[實用新型]粉倉防滲粉結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721173740.0 | 申請日: | 2017-09-12 |
| 公開(公告)號: | CN207216277U | 公開(公告)日: | 2018-04-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 黃鵬 | 申請(專利權(quán))人: | 中山沃蒙斯打印耗材有限公司 |
| 主分類號: | G03G15/08 | 分類號: | G03G15/08 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司44202 | 代理人: | 溫旭 |
| 地址: | 528400 *** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 防滲 結(jié)構(gòu) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及一種粉倉防滲粉結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
在現(xiàn)有技術(shù)中,在運輸過程中,粉倉與出粉筒之間緊靠海綿來實現(xiàn)密封,而出粉筒會受到內(nèi)部碳粉的壓力下沉從而導(dǎo)致漏粉的發(fā)生,造成資源的浪費,同時污染了周邊的物品。
實用新型內(nèi)容
本實用新型所要解決的技術(shù)問題在于提供一種粉倉防滲粉結(jié)構(gòu)。
本實用新型提供一種粉倉防滲粉結(jié)構(gòu),包括粉倉以及套設(shè)于粉倉內(nèi)的出粉筒,在粉倉側(cè)壁開有第一出粉口,在粉筒側(cè)壁開有與第一出粉口相對應(yīng)的第二出粉口,在粉筒側(cè)壁位于第二出粉口一側(cè)具有凹槽,凹槽的周邊環(huán)設(shè)有海綿層,海綿層的內(nèi)圈大小第一出粉口的大小相適應(yīng),在粉倉內(nèi)側(cè)壁設(shè)有托架部,出粉筒套設(shè)于粉倉內(nèi)一端嵌入托架部內(nèi)。
采用本實用新型實施例提供的粉倉防滲粉結(jié)構(gòu),可以達到以下技術(shù)效果:由于在運輸過程中,第一出粉口與凹槽周邊的海綿層的內(nèi)圈相重合,并且采用托架撐托住粉筒不會下沉,從而保證出粉筒與粉倉之間的間隙不會增加,海綿層受到擠壓避免碳粉的滲漏,節(jié)約資源,保護環(huán)境,適用于大規(guī)模推廣應(yīng)用。
附圖說明
此處所說明的附圖用來提供對本實用新型的進一步理解,構(gòu)成本申請的一部分,本實用新型的示意性實施例及其說明用于解釋本實用新型,并不構(gòu)成對本實用新型的不當(dāng)限定。在附圖中:
圖1示意性示意出本實用新型實施例給出的粉倉防滲粉結(jié)構(gòu)的外部結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2示意性示意出本實用新型實施例給出的粉倉防滲粉結(jié)構(gòu)的爆炸圖;
圖3示意性示意出本實用新型實施例給出的粉倉防滲粉結(jié)構(gòu)的局部剖視圖。
具體實施方式
下面將參考附圖并結(jié)合實施例,來詳細(xì)說明本實用新型。
參照附圖,本實用新型實施例提供一種粉倉防滲粉結(jié)構(gòu),包括粉倉1以及套設(shè)于粉倉1內(nèi)的出粉筒2,在粉倉1側(cè)壁開有第一出粉口3,在粉筒側(cè)壁開有與第一出粉口3相對應(yīng)的第二出粉口4,在粉筒側(cè)壁位于第二出粉口4一側(cè)具有凹槽5,凹槽5的周邊環(huán)設(shè)有海綿層(圖中未畫出),海綿層的內(nèi)圈大小第一出粉口3的大小相適應(yīng),在粉倉1內(nèi)側(cè)壁設(shè)有托架部6,出粉筒2套設(shè)于粉倉1內(nèi)一端鑲嵌安裝于托架部6內(nèi)。
該粉倉防滲粉結(jié)構(gòu)的工作原理如下:
出粉狀態(tài):出粉筒2在粉倉1內(nèi)旋轉(zhuǎn),直至第一出粉口3和第二出粉口4相重合;
運輸狀態(tài):出粉筒2在粉倉1內(nèi)旋轉(zhuǎn),直至第一出粉口3和第二出粉口4完全錯開,第一出粉口3與凹槽5周邊的海綿層的內(nèi)圈相重合。
采用本實用新型實施例提供的粉倉防滲粉結(jié)構(gòu),可以達到以下技術(shù)效果:由于在運輸過程中,第一出粉口3與凹槽5周邊的海綿層的內(nèi)圈相重合,并且采用托架撐托住出粉筒2不會下沉,從而保證出粉筒2與粉倉1之間的間隙不會增加,海綿層受到擠壓避免碳粉的滲漏,節(jié)約資源,保護環(huán)境,適用于大規(guī)模推廣應(yīng)用。
以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例而已,并不用于限制本實用新型,對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說,本實用新型可以有各種更改和變化。凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進等,均應(yīng)包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
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G03G 電記錄術(shù);電照相;磁記錄
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G03G15-01 .用于生產(chǎn)多色復(fù)制品的
G03G15-02 .用于沉積均勻電荷的,即感光用的;電暈放電裝置
G03G15-04 .曝光用的,即將原件圖像光學(xué)投影到光導(dǎo)記錄材料上而進行圖像曝光
G03G15-05 .用于圖像充電,例如,光敏控制屏、光觸發(fā)充電裝置
G03G15-054 .用X射線,例如,電放射術(shù)
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