[實用新型]一體式高速超精密定位二維平臺

有效

• 申請號: 201721099109.0
• 申請日: 2017-08-30
• 公開（公告）號: CN207364560U
• 公開（公告）日: 2018-05-15
• 發明（設計）人: 張璐凡;田海龍;張中偉;劉保國;李雪麗;曹憲周
• 申請（專利權）人: 河南工業大學
• 主分類號: F16M11/04
• 分類號: F16M11/04;F16M11/18;F16F15/02;F16F15/04
• 代理公司: 北京華仲龍騰專利代理事務所(普通合伙) 11548
• 代理人: 李靜

本實用新型屬于機加工輔助設備技術領域，具體涉及一種一體式高速超精密定位二維平臺，包括底座，所述的底座上設置有浮動平臺和平臺支持底座，平臺支持底座上設置有X軸宏動平臺，X軸宏動平臺上設置有Y軸宏動平臺，Y軸宏動平臺上設置有XY微動平臺，浮動平臺上設置有復合音圈電機，復合音圈電機內設置有復合旋轉電機，復合旋轉電機轉子的前端設置有轉子齒輪，Y軸宏動平臺上設置有連接平臺，連接平臺的下部設置有齒條，齒條與轉子齒輪嚙合連接，X軸宏動平臺的一側面設置有導軌，導軌上設置有滑塊，滑塊與復合旋轉電機定子固定連接，該裝置解決了并聯驅動電機占用大量空間而無法節省整機空間的問題，同時定位精度高，使用方便。

技術領域

本實用新型屬于機加工輔助設備技術領域，具體涉及一種一體式高速超精密定位二維平臺。

背景技術

隨著微電子產業快速發展，大行程超精密定位平臺作為關鍵設備的作用性已經顯現，特別是在引線鍵合及光刻等微電子制造領域中，更需要運動平臺完成高加速度超精密定位運動。目前，高加速度超精密運動平臺一般通過兩個直線電機的并聯驅動實現二維空間完成長行程和快速定位，這就擴大了運動平臺占用空間，不利于整機設備空間設計及成本節省。在實現高加速超精密的同時，實現運動平臺占用空間有效縮減具有重要意義。對于機加工時間縮短、生產效率提高和利潤目前國內的高速超精密運動平臺主要通過兩個直線電機并聯驅動來完成平臺二維運動的,這些定位雖然實現了高加速、高速度，但是兩個直線電機并聯使得運動平臺占用空間增大，不可避免擴大了整機設備空間，限制了生產成本。

實用新型內容

本實用新型的目的在于克服現有技術的不足，而提供一種一體式高速超精密定位二維平臺，該一體式高速超精密定位二維平臺解決了并聯驅動電機占用大量空間而無法節省整機空間的問題，同時定位精度高，使用方便。

本實用新型是這樣實現的：一體式高速超精密定位平臺，包括底座，其特征在于：所述的底座上設置有浮動平臺和平臺支持底座，平臺支持底座上設置有X軸宏動平臺，平臺支持底座與X軸宏動平臺之間設置有X軸平臺前導軌副和X軸平臺后導軌副，X軸宏動平臺上設置有Y軸宏動平臺，X軸宏動平臺與Y軸宏動平臺之間設置有Y軸平臺右導軌副和Y軸平臺左導軌副，Y軸宏動平臺上設置有XY微動平臺，浮動平臺上設置有復合音圈電機定子，復合音圈電機定子內設置有復合音圈電機轉子，復合音圈電機轉子內設置有復合旋轉電機轉子，復合旋轉電機轉子內設置有復合旋轉電機定子，復合旋轉電機轉子的前端設置有轉子齒輪，Y軸宏動平臺上設置有連接平臺，連接平臺的下部設置有齒條，齒條與轉子齒輪嚙合連接，X軸宏動平臺的一側面設置有導軌，導軌上設置有滑塊，滑塊與復合旋轉電機定子固定連接。

所述的浮動平臺包括上平臺和下平臺，上平臺和下平臺之間設置有左導軌副和右導軌副，左導軌副和右導軌副為滑動導軌副，下平臺的中間位置設置有臺階狀凹槽，臺階狀凹槽的前后面設置有前擋塊和后擋塊，前擋塊和后擋塊之間設置有左導桿和右導桿，左導桿和右導桿的中部設置有中央擋塊，中央擋塊與上平臺連接，左導桿上設置有左前彈簧和左后彈簧，右導桿上設置有右前彈簧和右后彈簧。

所述的中央擋塊與前擋板之間設置有前阻尼器，中央擋塊與后擋板之間設置有后阻尼器。

所述的Y軸平臺右導軌副和Y軸平臺左導軌副為滑動導軌副，X軸平臺前導軌副和X軸平臺后導副為滑動導軌副。

所述的復合音圈電機轉子與復合旋轉電機轉子之間設置有左滑動軸承和右滾動軸承。

所述的復合旋轉電機轉子與轉子齒輪固定連接。

所述的Y軸宏動平臺靠近連接平臺的一側設置有粗光柵玻璃尺讀頭，Y軸宏動平臺的另一側設置有精光柵玻璃尺讀頭，X軸宏動平臺的上表面的Y軸方向設置有Y軸平臺左光柵尺和Y軸平臺右光柵尺，X軸宏動平臺下部X軸方向設置有X軸平臺前光柵尺和X軸平臺后光柵尺，平臺支撐底座的前側面固定設置有粗光柵玻璃尺讀頭，平臺支撐底座的后側面固定設置有精光柵玻璃尺讀頭。