[實用新型]石墨盤收集裝置有效
| 申請號: | 201721175348.X | 申請日: | 2017-09-13 |
| 公開(公告)號: | CN207116386U | 公開(公告)日: | 2018-03-16 |
| 發明(設計)人: | 向軍 | 申請(專利權)人: | 江蘇新智達新能源設備有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/673 |
| 代理公司: | 常州市權航專利代理有限公司32280 | 代理人: | 袁興隆 |
| 地址: | 214000 江蘇省無錫市濱湖區隱*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 石墨 收集 裝置 | ||
1.一種石墨盤收集裝置,包括托盤(1)和石墨盤匣(2),所述托盤(1)上放置有石墨盤,其特征在于:還包括水平導軌(3)、水平滑塊(4)和水平電機(5),所述水平導軌(3)水平固定設置,其一側設置所述石墨盤匣(2),另一側設置有水平推桿(6);所述水平滑塊(4)安裝在所述水平導軌(3)上,所述水平導軌(3)在所述水平電機(5)的驅動下轉動并能驅動所述水平滑塊(4)沿水平導軌(3)運動,所述托盤(1)固定設置在所述水平滑塊(4)上;所述水平推桿(6)正對于所述石墨盤匣(2),所述石墨盤匣(2)面對于所述水平推桿(6)的一側敞開,所述水平推桿(6)的高度與所述托盤(1)上的石墨盤的高度相等。
2.如權利要求1所述的石墨盤收集裝置,其特征在于:所述石墨盤收集裝置還包括豎直導軌(7)、豎直滑塊(8)和豎直電機(9),所述豎直導軌(7)固定設置,所述豎直滑塊(8)安裝在所述豎直導軌(7)上,所述豎直導軌(7)在所述豎直電機(9)的驅動下轉動并能驅動所述豎直滑塊(8)沿豎直方向運動,所述石墨盤匣(2)固定設置在所述豎直滑塊(8)上。
3.如權利要求2所述的石墨盤收集裝置,其特征在于:所述石墨盤收集裝置還包括氣動線性滑臺(10),所述氣動線性滑臺(10)的滑軌豎直固定設置,所述水平推桿(6)固定設置在所述氣動線性滑臺(10)的滑臺上。
4.如權利要求3所述的石墨盤收集裝置,其特征在于:所述石墨盤匣(2)的內腔水平設置有若干個滑槽(11),所述滑槽(11)面對于所述水平推桿(6)的一側敞開并且所述滑槽(11)的長度方向與所述水平推桿(6)的伸出方向平行設置。
5.如權利要求4所述的石墨盤收集裝置,其特征在于:所述石墨盤收集裝置還設置有氣缸(12),所述氣缸(12)的缸體固定設置在托盤(1)上,所述氣缸(12)的活塞桿上設置有定位銷(13),所述定位銷(13)可插入所述托盤(1)上的石墨盤中。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





