[實用新型]一種不同滑滾比下潤滑薄膜摩擦力與磨損過程測量裝置有效
| 申請號: | 201721141644.8 | 申請日: | 2017-09-07 |
| 公開(公告)號: | CN207456651U | 公開(公告)日: | 2018-06-05 |
| 發明(設計)人: | 李憲鵬;栗心明;楊萍;郭峰 | 申請(專利權)人: | 青島理工大學 |
| 主分類號: | G01L5/00 | 分類號: | G01L5/00;G01N3/56;G01N3/06 |
| 代理公司: | 青島高曉專利事務所(普通合伙) 37104 | 代理人: | 張世功 |
| 地址: | 266033 山東省*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 回轉裝置 加載裝置 潤滑薄膜 磨損 磨損測量裝置 轉動 傳感器固定裝置 過程測量裝置 圓盤驅動裝置 本實用新型 測量裝置 測速裝置 高副接觸 磨損表面 磨損測量 平移裝置 形貌測量 應用環境 整體設計 支撐平臺 主體結構 玻璃盤 鋼球 加載 油膜 測量 靈活 支撐 | ||
1.一種不同滑滾比下潤滑薄膜摩擦力與磨損過程測量裝置,其特征在于其主體結構包括:支撐平臺、圓盤驅動裝置、球驅加載裝置、回轉裝置、磨損測量裝置、平移裝置、測速裝置和傳感器固定裝置,圓盤驅動裝置上設置有能夠轉動的圓鋼盤,圓盤驅動裝置于支撐平臺的上側靠近左邊沿處,球驅加載裝置位于圓盤驅動裝置的后側,球驅加載裝置上設置有與圓鋼盤構成摩擦副的鋼球;用以支撐和帶動球驅加載裝置轉動的回轉裝置置于球驅加載裝置的下側,用以通過光干涉法測量摩擦副磨損的磨損測量裝置包括圖像采集裝置和玻璃盤固定裝置;用以測定圓鋼盤轉速的測速裝置位于圓盤驅動裝置的正下方;支撐平臺的主體結構包括上平臺、下平臺、支撐柱、支撐腳和貫穿孔,上平臺和下平臺均為方形結構金屬結構,并且上平臺和下平臺的長度與寬度相等,上平臺和下平臺之間通過四角處的圓柱形金屬支撐柱連接,下平臺的下側面固定置有用以支撐底座的支撐腳,用以調平整個裝置和防止下平臺與地面接觸,并且提高搬運的便捷性,上平臺靠近左邊沿中間處開有圓形貫穿孔,用以放置圓盤驅動裝置,平移裝置上平臺上靠右處,能夠左右移動,用以調整球驅加載裝置上的鋼球與圓盤驅動裝置的圓鋼盤的相對位置的平移裝置上固定有球驅加載裝置、回轉裝置和磨損測量裝置,用以對不同轉速的圓鋼盤和鋼球之間的摩擦力進行測量和記錄的傳感器固定調節裝置位于上臺面下方。
2.根據權利要求1所述的一種不同滑滾比下潤滑薄膜摩擦力與磨損過程測量裝置,其特征在于圓盤驅動裝置的主體結構包括:圓鋼盤、從動帶輪、主軸、圓盤壓蓋、盤驅電機支座、盤驅電機、主動帶輪、底座固定孔和法蘭盤,圓柱形鋼盤置于主軸的上端,并與鋼球構成高應力點接觸彈流接觸副,圓鋼盤的上下側分別置有用以固定圓鋼盤的金屬材質的圓盤壓蓋,主軸上靠下處置有法蘭盤,法蘭盤通過螺栓固定于貫穿孔上,法蘭盤和鋼盤下側的圓盤壓蓋之間的主軸上套有用以保護主軸的圓柱形空心套筒,主軸的下端置有圓形從動帶輪,從動帶輪位于貫穿孔的下側,下平臺中間處長方形陣列式分布有用以固定盤驅電機支座的底座固定孔,盤驅電機支座包括兩塊左右對置分布的L形側板和一塊方形頂板,L形側板下側的橫板固定在下平臺的上的底座固定孔上,用以為圓鋼盤提供動力的盤驅電機固定置于盤驅電機支座的兩塊L形側板之間,并且盤驅電機的輸出軸上端穿過盤驅電機支座的頂板,盤驅電機的輸出軸上端固定有用以將動力傳遞至從動帶輪的主動帶輪,主動帶輪與從動帶輪直接連接有傳動帶。
3.根據權利要求1所述的一種不同滑滾比下潤滑薄膜摩擦力與磨損過程測量裝置,其特征在于球驅加載裝置的主體結構包括:鋼球、球軸、軸承支座、伺服電機從動輪、伺服電機、伺服電機主動輪、電機支座、加載板、球軸系上外套、球軸系下外套、彈簧上支座、砝碼;鋼球右側與用以固定鋼球的球軸連接,并且鋼球的位于圓鋼盤的下表面,球軸的右端貫穿過兩個圓形軸承支座與伺服電機從動輪傳動連接,軸承支座之間的球軸置有方形結構的球軸系上外套和球軸系下外套,球軸系上外套位于球軸系下外套的上側并與其通過螺栓固定連接;伺服電機從動輪通過傳動帶與其正上方的伺服電機主動輪連接,伺服電機主動輪位于L形電機支座的立板右側并通過轉軸與L形電機支座的立板左側的伺服電機連接,長方形的加載板的左端通過六角螺釘固定連接于電機支座的豎板右側外表面靠下邊沿處,加載板的右端穿過傳動帶的空隙向右延伸;圓柱形彈簧上支座的上端與球軸系下外套的下側表面固定連接,彈簧上支座的下端與回轉裝置的上端固定連接。
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