[實(shí)用新型]一種基于深槽工藝的高壓分離柵器件結(jié)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201721121071.2 | 申請(qǐng)日: | 2017-09-01 |
| 公開(公告)號(hào): | CN207425862U | 公開(公告)日: | 2018-05-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 薛璐;白玉明;王穎菲;張海濤 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 無錫紫光微電子有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L29/78 | 分類號(hào): | H01L29/78;H01L29/06 |
| 代理公司: | 無錫市大為專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32104 | 代理人: | 曹祖良 |
| 地址: | 214135 江蘇省無錫市新區(qū)菱*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 第一導(dǎo)電類型 導(dǎo)電類型 外延層 源極 阱區(qū) 柵極導(dǎo)電多晶硅 本實(shí)用新型 導(dǎo)電多晶硅 高壓分離 器件結(jié)構(gòu) 鄰接 深槽 源區(qū) 導(dǎo)電類型阱 耐高壓特性 柵氧化層 氧化層 襯底 填充 | ||
1.一種基于深槽工藝的高壓分離柵MOSFET器件結(jié)構(gòu),包括元胞區(qū)和終端保護(hù)區(qū),所述元胞區(qū)位于器件的中心區(qū),所述終端保護(hù)區(qū)環(huán)繞在所述元胞區(qū)的周圍,所述元胞區(qū)由若干個(gè)MOSFET器件單元體并聯(lián)而成,所述MOSFET器件單元體包括半導(dǎo)體基板,所述半導(dǎo)體基板具有兩個(gè)相對(duì)應(yīng)的主面,兩個(gè)主面包括第一主面(001)以及與第一主面(001)相對(duì)應(yīng)的第二主面(002),第一主面(001)與第二主面(002)間包括第一導(dǎo)電類型外延層(2)與第一導(dǎo)電類型襯底(1),所述第一導(dǎo)電類型襯底(1)位于第一導(dǎo)電類型外延層(2)的下方且鄰接,所述第一主面(001)為第一導(dǎo)電類型外延層(2)的上表面,所述第二主面(002)為第一導(dǎo)電類型襯底(1)的下表面,所述第一導(dǎo)電類型外延層(2)表面設(shè)有第二導(dǎo)電類型第一阱區(qū)(8),所述第二導(dǎo)電類型第一阱區(qū)(8)內(nèi)設(shè)有若干個(gè)均勻分布的溝槽(3),所述溝槽(3)從第二導(dǎo)電類型第一阱區(qū)(8)的表面沿著第一主面(001)指向第二主面(002)的方向延伸到第一導(dǎo)電類型外延層(2)內(nèi),且溝槽(3)內(nèi)填充有源極導(dǎo)電多晶硅(5)和柵極導(dǎo)電多晶硅(6),所述柵極導(dǎo)電多晶硅(6)位于源極導(dǎo)電多晶硅(5)的上方,且所述源極導(dǎo)電多晶硅(5)的外圈設(shè)有源極氧化層(4),所述柵極導(dǎo)電多晶硅(6)的兩側(cè)設(shè)有柵氧化層(7),所述第二導(dǎo)電類型第一阱區(qū)(8)內(nèi)設(shè)有兩個(gè)第一導(dǎo)電類型源區(qū)(9),所述第一導(dǎo)電類型源區(qū)(9)與溝槽(3)鄰接,所述半導(dǎo)體基板的第一主面(001)上設(shè)有絕緣介質(zhì)層(10),所述絕緣介質(zhì)層(10)內(nèi)設(shè)有接觸孔(11),所述絕緣介質(zhì)層(10)上設(shè)有源極金屬(12),所述源極金屬(12)通過接觸孔(11)與第二導(dǎo)電類型第一阱區(qū)(8)及第一導(dǎo)電類型源區(qū)(9)歐姆接觸,所述源極金屬(12)與源極導(dǎo)電多晶硅(5)電連接,其特征在于,所述溝槽(3)下方設(shè)有第二導(dǎo)電類型第二阱區(qū)(13),所述第二導(dǎo)電類型第二阱區(qū)(13)設(shè)于第一導(dǎo)電類型外延層(2)內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于深槽工藝的高壓分離柵MOSFET器件結(jié)構(gòu),其特征在于:所述第二導(dǎo)電類型第二阱區(qū)(13)的深度為10~30μm,寬度為0.5~5μm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于深槽工藝的高壓分離柵MOSFET器件結(jié)構(gòu),其特征在于:所述第二導(dǎo)電類型第二阱區(qū)(13)是浮空的,不需要接金屬。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于深槽工藝的高壓分離柵MOSFET器件結(jié)構(gòu),其特征在于:所述源極金屬(12)和柵極導(dǎo)電多晶硅(6)之間通過絕緣介質(zhì)層(10)隔開,所述柵極導(dǎo)電多晶硅(6)與柵極金屬電連接,所述柵極金屬設(shè)置在絕緣介質(zhì)層(10)上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于深槽工藝的高壓分離柵MOSFET器件結(jié)構(gòu),其特征在于:對(duì)于N型半導(dǎo)體器件,第一導(dǎo)電類型為N型導(dǎo)電,第二導(dǎo)電類型為P型導(dǎo)電;對(duì)于P型半導(dǎo)體器件,第一導(dǎo)電類型為P型導(dǎo)電,第二導(dǎo)電類型為N型導(dǎo)電。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢壘或表面勢壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢壘或表面勢壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場變化可控的





