[實(shí)用新型]高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201721163764.8 | 申請(qǐng)日: | 2017-09-08 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN207362324U | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-05-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 東野斯陽(yáng);張誠(chéng);陳亮 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 霍爾果斯迅奇信息科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/26 | 分類號(hào): | C23C14/26 |
| 代理公司: | 北京漢昊知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11370 | 代理人: | 馮譜 |
| 地址: | 835221 新疆維吾爾自治區(qū)伊犁哈薩克自治*** | 國(guó)省代碼: | 新疆;65 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 高頻 感應(yīng) 加熱 蒸發(fā) 裝置 | ||
1.一種高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)裝置,該高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)裝置包括:
多個(gè)坩堝、坩堝支架、感應(yīng)線圈、移動(dòng)機(jī)構(gòu)以及密封機(jī)構(gòu),其中,所述多個(gè)坩堝、所述坩堝支架、所述感應(yīng)線圈設(shè)置在真空室中,所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述真空室外;
所述多個(gè)坩堝,用于盛放鍍膜材料;
所述坩堝支架,用于對(duì)所述多個(gè)坩堝進(jìn)行支撐;
所述移動(dòng)機(jī)構(gòu),延伸至所述真空室中與所述坩堝支架連接,用于驅(qū)動(dòng)所述多個(gè)坩堝中的目標(biāo)坩堝移動(dòng)使所述目標(biāo)坩堝進(jìn)入所述感應(yīng)線圈內(nèi);
所述感應(yīng)線圈,用于通過(guò)通入高頻電流對(duì)所述目標(biāo)坩堝內(nèi)的鍍膜材料進(jìn)行加熱蒸發(fā);
所述密封機(jī)構(gòu),設(shè)置在所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)和所述真空室之間,用于在所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)和所述真空室之間形成密封。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)裝置,其特征在于:
所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)包括升降機(jī)構(gòu)和旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu);
所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)延伸至所述真空室中與所述坩堝支架連接,用于驅(qū)動(dòng)所述坩堝支架旋轉(zhuǎn)以帶動(dòng)所述目標(biāo)坩堝旋轉(zhuǎn);
所述升降機(jī)構(gòu)與所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)連接,用于通過(guò)驅(qū)動(dòng)所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)升降以帶動(dòng)所述坩堝支架升降進(jìn)而帶動(dòng)所述目標(biāo)坩堝升降;或者,所述升降機(jī)構(gòu)延伸至所述真空室中,用于驅(qū)動(dòng)所述目標(biāo)坩堝升降;
所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)和所述升降機(jī)構(gòu)配合工作使所述目標(biāo)坩堝進(jìn)入所述感應(yīng)線圈內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)裝置,其特征在于:
所述坩堝支架在所述真空室中水平設(shè)置;
所述多個(gè)坩堝在所述坩堝支架上沿圓周分布;
所述感應(yīng)線圈設(shè)置在所述圓周正下方的位置上;
所述升降機(jī)構(gòu)與所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)連接,用于通過(guò)驅(qū)動(dòng)所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上升以帶動(dòng)所述坩堝支架上升使所述目標(biāo)坩堝的底部高于所述感應(yīng)線圈的頂部;
所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),用于驅(qū)動(dòng)所述坩堝支架旋轉(zhuǎn)使所述目標(biāo)坩堝沿所述圓周旋轉(zhuǎn)至所述感應(yīng)線圈的正上方;
所述升降機(jī)構(gòu),還用于通過(guò)驅(qū)動(dòng)所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)下降以帶動(dòng)所述坩堝支架下降使所述目標(biāo)坩堝進(jìn)入所述感應(yīng)線圈內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)裝置,其特征在于:
所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括旋轉(zhuǎn)電機(jī)和旋轉(zhuǎn)軸;
所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)設(shè)置在所述真空室的下方,所述旋轉(zhuǎn)軸的一端與所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)連接、另一端穿過(guò)所述真空室的底板延伸至所述真空室中與所述坩堝支架連接,其中,所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)工作時(shí)驅(qū)動(dòng)所述旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)以帶動(dòng)所述坩堝支架旋轉(zhuǎn)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)裝置,其特征在于:
所述升降機(jī)構(gòu)包括升降軸、基板、升降板以及升降氣缸;
所述升降板與所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)連接;
所述升降軸同軸設(shè)置在所述旋轉(zhuǎn)軸外,所述升降軸的一端與所述升降板密封固定連接、另一端通過(guò)所述密封機(jī)構(gòu)與所述真空室底板形成密封;
所述基板與所述密封機(jī)構(gòu)連接;
所述升降氣缸的缸體固定在所述基板上,所述升降氣缸的活塞桿與所述升降板連接;
所述升降機(jī)構(gòu)工作時(shí),所述升降氣缸通過(guò)所述活塞桿帶動(dòng)所述升降板以及所述升降軸的上升和下降、進(jìn)而帶動(dòng)所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)以及所述坩堝支架的上升和下降。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)裝置,其特征在于,所述升降機(jī)構(gòu)還包括:
調(diào)節(jié)螺桿以及與該調(diào)節(jié)螺桿配合使用的螺母,其中,所述調(diào)節(jié)螺桿的一端與所述活塞桿連接、另一端通過(guò)所述螺母與所述升降板連接,通過(guò)調(diào)節(jié)所述螺母的位置調(diào)節(jié)所述升降板的升降距離。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)裝置,其特征在于,所述升降機(jī)構(gòu)還包括:
第一導(dǎo)向桿,所述第一導(dǎo)向桿設(shè)置在所述基板和所述升降板之間,所述第一導(dǎo)向桿的一端與所述基板固定、另一端穿過(guò)所述升降板,所述升降板在所述活塞桿的帶動(dòng)下沿所述第一導(dǎo)向桿上升和下降。
8.根據(jù)權(quán)利要求3至7中任一項(xiàng)所述的高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)裝置,其特征在于,所述高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)裝置還包括:
第一定位機(jī)構(gòu),與所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)連接,用于在檢測(cè)到所述目標(biāo)坩堝旋轉(zhuǎn)至所述感應(yīng)線圈的正上方時(shí)觸發(fā)所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)停止工作。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





