[實用新型]密封圈、攪拌杯組件和料理機有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721144540.2 | 申請日: | 2017-09-06 |
| 公開(公告)號: | CN208769610U | 公開(公告)日: | 2019-04-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 羅國華;葉國林;劉云祥 | 申請(專利權(quán))人: | 廣東美的生活電器制造有限公司 |
| 主分類號: | A47J43/07 | 分類號: | A47J43/07;A47J43/046;A47J43/08 |
| 代理公司: | 深圳市世紀(jì)恒程知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44287 | 代理人: | 胡海國 |
| 地址: | 528311 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 密封圈 密封圈主體 唇口 料理機 本實用新型 攪拌杯組件 非平行設(shè)置 便利性 密封性 開蓋 外壁 環(huán)繞 | ||
1.一種密封圈,其特征在于,包括密封圈主體,所述密封圈主體的外壁凸設(shè)有第一唇口和第二唇口,所述第一唇口和第二唇口環(huán)繞所述密封圈主體一周并于所述密封圈主體的軸向上非平行設(shè)置;所述第一唇口的外徑大于所述第二唇口的外徑。
2.如權(quán)利要求1所述的密封圈,其特征在于,所述密封圈主體于軸向上具有兩端,所述第一唇口朝向所述密封圈主體的一端傾斜延伸,所述第二唇口朝向所述密封圈主體的另一端傾斜延伸。
3.如權(quán)利要求1所述的密封圈,其特征在于,定義所述第一唇口與所述密封圈主體的外側(cè)壁的夾角為α,25°≤α≤85°。
4.如權(quán)利要求3所述的密封圈,其特征在于,25°≤α≤45°。
5.如權(quán)利要求1所述的密封圈,其特征在于,定義所述第二唇口與所述密封圈主體的外側(cè)壁的夾角為β,25°≤β≤85°。
6.如權(quán)利要求5所述的密封圈,其特征在于,65°≤β≤80°。
7.如權(quán)利要求1至6中任意一項所述的密封圈,其特征在于,所述第一唇口和第二唇口的縱截面形狀為三角形或者四邊形。
8.如權(quán)利要求1至6中任意一項所述的密封圈,其特征在于,所述第一唇口和/或第二唇口縱截面寬度向遠(yuǎn)離密封圈主體方向變窄。
9.一種攪拌杯組件,包括杯體以及杯蓋組件,所述杯蓋組件包括主杯蓋,所述主杯蓋蓋合于所述杯體的杯口,其特征在于,還包括如權(quán)利要求1至8中任意一項所述的密封圈,所述密封圈設(shè)于所述杯體和所述主杯蓋之間。
10.如權(quán)利要求9所述的攪拌杯組件,其特征在于,所述主杯蓋的外側(cè)壁形成有安裝槽,所述密封圈嵌設(shè)于所述安裝槽內(nèi);或所述密封圈和所述主杯蓋為一體結(jié)構(gòu)。
11.一種料理機,包括主機以及安裝于所述主機的攪拌杯組件,其特征在于,所述攪拌杯組件為如權(quán)利要求9或10所述的攪拌杯組件。
12.如權(quán)利要求11所述的料理機,其特征在于,所述杯蓋組件還包括副杯蓋,所述副杯蓋包括透氣蓋或者抽真空蓋;
所述料理機至少包括加熱狀態(tài)和抽真空狀態(tài):
當(dāng)所述料理機處于加熱狀態(tài)時,所述透氣蓋設(shè)置于所述主杯蓋,并與所述杯體的內(nèi)腔導(dǎo)通;
當(dāng)所述料理機處于抽真空狀態(tài)時,所述抽真空蓋設(shè)置于所述主杯蓋,并與所述杯體的內(nèi)腔導(dǎo)通。
13.如權(quán)利要求12所述的料理機,其特征在于,所述抽真空蓋包括蓋殼,所述蓋殼內(nèi)形成有泄壓腔和容納腔,所述泄壓腔形成有進氣孔,所述進氣孔內(nèi)安裝有閥體,所述閥體套設(shè)有彈性件,所述容納腔內(nèi)設(shè)置有真空泵和氣管組件,所述蓋殼設(shè)置有氣流過孔和排氣孔,所述氣流過孔連通所述杯體的內(nèi)腔和氣管組件,所述氣管組件的一支路連通所述進氣孔,另一支路連通所述真空泵,所述排氣孔將所述容納腔和外界連通,所述進氣孔、氣管組件的一支路、以及氣流過孔構(gòu)成泄壓通道,所述排氣孔、容納腔、真空泵、氣管組件的另一支路、以及氣流過孔構(gòu)成抽真空通道,所述彈性件驅(qū)使閥體相對所述進氣孔滑動,以封堵所述進氣孔。
14.如權(quán)利要求11所述的料理機,其特征在于,所述攪拌杯組件還包括杯座和導(dǎo)磁盤,所述杯座支撐在所述杯體和主機之間,所述杯座開設(shè)有過孔;所述導(dǎo)磁盤夾持于所述杯體與杯座之間,且由所述過孔顯露;
所述主機設(shè)有與所述導(dǎo)磁盤相對設(shè)置的線盤,所述線盤于所述導(dǎo)磁盤的投影落入所述過孔的孔壁于所述導(dǎo)磁盤的投影所圍成的區(qū)域內(nèi)。
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