[實(shí)用新型]一種用于衍射光學(xué)元件制作的涂膠調(diào)平裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201721213007.7
• 申請日: 2017-09-21
• 公開（公告）號(hào): CN207148351U
• 公開（公告）日: 2018-03-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蔡志堅(jiān);鄢紅日
• 申請（專利權(quán)）人: 蓋伯精工（蘇州）有限公司
• 主分類號(hào): G02B5/18
• 分類號(hào): G02B5/18
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及衍射光學(xué)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種用于衍射光學(xué)元件制作的涂膠調(diào)平裝置。

背景技術(shù)

衍射光學(xué)元件應(yīng)用于諸多領(lǐng)域，如光束整形、脈沖壓縮、光束采樣、激光合束等。隨著激光技術(shù)的發(fā)展，大功率激光器應(yīng)用的普及，對相關(guān)衍射光學(xué)元件的要求也越來越高，特別是在極強(qiáng)極短脈沖激光系統(tǒng)中，衍射光學(xué)元件需要承受極大的功率，因而需要依靠提高元件面積來提高所承受功率的上限。大面積衍射光學(xué)元件的制造主要分為光刻膠涂布、全息曝光、顯影、離子束刻蝕等幾個(gè)步驟，其中光刻膠涂布是至關(guān)重要的一個(gè)過程。涂膠工藝要求能在大面積上獲得厚度均勻可控的一層光刻膠膜，其難度隨面積的增大而增加。目前，主要采用旋轉(zhuǎn)涂膠方式來獲得均勻性較好的膠膜，它利用膠體的表面張力和旋轉(zhuǎn)涂膠時(shí)的離心力的平衡機(jī)制來實(shí)現(xiàn)膠厚的控制，對特定的光刻膠材料，轉(zhuǎn)速和膠厚之間有著確定的關(guān)系，因此可以實(shí)現(xiàn)精確的厚度控制。

涂膠能否成功取決于多方面的因素，一方面是涂膠基片的清洗，如果基片上殘留油漬、灰塵或其它成份，則后續(xù)衍射元件成品上可能出現(xiàn)膠層附著不牢、掉膠、顆粒狀斑點(diǎn)等瑕疵；另一方面是旋轉(zhuǎn)涂布，如果基片不平行于旋轉(zhuǎn)基面，則容易出現(xiàn)涂膠厚度不均勻等問題。因此涂膠工藝需要一種能方便進(jìn)行基片清洗、基片調(diào)平的裝置。

現(xiàn)有技術(shù)中，201510133314.3號(hào)專利公開了大口徑衍射光柵曝光裝置及大口徑衍射光柵的制備方法，其中涉及涂膠、曝光、顯影等各個(gè)步驟，對涂膠裝置沒有作具體的說明。200610105092.5號(hào)專利公開了載物平臺(tái)的調(diào)平裝置，公開了一種依靠絲桿、手輪的調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)。但是，均沒有光刻膠涂布的專用調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，也無法實(shí)現(xiàn)緊湊、小巧的基片平面調(diào)節(jié)，同時(shí)現(xiàn)有調(diào)節(jié)方法難以兼顧基片的清洗要求。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型所解決的技術(shù)問題在于提供一種結(jié)構(gòu)簡單緊湊、方便調(diào)節(jié)基片高度的用于衍射光學(xué)元件制作的涂膠調(diào)平裝置。

本實(shí)用新型提供一種用于衍射光學(xué)元件制作的涂膠調(diào)平裝置，包括涂膠架機(jī)構(gòu)和設(shè)置于所述涂膠架機(jī)構(gòu)處的多個(gè)調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)；所述涂膠架機(jī)構(gòu)包括涂膠架、設(shè)置于所述涂膠架底部的多個(gè)收容孔以及設(shè)置于所述涂膠架外圍的多個(gè)頂緊螺釘，所述涂膠架的中部設(shè)置有收容槽；每個(gè)所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)分別包括設(shè)置于所述收容孔中的調(diào)節(jié)塊、通過連桿與所述調(diào)節(jié)塊相連的支撐塊、穿過所述涂膠架與所述調(diào)節(jié)塊相連的調(diào)節(jié)螺桿以及套設(shè)于所述調(diào)節(jié)螺桿上的壓縮彈簧，所述壓縮彈簧的兩端分別與所述涂膠架和所述調(diào)節(jié)塊抵接，所述支撐塊位于所述收容槽中。

更進(jìn)一步的，所述調(diào)節(jié)塊與所述收容孔配合。

更進(jìn)一步的，所述收容孔的橫截面為三角形或者方形或者五邊形或者六邊形。

更進(jìn)一步的，所述多個(gè)頂緊螺釘分別位于所述涂膠架的兩側(cè)，所述多個(gè)調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)分別位于所述涂膠架的另外兩側(cè)。

更進(jìn)一步的，所述調(diào)節(jié)螺桿為內(nèi)六角的調(diào)節(jié)螺桿。

更進(jìn)一步的，所述頂緊螺釘包括四個(gè)，所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括四個(gè)，所述四個(gè)頂緊螺釘分別位于所述涂膠架的兩側(cè)，所述四個(gè)調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)分別位于所述涂膠架的另外兩側(cè)。

本實(shí)用新型的用于衍射光學(xué)元件制作的涂膠調(diào)平裝置，待涂膠的基片放置在所述涂膠機(jī)構(gòu)的收容槽中，由多個(gè)所述支撐塊支撐，當(dāng)旋動(dòng)所述調(diào)節(jié)螺桿時(shí)，由于所述調(diào)節(jié)塊被所述收容孔限制無法產(chǎn)生轉(zhuǎn)動(dòng)，只能上下滑動(dòng)，因此可以通過所述調(diào)節(jié)螺桿來調(diào)節(jié)所述調(diào)節(jié)塊的高度，從而實(shí)現(xiàn)了對所述支撐塊的高度的調(diào)節(jié)，即實(shí)現(xiàn)了基片高度的調(diào)節(jié)，調(diào)節(jié)完成后，通過所述多個(gè)頂緊螺釘即可將基片鎖緊；所述用于衍射光學(xué)元件制作的涂膠調(diào)平裝置結(jié)構(gòu)簡單緊湊小巧，可以調(diào)節(jié)基片的高度，同時(shí)方便對基片進(jìn)行清洗。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型的用于衍射光學(xué)元件制作的涂膠調(diào)平裝置的示意圖；

圖2為本實(shí)用新型的用于衍射光學(xué)元件制作的涂膠調(diào)平裝置的調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)的示意圖；

圖中標(biāo)記為：涂膠架機(jī)構(gòu)1，涂膠架11，收容孔12，頂緊螺釘13，收容槽14，調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)2，調(diào)節(jié)塊21，連桿22，支撐塊23，調(diào)節(jié)螺桿24，壓縮彈簧25。

具體實(shí)施方式

下面詳細(xì)描述本實(shí)用新型的實(shí)施方式，所述實(shí)施方式的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標(biāo)號(hào)表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的，旨在用于解釋本實(shí)用新型，而不能理解為對本實(shí)用新型的限制。