[實(shí)用新型]一種基于電致發(fā)光的電荷行為實(shí)時(shí)觀測(cè)評(píng)估設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201721122381.6 | 申請(qǐng)日: | 2017-09-04 |
| 公開(公告)號(hào): | CN207114435U | 公開(公告)日: | 2018-03-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 何順;楊漢松;楊明昆;呂歡 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 云南電網(wǎng)有限責(zé)任公司電力科學(xué)研究院 |
| 主分類號(hào): | G01N21/66 | 分類號(hào): | G01N21/66 |
| 代理公司: | 北京弘權(quán)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11363 | 代理人: | 逯長(zhǎng)明,許偉群 |
| 地址: | 650217 云南省昆*** | 國(guó)省代碼: | 云南;53 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 電致發(fā)光 電荷 行為 實(shí)時(shí) 觀測(cè) 評(píng)估 設(shè)備 | ||
1.一種基于電致發(fā)光的電荷行為實(shí)時(shí)觀測(cè)評(píng)估設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備包括:
暗室(1)、真空系統(tǒng)(2)、電極系統(tǒng)(3)、單色儀(4)、光電計(jì)算器(5)、PD傳感器(6)、高壓電源(7)、示波器(8)、計(jì)算機(jī)(9)、樣品室(10)以及石英玻璃觀察窗(11);
所述真空系統(tǒng)(2)、所述單色儀(4)、所述光電計(jì)算器(5)、所述PD傳感器(6)以及所述樣品室(10)設(shè)置于所述暗室(1)的內(nèi)部;所述高壓電源(7)、所述示波器(8)以及所述計(jì)算機(jī)(9)設(shè)置于所述暗室(1)的外部;
所述電極系統(tǒng)(3)設(shè)置于所述樣品室(10)內(nèi)部,所述真空系統(tǒng)(2)與所述樣品室(10)連通,所述電極系統(tǒng)(3)上設(shè)置有用于放置樣品(100)的試樣槽(31);
所述石英玻璃觀察窗(11)設(shè)置于所述樣品室(10)的側(cè)壁,所述單色儀(4)設(shè)置于所述樣品室(10)的一側(cè),所述單色儀(4)與所述石英玻璃觀察窗(11)相對(duì)設(shè)置;
所述光電計(jì)算器(5)的一端與所述單色儀(4)連接,所述光電計(jì)算器(5)的另一端與所述計(jì)算機(jī)(9)連接;
所述PD傳感器(6)的一端與所述樣品室(10)的連接,所述PD傳感器(6)的另一端與所述示波器(8)連接,所述示波器(8)與所述計(jì)算機(jī)(9)連接;
所述樣品室(10)內(nèi)設(shè)置有高壓引線(14),所述高壓引線(14)一端與所述電極系統(tǒng)(3)連接,另一端伸出于所述樣品室(10)的外部與所述高壓電源(7)連接。
2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述真空系統(tǒng)(2)的真空度為1×10-5Pa~1×10-3Pa。
3.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述光電計(jì)算器(5)包括光電倍增管和光子計(jì)數(shù)器。
4.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述樣品(100)與所述樣品室(10)內(nèi)壁之間的距離小于3cm。
5.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述單色儀(4)的測(cè)量范圍與所述光電計(jì)算器(5)相適應(yīng),所述單色儀(4)的測(cè)量范圍為300nm~800nm,所述單色儀(4)的分辨率小于5nm,所述單色儀(4)的重復(fù)誤差小于1nm。
6.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述光電計(jì)算器(5)的暗噪聲均值小于20cps,最小測(cè)量值小于3×10-17W。
7.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述高壓引線(14)伸出于所述樣品室(10)的部分外圍設(shè)置有高壓套管(13)。
8.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述高壓引線(14)與所述高壓電源(7)之間串接有保護(hù)電阻(12)。
9.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述PD傳感器(6)為光電集成電場(chǎng)傳感器。
10.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述樣品室(10)的耐受極限真空度為10-5Pa,工作真空度為1×10-4Pa。
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G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
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