[實用新型]一種粒子場全息同軸和離軸再現光路系統有效
| 申請號: | 201721091715.8 | 申請日: | 2017-08-29 |
| 公開(公告)號: | CN207281477U | 公開(公告)日: | 2018-04-27 |
| 發明(設計)人: | 徐青;曹娜;雷嵐;馬繼明;韓長材 | 申請(專利權)人: | 西北核技術研究所 |
| 主分類號: | G03H1/22 | 分類號: | G03H1/22 |
| 代理公司: | 西安智邦專利商標代理有限公司61211 | 代理人: | 楊引雪 |
| 地址: | 710024 陜*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 粒子 全息 同軸 再現 系統 | ||
1.一種粒子場全息同軸和離軸再現光路系統,其特征在于:包括光源擴束準直系統、反射鏡系統、再現采集系統和調節光軸的輔助系統;
所述光源擴束準直系統包括沿光路依次設置的再現光源、擴束鏡、濾波針孔和準直鏡;
所述反射鏡系統包括全反射鏡一和全反射鏡二,所述全反射鏡一沿光路設置在準直鏡的后方,所述全反射鏡二設置在全反射鏡一的側面;全反射鏡一和全反射鏡二均安裝在調節支架上;
所述再現采集系統包括全息干板、成像物鏡、采集相機、支架一、支架二、移動平臺控制器和控制計算機;支架一用于夾持全息干板,兩個支架二分別用于支撐成像物鏡和采集相機,支架一設置在移動平臺x軸y軸組合體上;兩個支架二設置在移動平臺z軸上;
所述調節光軸的輔助系統包括氦氖激光器、光闌、十字圓圈半靶和十字圓圈全靶;所述氦氖激光器和光闌沿光路依次設置在全反射鏡一后方;
所述全息干板、十字圓圈半靶、成像物鏡、十字圓圈全靶、采集相機沿光路依次設置在光闌后方;十字圓圈半靶和十字圓圈全靶均設置在具有復位功能的支架三上;
所述移動平臺控制器分別與移動平臺x軸y軸組合體、移動平臺z軸連接,所述控制計算機分別與采集相機和移動平臺控制器連接。
2.根據權利要求1所述的粒子場全息同軸和離軸再現光路系統,其特征在于:所述再現光源為單模連續激光器。
3.根據權利要求1所述的粒子場全息同軸和離軸再現光路系統,其特征在于:所述擴束鏡采用顯微物鏡。
4.根據權利要求1或2或3所述的粒子場全息同軸和離軸再現光路系統,其特征在于:所述準直鏡采用消像差透鏡。
5.根據權利要求4所述的粒子場全息同軸和離軸再現光路系統,其特征在于:所述成像物鏡采用消像差的小景深透鏡組。
6.根據權利要求5所述的粒子場全息同軸和離軸再現光路系統,其特征在于:所述采集相機采用高分辨、低噪聲的科學級CCD相機。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于西北核技術研究所,未經西北核技術研究所許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201721091715.8/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





