[實(shí)用新型]一種高精度旋轉(zhuǎn)平臺(tái)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201721086533.1
• 申請(qǐng)日: 2017-08-28
• 公開（公告）號(hào): CN207344163U
• 公開（公告）日: 2018-05-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 趙國滿
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 蘇州康鴻智能裝備股份有限公司
• 主分類號(hào): B23Q1/26
• 分類號(hào): B23Q1/26;B25H1/00
• 代理公司: 北京眾元弘策知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11462
• 代理人: 孫東風(fēng)

1.一種高精度旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，其特征在于，包括基臺(tái)、轉(zhuǎn)盤本體、轉(zhuǎn)臺(tái)、圓形凸軌、工作平臺(tái)；所述圓形凸軌為凸圈形結(jié)構(gòu)，安裝于所述基臺(tái)上；所述轉(zhuǎn)盤本體位于所述基臺(tái)上，所述轉(zhuǎn)盤本體由兩半圓形轉(zhuǎn)盤組成；兩所述半圓形轉(zhuǎn)盤之間設(shè)置有間隔縫隙，兩所述半圓形轉(zhuǎn)盤以所述間隔縫隙為中心對(duì)稱設(shè)置，形成圓形的所述轉(zhuǎn)盤本體；在所述半圓形轉(zhuǎn)盤下方固定安裝有多個(gè)滑塊；所述滑塊卡合設(shè)置于所述圓形凸軌上，環(huán)繞所述圓形凸軌轉(zhuǎn)動(dòng)；在所述半圓形轉(zhuǎn)盤上安裝有所述工作平臺(tái)；在所述轉(zhuǎn)盤本體下方設(shè)置有所述轉(zhuǎn)臺(tái)；所述轉(zhuǎn)臺(tái)為圓形，安裝于所述基臺(tái)上，位于所述圓形凸軌內(nèi)并與所述圓形凸軌同心設(shè)置；所述轉(zhuǎn)臺(tái)上設(shè)置有伺服電機(jī)，所述伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng)所述轉(zhuǎn)臺(tái)在所述基臺(tái)上自轉(zhuǎn)；在所述轉(zhuǎn)臺(tái)上設(shè)置有減震墊塊，所述減震墊塊位于所述轉(zhuǎn)臺(tái)和轉(zhuǎn)盤本體之間，所述轉(zhuǎn)盤本體與所述轉(zhuǎn)臺(tái)同步轉(zhuǎn)動(dòng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高精度旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，其特征在于，所述減震墊塊由聚氨酯材料制成，所述減震墊塊的厚度為3-6cm。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高精度旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，其特征在于，每個(gè)所述半圓形轉(zhuǎn)盤下方設(shè)置有3個(gè)滑塊。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的高精度旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，其特征在于，在所述工作平臺(tái)上設(shè)置有限位塊；所述工作平臺(tái)為長(zhǎng)方形；所述限位塊為四個(gè)，分別設(shè)置于所述工作平臺(tái)的四角處。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的高精度旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，其特征在于，在所述工作平臺(tái)相鄰兩邊的外側(cè)分別設(shè)置有X向定位機(jī)構(gòu)和Y向定位機(jī)構(gòu)；所述X向定位機(jī)構(gòu)包括X向安裝支架、X向氣缸、X向推塊；所述X向氣缸通過所述X向安裝支架安裝于所述基臺(tái)上，所述X向氣缸的輸出軸與所述X向推塊連接，驅(qū)動(dòng)所述X向推塊沿指向或背離所述工作平臺(tái)方向運(yùn)動(dòng)；所述Y向定位機(jī)構(gòu)包括Y向安裝支架、Y向氣缸、Y向推塊；所述Y向氣缸通過所述Y向安裝支架安裝于所述基臺(tái)上，所述Y向氣缸的輸出軸與所述Y向推塊連接，驅(qū)動(dòng)所述Y向推塊沿指向或背離所述工作平臺(tái)方向運(yùn)動(dòng)。