[實(shí)用新型]電鍍系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201721195569.3 | 申請(qǐng)日: | 2017-09-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN207828440U | 公開(公告)日: | 2018-09-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鄭文鋒;許吉昌;孫尚培;吳博軒;許宏瑋 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 先豐通訊股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C25D17/00 | 分類號(hào): | C25D17/00 |
| 代理公司: | 北京申翔知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11214 | 代理人: | 黃超;周春發(fā) |
| 地址: | 中國臺(tái)灣桃園市觀*** | 國省代碼: | 中國臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電鍍 陽極 遮蔽區(qū)域 輔助板 電鍍系統(tǒng) 電鍍液 本實(shí)用新型 電場(chǎng)分布 金屬鍍層 不導(dǎo)電 電鍍槽 遮蔽件 板體 遮蔽 沉積 流動(dòng) 應(yīng)用 | ||
本實(shí)用新型的電鍍輔助板應(yīng)用于電鍍系統(tǒng),其主要具有一不導(dǎo)電的板體,設(shè)置于該陽極與該待鍍面之間,該電鍍輔助板將該陽極部分遮蔽而形成遮蔽區(qū)域,而該電鍍輔助板設(shè)有的遮蔽件朝向于該陽極,可阻斷遮蔽區(qū)域處的電鍍液與電鍍槽其他區(qū)域的電鍍液間的流動(dòng),即可以更為積極、可靠的手段阻止金屬鍍層沉積于相對(duì)該遮蔽區(qū)域的待鍍面上,具有調(diào)整電鍍時(shí)的電場(chǎng)分布的能力。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型有關(guān)一種電鍍輔助板及應(yīng)用其的電鍍系統(tǒng),特別是一種以更為積極、可靠的手段來調(diào)整電鍍時(shí)的電場(chǎng)分布以及金屬離子擴(kuò)散路徑的電鍍輔助板。
背景技術(shù)
電鍍?yōu)橐环N電解反應(yīng),利用電解反應(yīng)把一種金屬鍍?cè)诹硪环N金屬的表面上,以形成一層金屬外殼薄膜,我們將這樣的過程稱為電鍍。而電鍍技術(shù)廣泛的應(yīng)用在各種不同用途與不同領(lǐng)域上。從早期以美觀為主的裝飾用途,如于容器表面上形成一具有光澤的薄膜,漸漸發(fā)展到現(xiàn)今應(yīng)用于高科技產(chǎn)業(yè),如半導(dǎo)體的制程中,是現(xiàn)今科技產(chǎn)業(yè)中不可或缺的一項(xiàng)技術(shù)。
一般而言,電鍍技術(shù)的流程包括提供一電鍍槽、一電鍍液、一陰極、一陽極、一待鍍物以及一電鍍金屬。其中電鍍液、陰極、陽極、待鍍物以及電鍍金屬皆位于電鍍槽內(nèi),而待鍍物與陰極耦接,電鍍金屬則與陽極耦接。如此配置,當(dāng)施予陰極與陽極間一外加電壓V時(shí),電鍍金屬會(huì)析出電鍍金屬離子M+,而待鍍物表面則會(huì)聚集電子e-。此帶正電荷的電鍍金屬離子M+會(huì)被電子e-所帶的負(fù)電荷所吸引,以電鍍液做為介質(zhì) (medium)而流向待鍍物表面。當(dāng)電鍍金屬離子M+抵達(dá)待鍍物表面時(shí),便會(huì)與電子e-結(jié)合而形成金屬原子,并沉積于待鍍物表面,形成電鍍金屬層。當(dāng)電鍍金屬完全析出或是停止施加外加電壓V時(shí),電鍍反應(yīng)便停止。
目前已知的電鍍系統(tǒng),則可依電鍍金屬提供方式區(qū)分為溶解性陽極電鍍系統(tǒng)及不溶解陽極電鍍系統(tǒng)。在不溶解性陽極電鍍系統(tǒng)中,當(dāng)電流從陽極頂部流至陽極底部時(shí),其電流量會(huì)因電阻而遞減,換言之,在陽極頂部處,由于通過此處的電流較大,因此較多的金屬離子被分解釋放,而通過下方部位所通過的電流較通過上方部位的電流少,因此較少的金屬離子被分解釋放出來,進(jìn)而在電鍍槽中產(chǎn)生電力線分布并不均勻(即電流的密度分布不均勻)的現(xiàn)象。此現(xiàn)象將造成產(chǎn)品位在電力線密度較高即電流密度大的區(qū)域處鍍層相對(duì)較厚,反之產(chǎn)品位在電力線密度較低即電流密度小的區(qū)域則鍍層相對(duì)較薄,因此使得產(chǎn)品表面鍍層的膜厚均勻度不佳,厚度不均勻的鍍層極可能影響后續(xù)制程或產(chǎn)品效能,進(jìn)而降低整體制程良率。
故市面上出現(xiàn)一種以多個(gè)陽極分別供電并分別產(chǎn)生所需的電流密度,來達(dá)到均勻電鍍的作用,如中國臺(tái)灣專利公告號(hào)第I530593號(hào),其主要提供一種多陽極控制裝置,搭配一陰極連接件使用,所述陰極連接件電性連接于基板的一邊,該多陽極控制裝置包括:一陽極模組,包含彼此并排且之間相隔一間距的多數(shù)陽極網(wǎng);以及一供電控制模組,分別電性連接于各該陽極網(wǎng),該供電控制模組對(duì)各該陽極網(wǎng)分別供電,以在各該陽極網(wǎng)分別產(chǎn)生所需的電流密度,能使各陽極網(wǎng)所分別獲得的電流密度,與基板不同位置所分別獲得的陰極電彼此互補(bǔ),從而對(duì)基板進(jìn)行均勻電鍍。
上述習(xí)有多陽極技術(shù)雖然可以達(dá)到均勻電鍍的功效,及控制電場(chǎng)分布;然,整體多陽極控制裝置結(jié)構(gòu)組成較為復(fù)雜,成本也相對(duì)較高;再者,由于陽極網(wǎng)的邊際效應(yīng),使得陽極網(wǎng)邊際的電流密度反而會(huì)增加,所以實(shí)際上仍需視情況利用供電控制模組分別調(diào)整提供給各陽極網(wǎng)的電流,如此造成了使用上的不便利性。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型所解決的技術(shù)問題即在提供一種電鍍輔助板及應(yīng)用其的電鍍系統(tǒng),特別是一種以更為積極、可靠的手段來調(diào)整電鍍時(shí)的電場(chǎng)分布以及金屬離子擴(kuò)散路徑的電鍍輔助板。
本實(shí)用新型所采用的技術(shù)手段如下所述。
本實(shí)用新型中電鍍輔助板應(yīng)用于電鍍系統(tǒng),為不導(dǎo)電的板體,且該板體具有至少一側(cè)面,該至少一側(cè)面處設(shè)有一遮蔽件,該遮蔽件突出于該板體表面一預(yù)定高度。
在一優(yōu)選具體實(shí)施方案中,進(jìn)一步設(shè)有一驅(qū)動(dòng)模組,與該電鍍輔助板連結(jié),可帶動(dòng)該電鍍輔助板位移。
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