[實用新型]一種可實現(xiàn)均勻滴料的供料裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201721179446.0
• 申請日: 2017-09-14
• 公開（公告）號: CN207448177U
• 公開（公告）日: 2018-06-05
• 發(fā)明（設計）人: 劉佩偉
• 申請（專利權）人: 上海懷德機電有限公司
• 主分類號: B24B37/34
• 分類號: B24B37/34;B24B57/02
• 代理公司: 北京易光知識產(chǎn)權代理有限公司 11596
• 代理人: 李韻

本實用新型公開了一種可實現(xiàn)均勻滴料的供料裝置，包括電機一和電機二，所述電機一連接滾輪，所述電機二上設置旋轉導桿，所述旋轉導桿的下方設置導料槽，所述旋轉導桿上設置滾筒，所述滾筒上設置閥體，所述閥體包括閥座，所述閥座內設置閥體出料部分，所述閥座外設置閥體偏心取料部分，所述閥體偏心取料部分設置存料腔，所述存料腔設置料液溢出口，所述閥體出料部分與存料腔之間設置導出孔，所述閥體偏心取料部分上設置取料管；本實用新型提供的可實現(xiàn)均勻滴料的供料裝置，閥體結構及供料方式，采用敞口式的偏心結構，可防止料液的沉淀和堵塞，整個供料過程流暢、穩(wěn)定，能給研磨拋光輸出均勻、精確的料液量，從而確保研磨加工工藝的穩(wěn)定性和精確性。

技術領域

本實用新型屬于光學晶體、半導體晶片等的研磨和拋光領域，進一步說，尤其涉及一種可實現(xiàn)均勻滴料的供料裝置。

背景技術

研磨拋光機的原理，就是通過磨料與研磨盤、拋光墊等配合，對材料表面進行加工處理。因此，研磨拋光料的供給也是重要的一環(huán)。在精密光學及半導體器件的加工中，均勻可控的磨拋料供給不僅能達到最佳的表面加工質量，實現(xiàn)工藝穩(wěn)定，亦可節(jié)約成本，提高效率。

目前的供料方式主要采用電機攪拌式，容器內采用電機轉子攪拌，然后通過液體泵將料液抽到盤面上。電機攪拌式的流量一般都比較大，旋轉閥控制不靈敏，而且流量不能精細控制，且當工藝暫停時，料液容易沉淀，再次啟動需要一段時間才攪拌均勻。

實用新型內容

本實用新型為解決上述技術問題而采用的技術方案是提供一種可實現(xiàn)均勻滴料的供料裝置，其中，具體技術方案為：

包括電機一和電機二，所述電機一連接滾輪，所述電機二上設置旋轉導桿，所述旋轉導桿的下方設置導料槽，所述旋轉導桿上設置滾筒，所述滾筒上設置閥體，所述閥體包括閥座，所述閥座內設置閥體出料部分，所述閥座外設置閥體偏心取料部分，所述閥體偏心取料部分設置存料腔，所述存料腔設置料液溢出口，所述閥體出料部分與存料腔之間設置導出孔，所述閥體偏心取料部分上設置取料管。

上述的可實現(xiàn)均勻滴料的供料裝置，其中：所述閥體出料部分和閥體偏心取料部分為一整體，所述閥體偏心取料部分與閥體出料部分連接后形成偏心結構

本實用新型相對于現(xiàn)有技術具有如下有益效果：閥體結構及供料方式，采用敞口式的偏心結構，可防止料液的沉淀和堵塞，整個供料過程流暢、穩(wěn)定，能給研磨拋光輸出均勻、精確的料液量，從而確保研磨加工工藝的穩(wěn)定性和精確性。

附圖說明

圖1為可實現(xiàn)均勻滴料的供料裝置的結構示意圖。

圖2為可實現(xiàn)均勻滴料的供料裝置的結構示意圖。

圖3為滾筒和閥體的結構示意圖。

圖4-9為閥體的結構示意圖。

圖中：

1、閥座 2、閥體出料部分 3、閥體偏心取料部分 4、取料管 5、存料腔 6、料液溢出口 7、導出孔 8、料液 9、取料管出口

具體實施方式

下面結合附圖和實施例對本實用新型作進一步的描述。

本實用新型采用一種可旋轉的定量偏心導流閥，再配合電機轉動，以提供精確均勻的供料，不堵塞管路，適合沉淀式的研磨液和懸浮狀拋光液。