[實用新型]氣體噴吹裝置

有效

• 申請號: 201721124201.8
• 申請日: 2017-09-04
• 公開（公告）號: CN207451926U
• 公開（公告）日: 2018-06-05
• 發明（設計）人: 宮下純一;小野寺周也;大森則史;市川竜麻;多久和茂良
• 申請（專利權）人: 旭硝子株式會社
• 主分類號: C03B25/08
• 分類號: C03B25/08
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

本實用新型提供適于在高溫且存在氧化性氣體的氣氛下使用的氣體噴吹裝置。氣體噴吹裝置，其向在溫度為300℃以上且存在氧化性氣體的氣氛下使用的玻璃帶噴吹氣體，包括：支承輸送構件，其支承并輸送玻璃帶；氣體供給管，其以橫穿玻璃帶的移動方向的方式延伸，且以使氣體吹到玻璃帶表面上的方式配置；氣體供給裝置，其向氣體供給管供給氣體；排氣通路，其使氣體以遠離玻璃帶表面的方式流動；以及抽吸裝置，其自排氣通路抽吸氣體，氣體供給管在內部具有氣體供給管道和與氣體供給管道相連的預備空間，氣體供給管道具有與預備空間相連通的孔，氣體供給裝置向氣體供給管道供給氣體，氣體在預備空間內被整流。

技術領域

本實用新型涉及一種用于向玻璃帶噴吹氣體的氣體噴吹裝置。

背景技術

以往，作為用于向玻璃帶噴吹氣體的氣體噴吹方法和裝置，提出有如下的技術方案，使用在與高溫的玻璃表面相接觸時發生反應而在玻璃上堆積覆蓋材料的包覆用氣體來形成覆膜(參照專利文獻1)。

專利文獻1：日本特開昭52－44829號公報

實用新型內容

實用新型要解決的問題

在專利文獻1中，如專利文獻1的圖4所示那樣，是以在使玻璃在熔融錫上成形為平板狀的成形區域(以下，也稱作浮法槽)內噴吹氣體為前提的。通常，浮法槽內充滿氮氣等還原性氣體，以便不使熔融錫氧化。因此，在專利文獻1中，作為使用于氣體噴吹的裝置的結構，不必考慮到因存在氧氣等氧化性氣體而產生的不利影響(例如，噴吹氣體的氧化、氣體噴吹裝置的氧化、噴吹氣流的紊亂等)。

然而，近年來，從使噴吹裝置長壽命化、表面處理的種類多樣化的觀點考慮，要求在溫度為300℃以上等的高溫且存在氧化性氣體的氣氛下(例如作為浮法槽的下游的退火區域(以下，也稱作退火窯)進行氣體的噴吹。在專利文獻1中，未對這樣的應用進行充分研究。

本實用新型提供一種適合于在高溫且存在氧化性氣體的氣氛下使用的氣體噴吹裝置。

用于解決問題的方案

為了達到上述目的，本實用新型一種氣體噴吹裝置，其用于向在溫度為300℃以上且存在氧化性氣體的氣氛下使用的玻璃帶噴吹氣體，其特征在于，該氣體噴吹裝置包括：支承輸送構件，其用于支承并輸送所述玻璃帶；氣體供給管，其以與所述玻璃帶的移動方向正交地橫跨所述玻璃帶的方式延伸，且以使氣體吹到所述玻璃帶表面上的方式配置；氣體供給裝置，其用于向所述氣體供給管供給所述氣體；排氣通路，其用于使所述氣體以遠離所述玻璃帶表面的方式流動；以及抽吸裝置，其用于自所述排氣通路抽吸所述氣體，所述氣體供給管在內部具有氣體供給管道和與所述氣體供給管道相連的預備空間，所述氣體供給管道具有與所述預備空間相連通的孔，所述氣體供給裝置向所述氣體供給管道供給所述氣體，所述氣體在所述預備空間內被整流。

也可以是，所述預備空間由氣體不透壁和氣體可透壁形成，所述氣體透過所述氣體可透壁而進入到所述氣體供給管內部，并經由所述氣體供給管所具有的開口被向所述玻璃噴吹。

也可以是，所述氣體可透壁具有空孔，所述空孔為Φ0.1mm～Φ30mm。

也可以是，所述氣體可透壁具有空孔，所述空孔的間距形成為1mm～50mm。

也可以是，所述氣體可透壁具有空孔，所述空孔并列配置。

也可以是，所述預備空間設有多個。

也可以是，所述氣體供給管的尺寸在(50mm～1000mm)×(50mm～1000mm)的范圍內。

也可以是，所述孔的內切圓為Φ0.1mm～Φ30mm。

也可以是，該氣體噴吹裝置包括用于以包圍所述氣體的方式噴出非活性氣體的非活性氣體供給裝置。