開始直到暴露出透明導電層的P型電極區為止;
位于所述凹凸臺面內,貫穿所述透明導電層、反射層、第一襯底和氮化硅層的凹槽,所述凹槽基于所述凹凸臺面刻蝕這一端的PN結結構形成;
所述凹槽中填充有內部接觸層和隔離層,所述外延結構中的P型電極通過所述內部接觸層與所述PN結結構中的N型硅層電連接,所述隔離層包裹所述內部接觸層四周,以使所述內部接觸層的側壁與所述透明導電層、反射層和第一襯底均絕緣;
連接所述外延結構中N型電極與所述PN結結構中薄膜導電層的外部電極結構。
2.根據權利要求1所述的紫外LED芯片,其特征在于,還包括:
覆蓋所述凹凸臺面裸露表面的鈍化層。
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