[實(shí)用新型]一種導(dǎo)模法藍(lán)寶石晶片檢驗(yàn)平臺(tái)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201721102259.2 | 申請(qǐng)日: | 2017-08-31 |
| 公開(公告)號(hào): | CN207336379U | 公開(公告)日: | 2018-05-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 季禮明;張振志;李國(guó)平;韋大勇;陳海兵;張萬(wàn)林;桂賢軍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江西東海藍(lán)玉光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/87 | 分類號(hào): | G01N21/87;G01N21/88 |
| 代理公司: | 南昌恒橋知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 36125 | 代理人: | 楊志宇 |
| 地址: | 330095 江西省南昌*** | 國(guó)省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 導(dǎo)模法 藍(lán)寶石 晶片 檢驗(yàn) 平臺(tái) | ||
本實(shí)用新型公開了一種導(dǎo)模法藍(lán)寶石晶片檢驗(yàn)平臺(tái)。其中:述的凹形基座的上端面上開設(shè)有一個(gè)凹槽;所述的凹槽的截面呈等腰梯形;所述的凹槽底部的兩個(gè)內(nèi)角均為60度,本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于:結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,易于操作。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及藍(lán)寶石應(yīng)用材料的加工檢測(cè)領(lǐng)域,特別是涉及一種導(dǎo)模法藍(lán)寶石晶片檢驗(yàn)平臺(tái)。
背景技術(shù)
藍(lán)寶石(Sapphire)是一種氧化鋁才(α-Al2O3)的單晶,又稱為剛玉。藍(lán)寶石晶體具有優(yōu)異的光學(xué)性能、機(jī)械性能和化學(xué)穩(wěn)定性,強(qiáng)度高、硬度大、耐沖刷,可在接近2000℃高溫的惡劣條件下工作,因而被廣泛的應(yīng)用于紅外軍事裝置、衛(wèi)星空間技術(shù)、高強(qiáng)度激光的窗口材料。
目前主流的藍(lán)寶石長(zhǎng)晶方法包括:泡生法、導(dǎo)模法、熱交換法、提法法、坩堝下降法、水平區(qū)熔法等;其中導(dǎo)模法具有生長(zhǎng)時(shí)間短、耗電量低、可定向/定形生長(zhǎng)、晶體加工簡(jiǎn)單等優(yōu)勢(shì),可以預(yù)測(cè)導(dǎo)模法將逐漸取代泡生法成為藍(lán)寶石晶體主流生長(zhǎng)方式。目前,只有俄羅斯、美國(guó)和日本等少數(shù)國(guó)家掌握此技術(shù),同時(shí)國(guó)外進(jìn)口裝備存在產(chǎn)品一致性差、人工依賴性高、交貨周期長(zhǎng)、價(jià)格昂貴等問題,因此制造擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的導(dǎo)模法長(zhǎng)晶檢測(cè)裝備及長(zhǎng)晶技術(shù)刻不容緩。
我國(guó)對(duì)藍(lán)寶石晶體導(dǎo)模法生長(zhǎng)裝備和長(zhǎng)晶工藝的研究起步較晚,國(guó)內(nèi)目前尚沒有成熟的多片導(dǎo)模法長(zhǎng)晶設(shè)備及長(zhǎng)晶工藝,導(dǎo)模法藍(lán)寶石晶片配套專用加工檢測(cè)設(shè)備存在空白;在產(chǎn)品方面,在藍(lán)寶石LED襯底片、手機(jī)屏、國(guó)防用導(dǎo)彈整流罩以及航空航天用大尺寸藍(lán)寶石面板長(zhǎng)期依賴進(jìn)口,因此我們研發(fā)藍(lán)寶石導(dǎo)模法長(zhǎng)晶檢測(cè)裝備及多片長(zhǎng)晶工藝刻不容緩,也是填補(bǔ)國(guó)內(nèi)行業(yè)空白。
