[實用新型]一種防著板及鍍膜設備

有效

• 申請號: 201721208792.7
• 申請日: 2017-09-20
• 公開（公告）號: CN207405230U
• 公開（公告）日: 2018-05-25
• 發明（設計）人: 肖亮;邊松林;顏毓雷;王召波;王效坤
• 申請（專利權）人: 合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262
• 代理人: 張京波;曲鵬

一種防著板及鍍膜設備，包括：在固定部兩側設置有臺階部的防著板；臺階部包括：設置在固定部第一側的第一臺階、設置在固定部第二側的第二臺階。本實用新型實施例降低了等離子體的污染及設備稼動率；減少了材料損耗及人力消耗。

技術領域

本文涉及但不限于薄膜沉積技術，尤指一種防著板及鍍膜設備。

背景技術

薄膜沉積技術在機械、電子、半導體等多個領域有著廣泛的應用，以薄膜場效應管液晶顯示器(TFT-LCD，Thin Film Transistor Liquid Crystal Display)為例，在其制造過程中一般采用真空等離子體磁控濺射鍍膜設備(后簡稱真空濺鍍設備)，應用物理氣相沉積(PVD，Physical Vapor Deposition)(工藝沉積金屬(比如銅(Cu)、鋁(Al)、鉬(Mo)等)和非金屬(如銦錫氧化物(ITO，Indium Tin Oxides)等)薄膜。PVD制備薄膜的原理為：在真空濺鍍設備中，濺射源在電場的作用下產生加速電子，加速電子與預先通入的惰性氣體(通常為氬(Ar))碰撞得到帶正電的粒子，帶正電的粒子受到陰極(靶材)的吸引而轟擊靶材表面的原子，被轟擊出來的靶材原子具有一定的動能，轉移至玻璃襯底上沉積而形成薄膜。然而，轟擊出來的靶材原子不僅僅沉積在玻璃襯底上，還會沉積在成膜腔室的其他非鍍膜區域，對腔室造成污染。為了防止靶材原子濺射到成膜腔室內部的除玻璃襯底之外的非鍍膜區域，需要在真空腔室中設置防著板，例如，在腔室的四周設置防著板。圖1為相關技術中一可選的防著板的組成示意圖，如圖1所示，為了增大防著板的附著能力，其表面通常設有均勻排布的凸起；為了保證腔室的潔凈和工藝的穩定，防著板需定期清洗；例如，一個或半個靶材周期進行一次清洗。

目前，高世代線TFT-LCD生產線中，靶材不是單獨的一塊，而是由多塊組成的，通常稱為多聯的；例如，由十塊靶材并排排列稱為十聯靶材；每一根靶材在成膜時都會形成自有的等離子體區域，為了防止相鄰靶材形成的離子體邊緣區域形成干涉，而影響成膜品質，在相鄰靶材之間設有防著板，以及供安裝防著板的支撐部；防著板通過螺釘將其兩端固定在支撐部上；為了防止固定螺釘表面被污染，造成更換時拆卸困難，還要對每個螺釘安裝防著帽；圖2為相關技術中防著板的端部放大示意圖，如圖2所示，為了便于實現防著帽的安裝，防著板的兩端固定部寬度比防著板主體寬度窄，形成了圖2中出現的通過左斜線填充的沒有遮擋的區域，本文為便于描述將該沒有遮擋的區域簡稱為無遮擋區。為了保證濺射時帶正電的粒子有效的轟擊靶材，將真空腔室內的靶材設計為帶負電(通常稱為陰極)，其他非成膜區域進行接地處理。靶材之間設置的支撐部為不銹鋼材質，其橫截面呈“T”型，防著板安裝于“T”型的“1”上，“一”主要起到防止支撐部變形的作用，靶材則安裝于“T”的或的拐角內，與其保持一定的安全距離，由于該距離很小，為防止支撐部和靶材導通，通常在“一”的兩側靠近靶材一面裝有絕緣樹脂螺釘。由于大世代線設備較高，相應的靶材較長，為了防止防著板變形，以及利于安裝，防著板被設計成兩根或多根；圖3為相關技術安裝防著板的示意圖，如圖3所示，安裝于同一根支撐部上的防著板彼此搭接成為一個整體。圖2所示的無遮擋區為等離子體污染該位置及其附近區域提供了可乘之機；當等離子體在無遮擋區附近的支撐部上成膜，由于所沉積的薄膜和支撐部熱膨脹系數的差異，以及支撐部表面附著力較差，當無遮擋區沉積薄膜的膜厚達到一定程度時，膜層如果脫落搭接在靶材和支撐部之間，會導致靶材和支撐部短路而無法起輝；圖4為相關技術靶材與支撐部短路示意圖，通過測試可以確定靶材與支撐部發生了短路；另外，等離子體也可能沉積在支撐部的絕緣樹脂螺釘上，使絕緣樹脂螺釘導電，導致靶材和支撐部短路，絕緣樹脂螺釘導電后可能被燒毀；此類問題在生產中是非常嚴重的，只有停機開腔才能解決，從而影響設備稼動率，以及造成不必要的材料損耗(1、純鋁靶材在生命周期內開腔可能會導致靶材表面氧化，如果繼續生產，可能會造成靶材邊緣非刻蝕區膜層的脫落，異常放電，以及嚴重的濺落(Splash)等不良，造成品質事故，因此如果出現問題的腔室安裝的是純鋁靶材，則該靶材必須下機，經重新切割打磨處理才可再次上機；2、更換的防著板和支撐部等)及大量的人力消耗。