[實用新型]一種適用于RIE刻蝕的載板裝置

有效

• 申請號: 201721181829.1
• 申請日: 2017-09-15
• 公開（公告）號: CN207233761U
• 公開（公告）日: 2018-04-13
• 發明（設計）人: 胡茂界;夏利鵬;秦崇德;方結彬;何達能;陳剛
• 申請（專利權）人: 廣東愛康太陽能科技有限公司
• 主分類號: H01L31/18
• 分類號: H01L31/18;H01L21/673
• 代理公司: 北京中濟緯天專利代理有限公司11429
• 代理人: 孔凡亮

技術領域

本實用新型涉及一種載板裝置，具體涉及一種適用于RIE刻蝕的載板裝置，屬于太陽能電池技術領域。

背景技術

目前多晶硅太陽能電池的酸制絨工藝優化已經達到瓶頸，無法進一步降低硅片表面的反射率，但是通過干法RIE刻蝕在硅片表面形成納米級的凹坑，可有效的降低硅片的反射率，增加太陽光的吸收，提升電池片的電流。

硅片在RIE刻蝕生產過程中，需要一種載板，其能夠承載硅片在機器內部傳輸，進行工藝過程，因此載板的結構會直接影響硅片RIE刻蝕的效果和工藝的穩定性。

載板中陪片位置用于放置陪片(硅片分隔成需要的小硅片)，陪片可有效的保證硅片刻蝕的均勻性。但現有載板中僅設有簡單的定位點，通過簡單的定位點不能很好的固定陪片，生產過程中易導致缺失。

發明內容

針對上述現有技術存在的問題，本實用新型提供一種適用于RIE刻蝕的載板裝置，使陪片穩固安裝在載板上，確保硅片表面形成一層均勻納米級凹坑。

為了實現上述目的，本實用新型采用的一種適用于RIE刻蝕的載板裝置，包括用于傳輸硅片的鋁載體，還包括設置在鋁載體內的若干用于放置硅片的硅片位、用于分隔硅片位的定位點、及設置在鋁載體四周邊緣上的若干陪片位；

所述鋁載體呈方形，所述硅片位具有四十個，硅片位均勻分布在所述鋁載體上，通過所述定位點相互隔開；

所述陪片位具有二十八個，陪片位通過定位點與所述硅片位隔開。

作為改進，所述陪片位采用凹槽狀，且陪片安裝在凹槽狀的陪片位內時，陪片的上表面與硅片的上表面齊平。

作為改進，所述鋁載體呈長方形，陪片位兩兩對稱設置在鋁載體四周邊緣上。

作為改進，所述鋁載體的兩長邊上各設有九個陪片位，兩短邊上各設有五個陪片位。

作為改進，所述鋁載體的內部橫向設有八個硅片位，縱向設有五個硅片位。

作為改進，所述定位點的形狀為橢圓形。

作為改進，所述硅片位、定位點、陪片位均由鋁材制成。

與現有技術相比，本實用新型可實現陪片牢固的固定在載板上，不會在生產過程中發生陪片缺失，避免影響RIE刻蝕效果，有效保證工藝的穩定性，使硅片表面形成一層均勻納米級凹坑。

附圖說明

圖1為本實用新型的俯視結構示意圖；

圖2為本實用新型中定位點的結構示意圖；

圖3為本實用新型的外部結構示意圖；

圖中：1、鋁載體，2、硅片位，3、定位點，4、陪片位。

具體實施方式

為使本實用新型的目的、技術方案和優點更加清楚明了，下面通過附圖及實施例，對本實用新型進行進一步詳細說明。但是應該理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型，并不用于限制本實用新型的范圍。

除非另有定義，本文所使用的所有的技術術語和科學術語與屬于本實用新型的技術領域的技術人員通常理解的含義相同，本文中在本實用新型的說明書中所使用的術語只是為了描述具體的實施例的目的，不是旨在于限制本實用新型。

如圖1、圖2和圖3所示，一種適用于RIE刻蝕的載板裝置，包括用于在RIE刻蝕機和RIE刻蝕上下料機的傳輸系統上傳輸硅片的鋁載體1，還包括設置在鋁載體1內的若干用于放置硅片的硅片位2、用于分隔硅片位2的定位點3、及設置在鋁載體1四周邊緣上的若干陪片位4；

所述鋁載體1呈方形，所述硅片位2具有四十個，硅片位2均勻分布在所述鋁載體1上，通過所述定位點3相互隔開；

所述陪片位4具有二十八個，陪片位4通過定位點3與所述硅片位2隔開。

作為實施例的改進，所述陪片位4采用凹槽狀，且陪片安裝在凹槽狀的陪片位4內時，陪片的上表面與硅片的上表面齊平。采用凹槽狀設計，可實現陪片與硅片上表面在同一水平面上，有利于硅片邊緣位置充分RIE刻蝕

作為實施例的改進，所述鋁載體1呈長方形，陪片位4兩兩對稱設置在鋁載體1四周邊緣上。進一步的，所述鋁載體1的兩長邊上各設有九個陪片位4，兩短邊上各設有五個陪片位4，結構設計合理，加工方便，且陪片的安裝更穩固、高效。

作為實施例的改進，所述鋁載體1的內部橫向(圖1所示的長邊所在方向)設有八個硅片位2，縱向設有五個硅片位2。

作為實施例的改進，如圖2所示，所述定位點3的形狀為橢圓形，不會對硅片邊緣造成損傷。如圖1所示，位于鋁載體1內的用于隔開相鄰硅片位2的定位點3呈方形(四個定位點為一組)布置，以確保定位點3四周的硅片不會出現邊緣損傷。