[實用新型]一種基于DLP技術的光譜系統

有效

• 申請號: 201721104153.6
• 申請日: 2017-08-30
• 公開（公告）號: CN207181290U
• 公開（公告）日: 2018-04-03
• 發明（設計）人: 閻巍
• 申請（專利權）人: 無錫迅杰光遠科技有限公司
• 主分類號: G01N21/359
• 分類號: G01N21/359;G01N21/01;G01N21/25
• 代理公司: 無錫華源專利商標事務所(普通合伙)32228
• 代理人: 聶啟新

1.一種基于DLP技術的光譜系統，包括待測樣品，其特征在于，所述系統包括：光源、透鏡、狹縫、準直透鏡、濾光片、光闌、光柵、聚焦透鏡、數字微鏡裝置DMD、收集透鏡、光電探測器、控制終端；

所述光源與所述待測樣品之間呈預設角度，所述待測樣品被所述光源照射的一側正對所述透鏡，所述透鏡、狹縫、準直透鏡、濾光片、光闌、光柵、聚焦透鏡、DMD、收集透鏡和光電探測器按照光路順序依次設置，所述光電探測器和所述DMD還分別電性連接所述控制終端。

2.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，所述光柵為透射式光柵，所述聚焦透鏡與所述光闌分別設置在所述光柵的兩側；

或者，所述光柵為反射式光柵，所述聚焦透鏡與所述光闌設置在所述光柵的同一側。

3.根據權利要求1或2所述的系統，其特征在于，所述光柵的刻線數為300、600或900線/mm，閃耀波長為1.0μm、1.2μm、1.6μm或2.0μm，閃耀角為5-30°。

4.根據權利要求1或2所述的系統，其特征在于，所述光源包括鹵鎢燈、氙燈、氘燈、氪燈和氬燈中的至少一種，所述光源的功率為1-50W。

5.根據權利要求1或2所述的系統，其特征在于，所述光源用于發射近紅外光，所述透鏡、準直透鏡、聚焦透鏡和收集透鏡的表面鍍有近紅外增透膜。

6.根據權利要求1或2所述的系統，其特征在于，所述狹縫的寬度為10-50μm、長度為1-3mm。

7.根據權利要求1或2所述的系統，其特征在于，所述濾光片的透光范圍為0.8-3.0μm。

8.根據權利要求1或2所述的系統，其特征在于，所述光電探測器是銦鎵砷探測器、砷化銦探測器、硅光電二極管和雪崩二極管中的任意一種。

9.根據權利要求1或2所述的系統，其特征在于，所述控制終端用于生成所述待測樣品的光譜圖，所述光譜圖的波長范圍為0.8-3.0μm、分辨率為5-20nm。