由于藍(lán)寶石的超高硬度,其成品加工成本高、耗時(shí)長(zhǎng),加工難度大,加工成本已經(jīng)成為影響藍(lán)寶石相關(guān)產(chǎn)品市場(chǎng)應(yīng)用的主要因素之一;鑒于此種情況,選擇合適的加工工藝,合適的設(shè)備及夾治具,對(duì)于提高藍(lán)寶石晶片加工成品率、降低加工成本具有重要意義。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型要解決的任務(wù)是提供一種導(dǎo)模法藍(lán)寶石晶片檢驗(yàn)平臺(tái),使得達(dá)到實(shí)現(xiàn)高效率和高準(zhǔn)確率的選料的目的。
為了解決上述問題,本實(shí)用新型是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
一種導(dǎo)模法藍(lán)寶石晶片檢驗(yàn)平臺(tái),包括:凹形基座、凹槽、LED燈帶、待檢區(qū)平臺(tái);其中:所述的凹形基座的上端面上開設(shè)有一個(gè)凹槽;所述的凹槽的截面呈等腰梯形;所述的凹槽底部的兩個(gè)內(nèi)角均為60度;所述的凹槽兩側(cè)的內(nèi)壁斜邊上分別固定的安裝有一條LED燈帶;所述的凹槽的底部放置有一塊待檢區(qū)平臺(tái);所述的待檢區(qū)平臺(tái)為黑色絨布包裹的條形玻璃。
一種導(dǎo)模法藍(lán)寶石晶片檢驗(yàn)平臺(tái),其中:所述的兩條LED燈帶均內(nèi)嵌在凹槽兩側(cè)的內(nèi)壁斜邊上。
本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于:結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,通過設(shè)置凹槽與led燈帶能夠方便清晰地觀察晶片內(nèi)部的缺陷(氣泡、多晶、云霧、生長(zhǎng)紋等)種類及分布,實(shí)現(xiàn)高效率和高準(zhǔn)確率的選料,避免含有缺陷的晶片流入下游加工階段,造成不必要的加工成本浪費(fèi),提高產(chǎn)品加工效率。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖;
附圖說明:凹形基座1、凹槽2、LED燈帶3、待檢區(qū)平臺(tái)4。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例1、 一種導(dǎo)模法藍(lán)寶石晶片檢驗(yàn)平臺(tái),包括:凹形基座1、凹槽2、LED燈帶3、待檢區(qū)平臺(tái)4;其中:所述的凹形基座1的上端面上開設(shè)有一個(gè)凹槽2;所述的凹槽2的截面呈等腰梯形;所述的凹槽2底部的兩個(gè)內(nèi)角均為60度;所述的凹槽2兩側(cè)的內(nèi)壁斜邊上分別固定的安裝有一條LED燈帶3;所述的凹槽2的底部放置有一塊待檢區(qū)平臺(tái)4;所述的待檢區(qū)平臺(tái)4為黑色絨布包裹的條形玻璃。
實(shí)施例2、 一種導(dǎo)模法藍(lán)寶石晶片檢驗(yàn)平臺(tái),其中:所述的兩條LED燈帶3均內(nèi)嵌在凹槽2兩側(cè)的內(nèi)壁斜邊上。其余同實(shí)施例1。
工作原理:將待檢測(cè)物料放入凹槽2內(nèi)的待檢區(qū)平臺(tái)4上;開啟兩條LED燈帶3,通過斜射光線實(shí)現(xiàn)晶體的檢測(cè);設(shè)置的待檢區(qū)平臺(tái)4可以是條形玻璃或者鋼板;設(shè)置的黑色絨布提供晶片檢測(cè)所需的黑色消光背底,同時(shí)防止了材料磕碰;在所述凹形基座1的外表面還包有鋁合金,保持凹形基座1外表面的整潔,防止待檢測(cè)物料被弄臟,影響觀測(cè),同時(shí)設(shè)置的待檢區(qū)平臺(tái)4的底面與凹槽2的底面之間安裝有壓力傳感器,用過顯示裝置觀測(cè)壓力傳感器的壓力數(shù)據(jù),實(shí)現(xiàn)同步檢測(cè)待檢物料的質(zhì)量大小。
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- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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