[實用新型]一種防藍光防指紋光學保護膜有效
| 申請號： | 201721147639.8 | 申請日： | 2017-09-08 |
| 公開（公告）號： | CN207133455U | 公開（公告）日： | 2018-03-23 |
| 發明（設計）人： | 胡露;劉振宇;楊柱;張小平;龔露露;張宏元;姜磊;蔡彥;王雪琴 | 申請（專利權）人： | 湖北航天化學技術研究所 |
| 主分類號： | G02B5/20 | 分類號： | G02B5/20;G02B1/14;G02B1/111;G02B27/00 |
| 代理公司： | 襄陽中天信誠知識產權事務所42218 | 代理人： | 何靜月 |
| 地址： | 441003 湖北*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 防藍光防 指紋 光學 保護膜 | ||
1.一種防藍光防指紋光學保護膜，其特征在于：包括透明基材（1）、藍光阻隔層（2）、高折射率涂層（3）、低折射率防污涂層（4）、壓敏膠層（5）和離型膜（6）；
所述透明基材（1）上表面涂覆有藍光阻隔層（2），藍光阻隔層（2）上表面涂覆有高折射率涂層（3），高折射率涂層（3）上表面涂覆有低折射率防污涂層（4），透明基材（1）下表面涂覆有壓敏膠層（5），壓敏膠層（5）下表面復合離型膜（6）。
2.根據權利要求1所述的防藍光防指紋光學保護膜，其特征在于：所述透明基材為光學級聚對苯二甲酸乙二酯（PET）薄膜或聚碳酸酯（PC）薄膜，厚度為20~200μm。
3.根據權利要求1所述的防藍光防指紋光學保護膜，其特征在于：所述藍光阻隔層采用濕法精密涂布工藝形成，厚度為1~10μm。
4.根據權利要求1所述的防藍光防指紋光學保護膜，其特征在于：所述高折射率涂層采用濕法精密涂布工藝形成，厚度為1~10μm。
5.根據權利要求1所述的防藍光防指紋光學保護膜，其特征在于：所述低折射率防污涂層含有防指紋助劑，采用濕法精密涂布工藝形成，厚度為1~10μm。
6.根據權利要求1所述的防藍光防指紋光學保護膜，其特征在于：所述壓敏膠層為丙烯酸酯壓敏膠、聚氨酯壓敏膠或有機硅壓敏膠。
7.根據權利要求1所述的防藍光防指紋光學保護膜，其特征在于：所述壓敏膠層采用濕法精密涂布工藝形成，厚度為10~50μm。
8.根據權利要求1所述的防藍光防指紋光學保護膜，其特征在于：所述離型膜為有機硅離型膜、有機氟類離型膜或薄膜基材，厚度為20~100μm。
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