[實(shí)用新型]一種含硅廢水處理的裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201721197921.7
• 申請(qǐng)日: 2017-09-19
• 公開（公告）號(hào): CN207330470U
• 公開（公告）日: 2018-05-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 袁培德
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣州市豫泉凈水材料有限公司
• 主分類號(hào): C02F1/60
• 分類號(hào): C02F1/60
• 代理公司: 廣州市華學(xué)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44245
• 代理人: 張澤鋒

1.一種含硅廢水處理的裝置，其特征在于：包括機(jī)體、頂板、泵座和排污管，所述機(jī)體上面設(shè)置有所述頂板，所述頂板上設(shè)置有儲(chǔ)料倉(cāng)，所述儲(chǔ)料倉(cāng)上面設(shè)置有進(jìn)料管，所述儲(chǔ)料倉(cāng)底面設(shè)置有出料管，所述出料管內(nèi)部設(shè)置有電磁閥一，所述頂板旁側(cè)設(shè)置有進(jìn)水管，所述機(jī)體外側(cè)中部設(shè)置有所述泵座，所述泵座上設(shè)置有吸泵，所述吸泵端部設(shè)置有排水管路，所述吸泵另一端部設(shè)置有出水管，所述泵座下方設(shè)置有所述排污管，所述排污管內(nèi)部設(shè)置有電磁閥二，所述機(jī)體內(nèi)部中部設(shè)置有支座，所述支座上設(shè)置有安裝架，所述安裝架底面設(shè)置有支撐架，所述支撐架端部設(shè)置有離子傳感器，所述支撐架旁側(cè)設(shè)置有伺服電機(jī)，所述伺服電機(jī)端部設(shè)置有轉(zhuǎn)軸，所述轉(zhuǎn)軸端部設(shè)置有攪拌葉片，所述機(jī)體內(nèi)部底面設(shè)置有電加熱板，所述電加熱板上設(shè)置有溫度傳感器。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種含硅廢水處理的裝置，其特征在于：所述機(jī)體的材料為304不銹鋼，厚度不低于50mm，所述頂板的材料為鑄鐵，所述頂板焊接在所述機(jī)體上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種含硅廢水處理的裝置，其特征在于：所述儲(chǔ)料倉(cāng)的材料為鋁合金，表面為氧化鋁，所述儲(chǔ)料倉(cāng)的容積大于100L，所述進(jìn)料管通過(guò)螺紋固定在所述儲(chǔ)料倉(cāng)上，所述出料管通過(guò)螺紋固定在所述儲(chǔ)料倉(cāng)上。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種含硅廢水處理的裝置，其特征在于；所述吸泵為耐酸堿泵，所述吸泵的流量為160L/min，所述吸泵通過(guò)螺釘固定在所述泵座上。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種含硅廢水處理的裝置，其特征在于：所述電磁閥一通過(guò)螺紋件固定在所述出料管上，所述電磁閥二通過(guò)螺紋件固定在所述排污管上，所述電磁閥一和所述電磁閥二的響應(yīng)時(shí)間不超過(guò)1.5ms。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種含硅廢水處理的裝置，其特征在于：所述安裝架的材料為球墨鑄鐵，所述安裝架的厚度不低于60mm，所述安裝架與所述支座的連接方式為焊接。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種含硅廢水處理的裝置，其特征在于：所述支撐架的材料為PVC管，所述支撐架的橫截面為正四邊形或圓形中的一種，所述支撐架與所述安裝架通過(guò)螺紋連接。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種含硅廢水處理的裝置，其特征在于：所述離子傳感器的精確度誤差小于0.1％，所述離子傳感器的連續(xù)工作時(shí)間不能超過(guò)12小時(shí)，清理周期不能超過(guò)24小時(shí)，所述離子傳感器通過(guò)螺紋固定在所述支撐架上。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種含硅廢水處理的裝置，其特征在于：所述伺服電機(jī)的數(shù)量為兩個(gè)，所述伺服電機(jī)通過(guò)螺釘固定在所述安裝架上，所述伺服電機(jī)的防水等級(jí)為IP15，所述轉(zhuǎn)軸的橫截面為圓形或正六邊形的一種，所述攪拌葉片通過(guò)螺紋固定在所述轉(zhuǎn)軸上，所述電加熱板的額度功率為2000W，所述電加熱板的加熱溫度范圍為80℃到300℃，所述溫度傳感器的誤差不超過(guò)0.5攝氏度，所述溫度傳感器通過(guò)卡箍固定在所述電加熱板上。